CN108618342B - 描绘装置、描绘方法以及记录介质 - Google Patents

描绘装置、描绘方法以及记录介质 Download PDF

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Abstract

本发明涉及描绘装置、描绘方法以及记录介质。一种描绘装置,其特征在于,该描绘装置具备处理器,所述处理器获取作为描绘对象的手或脚的指甲的区域的长宽比,在根据所述指甲的区域的长宽比改变美甲设计的长宽比来使所述美甲设计嵌合于所述指甲的区域的第1嵌合模式中,将所述美甲设计的长宽比的变化率设定为不超过对应于所述美甲设计的界限变化率的范围的值。

Description

描绘装置、描绘方法以及记录介质
技术领域
本发明涉及描绘装置、描绘方法以及记录介质。
背景技术
以往,已知一种在人的手指的指甲上描绘喜欢的美甲设计的描绘装置(将其称为“美甲打印装置”。)(例如,参照日本国特表2003-534083号公报)。
如果使用像这样的装置,可以不使用美甲沙龙等而容易地享受美甲打印。
为了在指甲上描绘美甲设计,需要识别指甲的形状,并对其嵌合美甲设计,例如采取一种方法,其将美甲设计压缩至适合与指甲的外周接触的矩形的外接框的尺寸。
如果美甲设计原本的长宽比和指甲的长宽比大致相同,则可以大致按照预想地使美甲设计嵌合指甲。
然而,指甲的形状形形色色,当与美甲设计的原本的长宽比相比,形状是纵向的长度相对于指甲的横向的长度更长时,如果将美甲设计嵌合指甲,则设计在整体上被纵向拉伸,变得不自然。
另外,相反地,当与美甲设计的原本的长宽比相比,形状是横向的长度相对于指甲的纵向的长度更长时,设计呈整体被横向压缩的状态,将形成与原本的美甲设计不同的印象。
作为将美甲设计嵌合指甲的方法,除此之外,还考虑不改变美甲设计的原本的长宽比来嵌合指甲。
但是,对于该方法,当指甲是纵向或者横向极短的形状时,美甲设计会在指甲的长度短的一侧大量超出,从而设计整体可能无法适当地容纳在指甲上。
发明内容
本发明是鉴于以上情况而完成的,并提供具有能够尽量按照预想地将美甲设计嵌合描绘在指甲上的优点的描绘装置以及描绘方法。
一种描绘装置,其特征在于,该描绘装置具备处理器,所述处理器获取作为描绘对象的手或脚的指甲的区域的长宽比,在根据所述指甲的区域的长宽比改变美甲设计的长宽比来使所述美甲设计嵌合于所述指甲的区域的第1嵌合模式中,将所述美甲设计的长宽比的变化率设定为不超过对应于所述美甲设计的界限变化率的范围的值。
一种描绘方法,其特征在于,所述描绘方法包括以下步骤:指甲区域取得步骤,其获取作为描绘对象的手或脚的指甲的区域的长宽比;以及设计嵌合步骤,其在根据所述指甲的区域的长宽比改变美甲设计的长宽比来使所述美甲设计嵌合于所述指甲的区域的第1嵌合模式中,将所述美甲设计的所述长宽比的变化率设为不超过针对所述美甲设计所设定的界限变化率的范围的值。
一种可读取的记录介质,其记录了描绘装置用的程序,其特征在于,所述描绘装置用的程序用于使所述描绘装置的处理器执行以下处理:获取作为描绘对象的手或脚的指甲的区域的长宽比的处理;以及在根据所述指甲的区域的长宽比改变美甲设计的长宽比来使所述美甲设计嵌合于所述指甲的区域的第1嵌合模式中,将所述美甲设计的长宽比的变化率设定为不超过与所述美甲设计相对应的界限变化率的范围的值的处理。
附图说明
图1的图1A是本实施方式中的描绘装置的正面图,图1B是表示图1A示出的描绘装置的内部结构的侧面图。
图2是表示本实施方式所涉及的描绘装置的控制结构的主要部分的框图。
图3是表示美甲设计的一个例子的俯视图。
图4是表示指甲的一个例子的俯视图。
图5是表示本实施方式中的嵌合处理的流程图。
图6的图6A~图6C是示意性地表示图5的嵌合处理的说明图。
图7是表示本实施方式中的嵌合处理的流程图。
图8的图8A~图8C是示意性地表示图7的嵌合处理的说明图。
具体实施方式
一边参照图1到图8A~图8C,一边针对本发明所涉及的美甲打印装置(描绘装置)以及美甲打印装置(描绘装置)的描绘方法的一实施方式进行说明。
此外,在以下所述的实施方式中,虽然带有为了实施本发明的技术上优选的各种限定,但是本发明的范围并不限定于以下的实施方式以及图示例。
另外,在以下的实施方式中,对美甲打印装置1作为以手指的指甲的表面作为描绘对象面,并对其进行描绘的装置进行说明,但是本发明的描绘对象面并不限定于手指的指甲的表面,例如,也可以将脚趾的指甲的表面作为描绘对象面。
图1A是表示美甲打印装置的内部结构的美甲打印装置的正面图,图1B是表示图1A示出的美甲打印装置的内部结构的侧面图。
如图1A以及图1B所示,本实施方式中的美甲打印装置1是描绘部40具备作为描绘工具的描绘头41,并通过喷墨方式在印刷指U1的指甲T上实施描绘的描绘装置。
该美甲打印装置1具备壳体主体2和收纳在该壳体主体2内的装置主体10。
在壳体主体2的侧面上部的一端,设置有为了交换后述的描绘部40的描绘头41而可开闭地构成的盖部23。盖部23例如经由折叶等如图1所示从闭合状态至打开状态旋转自如。
在壳体主体2的上表面(顶板)设置有操作部25(参照图2)。
操作部25是用户进行各种输入的输入部。
在操作部25中,例如配置有接通美甲打印装置1的电源的电源开关按钮、使动作停止的停止开关按钮、选择在指甲T上描绘的设计图像的设计选择按钮、指示描绘开始的描绘开始按钮等、用于进行各种输入的未图示的操作按钮。
另外,在壳体主体2的上表面(天板)的大致中央部设置有显示部26。显示部26例如由液晶显示器(LCD:Liquid Crystal Display)、有机电致发光显示器其他的平面显示器等构成。
在本实施方式中,在该显示部26中,例如适当地显示拍摄印刷指U1所得到的指甲图像(包含指甲T的图像的印刷指U1的图像)、包含在该指甲图像中的指甲T的轮廓等的图像、用于选择应当绘制在指甲T上的设计图像的设计选择画面、设计确认用的缩略美甲图像、显示各种指示的指示画面等。
此外,在显示部26的表面一体构成用于进行各种输入的触摸屏。
装置主体10大致形成为箱状,并具备设置在壳体主体2的内部下方的下部壳体11和位于该下部壳体11的上方且设置在壳体主体2的内部上方的上壳体12。
首先,针对下部壳体11进行说明。
下部壳体11具有:背板111、底板112、左右一对的侧板113a、113b、X方向移动台收纳部114、Y方向移动台收纳部115以及隔板116。
侧板113a、113b的下端部分别连结底板112的左右两端部,并被设置为侧板113a、113b相对于底板112直立的状态。
背板111的下部形成为朝向前方(手指插入方向近前侧)下沉为2层。背板111的下端部连结到底板112的前端部,背板111呈前后分隔由底板112和侧板113a、113b包围的区域。
在该下沉的背板111的后侧形成的空间成为X方向移动台收纳部114、Y方向移动台收纳部115(参照图1B)。在X方向移动台收纳部114内,描绘部40在向前方(手指插入方向近前侧)移动时收纳描绘部40的X方向移动台45。另外,在Y方向移动台收纳部115内配置有描绘部40的Y方向移动台47。
另外,隔板116以上下分隔下部壳体11的内部前方侧的空间(由背板111、底板112以及侧板113a、113b所包围的手指插入方向近前侧的空间)的方式被设置在下部壳体11的内侧。隔板116被设置为大致水平,隔板116的左右两端部分别连结到侧板113a、113b,隔板116的后端部连结到背板111。
在该下部壳体11中,集成地设置手指固定部30(参照图1B)。
手指固定部30由接受与实施描绘的指甲T相对应的手指(以下,将其称为“印刷指U1”。)的手指接受部31、保护该印刷指U1以外的手指(以下,将其称为“非印刷指U2”。)的手指保护部32构成。
手指接受部31被配置于隔板116的上侧且在下部壳体11的宽度方向的大致中央处。另外,通过隔板116在下部壳体11的下侧分隔出的空间构成手指保护部32。
例如,当在无名指的指甲T上实施描绘时,将作为印刷指U1的无名指插入手指接受部31,将作为非印刷指U2的其他的4指(拇指、食指、中指、小指)插入手指保护部32。
如图1A以及图1B所示,手指接受部31在下部壳体11的前面侧(印刷手指插入方向的近前侧)开口,下侧被构成隔板116的一部分的手指载置部116a分隔。手指载置部116a用于在XY平面上载置实施描绘的指甲T的手指(印刷指U1)。
另外,在手指接受部31的上侧,形成有用于露出插入手指接受部31中的印刷指U1的指甲T的、未图示的窗口部。
另外,在隔板116的上表面且下部壳体11的前面侧的两侧部,垂直设置阻挡下部壳体11的前面侧的前壁31f(参照图1A)。另外,在隔板116的上表面,从前壁31f的靠近中央部的端部向着所述手指接受部31变窄,并垂直设置有将印刷指U1引导至手指接受部31内的一对引导壁31g(参照图1A)。
用户可以在插入至手指接受部31的印刷指U1与插入至手指保护部32的非印刷指U2之间夹住隔板116。因此,将稳定地固定插入至手指接受部31内的印刷指U1。
在下部壳体11的上表面且手指接受部31的旁边(在本实施方式中,在图1A的右侧),在后述的描绘头41的可移动范围内,设置有在非描绘时,描绘头41进行待机的归属区域60。
在归属区域60中,例如与非描绘时配置描绘头41的位置相对应地设置有喷墨维护部,所述喷墨维护部由用于清洁后述的描绘头41的喷墨部(喷嘴面)的清洁机构或用于保持喷墨部(喷嘴面)的保湿状态的盖机构等(都未图示)构成。
此外,归属区域内的喷墨维护部等的配置并不限定于在此例示出的配置。
描绘部40构成为具备:描绘头41、支承描绘头41的单元支承部件44、用于使描绘头41向X方向(图1A中的X方向、描绘装置1的左右方向)移动的X方向移动台45、X方向移动电动机46、用于使描绘头41向Y方向(图1B中的Y方向、描绘装置1的前后方向)移动的Y方向移动台47、Y方向移动电动机48等。
在本实施方式中,描绘头41由头部固定器43固定并设置在单元支承部件44上。
描绘头41例如是墨盒一体型的头,其被对与黄色(Y;YELLOW)、品红色(M;MAGENTA)、青色(C;CYAN)的墨水相对应的未图示的墨盒以及被设置在与各墨盒的描绘对象(指甲T)相对的面(在本实施方式中,图1A等中的下面)上的未图示的喷墨部进行一体形成。喷墨部具备由喷射各种颜色的墨水的多个喷嘴组成的喷嘴阵列,描绘头41将墨水微滴,并直接从喷墨部对描绘对象(指甲T)的被描绘面喷涂墨水来进行描绘。
此外,描绘头41并不限定于喷射上述3个颜色的墨水。可以具备储存其他墨水的墨盒以及喷墨部。
另外,单元支承部件44被固定于安装在X方向移动台45的X方向移动部451中。X方向移动部451通过X方向移动电动机46的驱动在X方向移动台45上沿着未图示的引导件向X方向移动,由此,安装在单元支承部件44上的描绘头41向X方向(图1A中的X方向、美甲打印装置1的左右方向)移动。
另外,X方向移动台45被固定在Y方向移动台47的Y方向移动部471。Y方向移动部471通过Y方向移动电动机48的驱动在Y方向移动台47上沿着未图示的引导件向Y方向移动,由此,安装在单元支承部件44上的描绘头41向Y方向(图1B中的Y方向、美甲打印装置1的前后方向)移动。
此外,在本实施方式中,通过组合X方向移动电动机46、Y方向移动电动机48、以及未图示的滚珠丝杠和引导件来构成X方向移动台45以及Y方向移动台47。
在本实施方式中,构成作为通过X方向移动电动机46以及Y方向移动电动机48等使描绘头41向X方向以及Y方向驱动的XY驱动部的头部移动部49。
将描绘部40中的描绘头41、X方向移动电动机46、Y方向移动电动机48连接到后述的控制装置80的处理器81(参照图2),并通过由该处理器81进行的描绘控制来进行控制。
另外,摄像部50具备拍摄装置51和照明装置52。
该摄像部50通过照明装置52来照明插入到手指接受部31内并从窗口部可见的指甲T(包含指甲T的印刷指U1)。然后,通过拍摄装置51来拍摄该印刷指U1,并获得作为印刷指U1的图像的指甲图像(包含指甲T的指甲图像的手指的图像)。
如图1A以及图1B所示,在本实施方式中,在上壳体12中设置拍摄装置51以及照明装置52。
即,基板13被设置在上壳体12中,在该基板13的下面与隔板116相对地设置有构成摄像部50的拍摄装置51以及照明装置52。
此外,安装在基板13上的拍摄装置51以及照明装置52的位置并不限定于图示的例子。
拍摄装置51例如是具备具有大约200万像素左右以上的像素的固态拍摄元件与镜头等而构成的小型拍摄装置。
在本实施方式中,通过摄像部50的拍摄装置51,拍摄包含指甲T的印刷指U1来取得指甲图像。
后述的指甲信息检测使用该指甲图像来检测印刷指U1以及作为描绘对象的指甲T的位置或形状(指甲T的轮廓)、指甲T的长宽比等。
照明装置52例如是白色LED等的照明装置。
在本实施方式中,以在拍摄装置51的两侧、近前侧以及里侧包围拍摄装置51的方式配置4个照明装置52。照明装置52向着下方照射光,来照明拍摄装置51的下方的摄像范围。
此外,设置照明装置52的数量、其配置等并不限定于图示的例子。
该摄像部50连接到后述的控制装置80的处理器81(参照图2),并由该处理器81控制。
此外,通过摄像部50所拍摄出的图像(即,指甲图像)的图像数据被存储在后述的存储部82的指甲图像存储区域821中。
控制装置80例如被设置于配置在上壳体12中的基板13等。
图2是表示本实施方式中的控制结构的主要部分的框图。
如图2所示,控制装置80是具备由处理器81、ROM(Read Only Memory:只读存储器)以及RAM(Random Access Memory:随机存取存储器)等(都未图示)构成的存储部82的计算机。
在存储部82中,存储有用于使美甲打印装置1进行动作的各种程序、各种数据等。
具体而言,在存储部82的ROM中,存储:用于进行印刷指U1的位置或形状(轮廓)、指甲T的位置或形状(轮廓)、指甲T的长宽比等的检测的指甲信息检测程序;用于将美甲设计D嵌合到指甲T中的设计嵌合程序;用于生成描绘数据的描绘数据生成程序;以及用于进行描绘处理的描绘程序等各种程序,通过控制装置80执行这些程序,由此综合控制美甲打印装置1的各部。
另外,在本实施方式中,在存储部82中,设置:存储通过摄像部50所取得的用户的印刷指U1的指甲T的指甲图像的指甲图像存储区域821;存储通过指甲信息检测所检测出的指甲信息(印刷指U1轮廓或指甲T的轮廓、指甲T的长宽比等)的指甲信息存储区域822;以及存储在作为描绘对象的指甲T上绘制的美甲设计D的图像数据(也简单称其为“设计数据”。)的美甲设计存储区域823。
存储在美甲设计存储区域823中的设计数据,例如是在假设与具有一般的/平均的形状(长宽比)的指甲(将其设为“模型指甲MT”。参照图3)的外周接触的矩形形状的外接边框(在图3中使用实线表示的边框),并将该外接边框的横向(即,指甲宽度方向)的长度设为横向长度wd,将纵向(即,与指甲宽度方向正交的模型指甲MT的延伸方向)的长度设为纵向长度hd(都参照图3)时,被设定为具有与纵向长度hd/横向长度wd相同的长宽比的美甲设计D的图像数据。在设计数据中,附带美甲设计D的纵向长度hd、横向长度wd、长宽比(hd/wd)的信息。
此外,当假设所有的设计数据相同的模型指甲MT并进行准备时,只要对美甲设计D的纵向长度hd、横向长度wd或长宽比(hd/wd)的信息存储一个默认值即可,不需要在各个设计数据中附带这些信息。
另外,在本实施方式中,在设计数据中,预先设定了界限变化率(在后述的图5以及图7中是“界限压缩率α”),其分别规定可以使该美甲设计D的纵向以及横向分别发生变化的界限,并以附带着该界限变化率的信息的状态来存储各设计数据。
界限变化率用于表示在纵向或横向压缩或者伸长该美甲设计D时,不会改变设计整体的印象或者不会破坏平衡的界限。在预先决定难以识别形状变化的界限变化率,并改变美甲设计D的形状(即、向单一方向的压缩、伸长)时,通过不超过该界限变化率地进行变化,可以将按照用户预想的设计形状适当地反映在指甲T中。
界限变化率按各美甲设计D有所不同,如果即使压缩或者伸长纵向或者横向的某一个方向也很难改变设计整体的印象,则界限变化率被设定地较高。反之,如果即使稍稍压缩或者伸长美甲设计D的纵向或者横向的某一个方向,也会极大地改变印象,破坏整体的平衡的话,则界限变化率较低,根据设计甚至为接近零。
例如,如果是如法式美甲那样,仅在指甲尖加入线条的设计、整体仅为多色阶的设计等,则即使压缩或者伸长纵向或者横向的某一个方向也很难改变设计整体的印象。因此,针对像这样的美甲设计D,较高地设定界限变化率,例如,在可以压缩到原本的状态的70%的情况下,界限变化率为70%。
另外,例如,如果是设计了人物的脸等的话,则一旦压缩或者伸长纵向或者横向的某一个方向,容易使设计整体的印象发生变化,也容易破坏整体的平衡。因此,针对像这样的美甲设计D,较低地设定界限变化率,例如,当如果压缩95%以上则会改变印象时,那么界限变化率为95%。
此外,可以默认地决定界限变化率,也可以由用户等进行设定或修正。另外,还可以按各个美甲设计D来设定界限变化率,例如,可以根据压缩伸长所造成的容易导致印象变化的程度等,来将美甲设计D分为几个组,并按各组来设定界限变化率。
另外,针对1个美甲设计D的界限变化率,可以分别具有纵向的界限变化率与横向的界限变化率,也可以共享一个值。
当在纵向与横向具有不同的界限变化率时,例如,对于即使在纵向进行压缩或者伸长,印象也基本不变,但是在横向进行压缩或者伸长则会较大地改变印象的设计的情况,较高地设定纵向的界限变化率,较低地设定横向的界限变化率。
控制部81在功能上,具备:摄像控制、指甲信息检测、设计嵌合、描绘数据生成、描绘控制、显示控制等功能。通过控制部81的CPU与存储在存储部82的ROM中的程序进行协作来实现作为这些摄像控制、指甲信息检测、设计嵌合、描绘数据生成、描绘控制、显示控制等功能。
由处理器81进行的摄像控制是控制摄像部50的拍摄装置51以及照明装置52并通过拍摄装置51拍摄插入手指接受部31中的印刷指U1的图像(包含指甲T的图像的印刷指U1的图像,以下称为“指甲图像”。)。
通过摄像部50所取得的指甲图像的图像数据被存储在存储部82的指甲图像存储区域821中。
由处理器81进行的指甲信息检测是从包含由摄像部50的拍摄装置51所取得的指甲T的印刷指U1的图像的指甲图像中,检测描画印刷指U1的区域的手指的轮廓、描画作为描绘对象的指甲T的区域的指甲T的轮廓(指甲形状)、指甲T的长宽比等。
在这里,指甲T的长宽比是指,例如在假设出与指甲T的外周接触的矩形形状的外接边框(在图4中使用虚线表示的边框)时,将该外接边框的指甲宽度方向的长度设为横向长度w,将与指甲宽度方向正交的指甲T的延伸方向的长度设为纵向长度h(都参照图4),该横向长度w与纵向长度h的比率(h/w)。
指甲信息的检测方法例如是将印刷指U1或指甲T与背景(在本实施方式中,手指载置部116a)的色差检测为印刷指U1或指甲T的形状(轮廓)。另外,根据指甲T与印刷指U1的色差或覆盖阴影的方式等来检测指甲T与印刷指U1的皮肤的分界,并取得指甲T的形状(轮廓)。此外,指甲信息的检测方法并不限定于在这里示例出的方法,可以使用各种方法。
此外,以下,针对处理器81从通过摄像部50所取得的指甲图像中将印刷指U1或指甲T的轮廓、指甲T的长宽比等检测为指甲信息的情况进行说明,但是从指甲图像中检测出的指甲信息并不限定于此,例如也可以根据指甲图像来检测指甲T的曲率等。
设计嵌合用于使描绘在指甲T上的美甲设计D的设计数据变形,以使美甲设计D嵌合到指甲T中。
在本实施方式中,处理器81具有第1嵌合模式与第2嵌合模式作为嵌合的方法,所述第1嵌合模式以根据指甲T的长宽比来改变美甲设计D的长宽比的方式来压缩或者伸长设计数据的纵向或者横向,所述第2嵌合模式不改变美甲设计D的长宽比地伸长或者压缩设计数据。
处理器81并用该第1嵌合模式与第2嵌合模式,使描绘在指甲T上的美甲设计D的设计数据变形并将美甲设计D嵌合到指甲T中。
此外,在本实施方式中,如上所述,按各美甲设计D设定界限变化率,处理器81在不超过该界限变化率的范围内压缩或者伸长设计数据D。
在本实施方式中,假设设计数据的纵向长度hd、横向长度wd大于典型的指甲T的纵向长度h、横向长度w的情况,处理器81在使设计数据变形以使美甲设计D嵌合到指甲T上时,假设压缩设计数据来进行嵌合的情况,界限变化率是即使压缩设计数据也不会使美甲设计D的印象发生较大变化的界限即界限压缩率。
此外,当设计数据的纵向长度hd、横向长度wd小于一般的指甲T的纵向长度h、横向长度w时,处理器81通过伸长设计数据使美甲设计D嵌合到指甲T上。在这种情况下,界限变化率是即使伸长设计数据也不会使美甲设计D的印象发生较大变化的界限即界限伸长率。
作为由处理器81进行的嵌合,存在以下方法:首先在进行了基于第2嵌合模式的嵌合之后,通过第1嵌合模式添加修正的方法;以及首先在进行了基于第1嵌合模式的嵌合之后,通过第2嵌合模式添加修正的方法。
以任一个方法来进行嵌合都可以被默认设定,也可以由用户进行选择。另外还可以由处理器81从基于通过处理器81进行的指甲信息检测的检测结果中,判断优先进行哪个方法。
此外,针对各方法的细节会在后面进行描述。
通过处理器81进行的描绘数据生成是根据由处理器81进行的嵌合的结果,生成由描绘头41对印刷指U1的指甲T实施的描绘用的数据。
在本实施方式中,由处理器81进行的描绘数据生成是对以符合指甲T的方式伸长或者压缩的设计数据进行适当地曲面校正等,并生成由描绘头41描绘的美甲设计D的描绘用的图像数据。
由处理器81进行的描绘控制是根据由描绘数据生成所生成出的描绘数据向描绘部40输出控制信号,并控制描绘部40的X方向移动电动机46、Y方向移动电动机48、描绘头41等,以便针对指甲T实施符合该描绘数据的描绘的控制部。
由处理器81进行的显示控制是用于控制显示部26并在显示部26中显示各种显示画面。在本实施方式中,由处理器81进行的显示控制是例如在显示部26上显示美甲设计D的选择画面或设计确认用的缩略美甲图像、嵌合了美甲设计D的指甲T的预想图像、拍摄印刷指U1所取得的指甲图像、各种指示画面、操作画面等。
接下来,一边参照图3~图8,一边针对基于本实施方式中的美甲打印装置1的描绘方法进行说明。
图3是美甲设计D的一个例子,图4是作为描绘对象的用户的指甲T的一个例子。
如图3所示,美甲设计D被设定为具有与接触模型指甲MT的外周的矩形形状的外接边框(在图3中使用实线表示的边框)的纵向长度hd/横向长度wd相同的长宽比。在图3中,将美甲设计D的中心表示为中心点Dc。
另外,图4所示的指甲T比图3所示的模型指甲MT宽,在图4中,将与指甲T的外周接触的矩形形状的外接边框(在图4中使用虚线表示的边框)的纵向长度h、横向长度w作为指甲T的纵向长度h、横向长度w。在图4中,将指甲T的中心表示为中心点Tc。
图5是表示通过首先在进行了基于第2嵌合模式的嵌合之后利用第1嵌合模式添加修正的方法,将图3所示的美甲设计D嵌合到图4所示的指甲T中的处理的流程图,图6A~图6C是示意性地表示处理的流程的说明图。
在进行基于第2嵌合模式的嵌合时,首先,处理器81控制摄像部50,一边通过照明装置52照明印刷指U1,一边通过拍摄装置51拍摄印刷指U1。由此,处理器81取得图4所示的指甲T的指甲图像(步骤S1)。如果获取到指甲图像,则通过由处理器81进行的指甲信息检测来检测指甲T的形状(指甲轮廓)等(步骤S2),处理器81根据该指甲信息取得指甲T的纵向长度h、横向长度w或指甲T的长宽比(h/w)的信息(步骤S3)。进而,处理器81从美甲设计存储区域823中取得美甲设计D的长宽比(hd/wd)(步骤S4)。
然后,在第2嵌合模式中,不改变美甲设计D的长宽比地逐渐伸长或者压缩美甲设计D的设计数据,直到美甲设计D的纵向长度hd或者横向长度wd的至少一个与指甲T的纵向长度h或者横向长度w一致。具体而言,如图6A所示,使美甲设计D和指甲T在美甲设计D的中心点Dc与指甲T的中心点Tc重合的位置嵌合(步骤S5)。
在本实施方式中,由于图4所示的指甲T是横向长度w比纵向长度h更长的横长形状,因此如果不改变美甲设计D的长宽比地使设计数据变形(在本实施方式中是压缩)的话,则美甲设计d的两侧端部先成为与指甲T的两侧端部相对应的状态。
如果将美甲设计D压缩至此状态,则如图6B所示,就变化后的美甲设计D1而言,横向的长度wd1与指甲T的横向宽度w相同,纵向的长度hd1变成比指甲T的纵向长度h更长的形状,成为美甲设计D1的上下部分超出指甲T的上下方向的状态。
如果使美甲设计D的纵向长度hd或者横向长度wd的至少某一个变化为(在本实施方式中是压缩)与指甲T的纵向长度h或者横向长度w相对应的设计数据,则结束基于第2嵌合模式的嵌合。
这样,如果结束基于第2嵌合模式的嵌合,则接下来,处理器81通过第1嵌合模式,在不超过该美甲设计D的界限变化率的范围内压缩或者伸长设计数据,以使与指甲T的纵向的长度h或者横向的长度w不对应的美甲设计D的纵向的长度hd或者横向的长度wd与指甲T对应。
具体而言,处理器81首先判断指甲T的长宽比(h/w)是否大于美甲设计D的长宽比(hd/wd)(步骤S6)。
在本实施方式中,指甲T的长宽比(h/w)小于美甲设计D的长宽比(hd/wd)(步骤S6;否)。
在这种情况下,处理器81求出针对界限变化率(在这里由于是进行压缩时的界限,因此是界限压缩率。在图5中将其记作“α”。)的界限设计高度ghd(步骤S7)。即,当以0~1之间的值来表示界限压缩率时,如图5的步骤S7所示,“ghd=hd×α”成立。这样处理器81通过将压缩设计数据之前的美甲设计D的纵向长度hd乘以表示允许压缩至何种程度的界限压缩率α,由此求出美甲设计D的纵向的长度的界限。
然后,处理器81在界限设计高度ghd的范围内,分阶段地压缩设计数据,以便尽量将美甲设计D控制在指甲T中。
即,首先,对嵌合的美甲设计D1(参照图6B)的高度hd1在不小于界限设计高度ghd的范围内分阶段地进行压缩。在本实施方式中,示出了每次以hd1与ghd的差的1/10作为1次的变化量δhd(δhd=(hd1-ghd)/10),并每次压缩该变化量δhd并进行再次嵌合的情况(步骤S8)。
此外,在界限设计高度ghd的范围内进行再次嵌合时的设计数据的压缩方法、压缩间隔并不限定于此。也可以以比hd1与ghd的差的1/10更小的压缩间隔来重复进行再次嵌合。另外,首先,也可以以比较大的压缩间隔进行再次嵌合,在进行了预定次数之后,切换为更小的压缩间隔进一步进行再次嵌合。在这种情况下,可以减少重复进行再次嵌合的次数,并且在界限值附近进行微调,从而可以尽量使用极其接近界限设计高度ghd的值来进行嵌合。另外,压缩设计数据时的变化量也可以不是长度,例如,还可以通过对设计数据每次压缩1个像素的方式来使设计数据变化。
处理器81始终判断压缩后的美甲设计D2的纵向长度hd2(参照图6C)是否大于界限设计高度ghd(步骤S9),当纵向长度hd2不大于(即小于等于界限)界限设计高度ghd时(步骤S9;否),在此结束嵌合。另一方面,当纵向长度hd2大于界限设计高度ghd时(步骤S9;是),处理器81进一步判断压缩后的美甲设计D2的纵向长度hd2(即hd1-δhd)是否小于或者等于指甲T的纵向长度h(步骤S10)。然后,当压缩后的美甲设计D2的纵向长度hd2(即hd1-δhd)小于或者等于指甲T的纵向长度h时(步骤S10;是),在此结束嵌合。另外,当压缩后的美甲设计D2的纵向长度hd2(即hd1-δhd)大于指甲T的纵向长度h时(步骤S10;否),返回步骤S8,并一边分阶段地压缩美甲设计D一边重复再次嵌合。
此外,当指甲T的长宽比(h/w)大于美甲设计D的长宽比(hd/wd)时(步骤S6;是),是指甲T比在美甲设计D中假设的模型指甲MT更加竖长的情况。
在这种情况下,处理器81求出针对界限变化率α的界限设计宽度gwd(步骤S11)。与上述指甲T的长宽比(h/w)小于美甲设计D的长宽比(hd/wd)的情况(步骤S6;否)同样地,当以0~1之间的值来表示界限压缩率时,如图5的步骤S11所示,“gwd=wd×α”成立。即,通过将压缩设计数据之前的美甲设计D的横向长度wd乘以表示允许压缩至何种程度的界限压缩率α,由此求出美甲设计D的横向的长度的界限。
然后,处理器81在界限设计宽度gwd的范围内,分阶段地压缩设计数据,以便尽可能地将美甲设计D纳入指甲T。
步骤S12~步骤S14所示的具体的嵌合处理的方法与针对美甲设计D的纵向的长度的嵌合的步骤S8~步骤S10所示出的处理相同,因此省略其说明。
以上,图7是表示首先在进行了基于第1嵌合模式的嵌合之后通过第2嵌合模式添加修正的方法,而由此将图3所示的美甲设计D嵌合到指甲T上的处理的流程图。另外,图8A~图8C是示意性地表示处理的流程的说明图。
此外,图7中的步骤S21~步骤S24与图5中的步骤S1~步骤S4相同,因此省略其说明。
在第1嵌合模式中,压缩或者伸长设计数据D,以便根据指甲T的长宽比(h/w)来改变美甲设计D的长宽比(hd/wd)。
具体而言,在使美甲设计D与指甲T嵌合时,如图8A以及图8B所示,以美甲设计D的长宽比(hd/wd)与指甲T的长宽比(h/w)为相同的方式进行嵌合(步骤S25)。
在本实施方式中,图8A~图8C所示的指甲T是纵向长度h比横向长度w长的竖长形状,因此如果压缩美甲设计D来配合指甲T的话,则嵌合后的美甲设计D3如图8B所示,横向的长度wd3与指甲T的横向宽度w相同,纵向的长度hd1也与指甲T的长宽h相同,成为与接触指甲T的外周的外接边框大致重合的状态。
这样,如果结束基于第1嵌合模式的嵌合,则接下来,当设计数据的压缩或者伸长后的美甲设计D3的纵向的长度hd3或者横向的长度wd3超过该美甲设计D的界限变化率α时,处理器81在不超过界限变化率α的范围内进行再次调整。
具体而言,处理器81首先判断指甲T的长宽比(h/w)是否大于美甲设计D的长宽比(hd/wd)(步骤S26)。
在本实施方式中,指甲T的长宽比(h/w)大于美甲设计D的长宽比(hd/wd)(步骤S26;是)。
在这种情况下,处理器81根据美甲设计D的界限变化率(在这里是进行压缩时的界限,因此是界限压缩率。将其在图7中设为“α”。),取得美甲设计D的纵向的长度hd与指甲T的纵向的长度h为相同时的界限设计宽度gwd(步骤S27)。
然后,处理器81判断指甲T的横向的长度w是否大于或者等于界限设计宽度gwd(步骤S28)。然后,当指甲T的横向的长度w大于或者等于界限设计宽度gwd时(步骤S28;是),当前的美甲设计D3(参照图8B)的横向的长度wd3收敛于界限变化率α的范围内,因此结束嵌合处理。
另一方面,当指甲T的横向的长度w小于界限设计宽度gwd时(步骤S28;否),当前的美甲设计D3(参照图8B)的横向的长度wd3超过界限变化率α的范围并呈过压缩的状态。因此,在这种情况下,如图8C所示,处理器81应用第2嵌合模式,将美甲设计D4的横向的长度wd4伸长至界限设计宽度gwd,并使美甲设计D4与指甲T在美甲设计D4的中心点Dc与指甲T的中心点Tc重合的位置再次嵌合(步骤S29)。
此外,当指甲T的长宽比(h/w)小于美甲设计D的长宽比(hd/wd)时(步骤S26;否),是指甲T比在美甲设计D中假设的模型指甲MT宽的情况。
在这种情况下,与上述指甲T的长宽比(h/w)大于美甲设计D的长宽比(hd/wd)的情况(步骤S26;是)相同,处理器81根据美甲设计D的界限变化率α取得美甲设计D的横向的长度wd与指甲T的横向的长度w为相同时的界限设计高度ghd(步骤S30)。
然后,当设计数据的压缩或者伸长后的美甲设计D3的纵向的长度hd3或者横向的长度wd3超过该美甲设计D的界限变化率α时,处理器81在不超过界限变化率α的范围内进行再次调整。
步骤S31以及步骤S32所示的具体的嵌合处理的方法与针对美甲设计D的横向的长度的嵌合的步骤S28以及步骤S29所示出的处理相同,因此省略其说明。
此外,对于是通过图5以及图6A~图6C示出的方法进行嵌合,还是通过图7以及图8A~图8C示出的方法进行嵌合,处理器81可以通过默认来决定优先进行哪一个,也可以由用户进行选择。另外,也可以在处理器81中根据指甲T与美甲设计D的长宽比等来判断使用哪个方法。
如果通过处理器81的设计嵌合完成将美甲设计D嵌合到指甲T,则通过在处理器81进行的描绘数据生成,根据该嵌合结果生成描绘用的数据,由处理器81进行的描绘控制基于由描绘数据生成所生成的描绘用的数据来控制描绘部40并将美甲设计D描绘在指甲T上。
此外,可以在显示部26等中显示基于设计嵌合的嵌合结果,并要求用户进行确认。
在这种情况下,用户可以直接承认嵌合结果,也可以通过从触摸屏等进行输入来进一步微调指甲T上的美甲设计D的纵向/横向的位置或大小等。另外,还可以准备操作按钮等,其可以取消用户调整过的内容,返回至基于设计嵌合的自动的嵌合结果的状态。由此,即使用户调整失误,也能够容易地返回至自动执行的嵌合状态。
另外,嵌合结果可以存储在存储部82等中。通过将嵌合结果与用户或指甲T的信息相关联地存储,由此在下次之后相同用户想要在指甲T上绘制相同美甲设计D时,通过读出存储的嵌合结果并进行应用,可以迅速地描绘符合指甲T的美甲设计D。
如上所述,根据本实施方式,对取得指甲T的长宽比并且压缩或者伸长设计数据以便根据指甲T的长宽比来改变美甲设计D的长宽比的第1嵌合模式、以及不改变美甲设计D的长宽比地伸长或者压缩设计数据的第2嵌合模式并用,使描绘在指甲T上的美甲设计D的设计数据变形,将美甲设计D嵌合于指甲T。因此,即使针对具有与标准的指甲不同的长宽比的指甲T(例如,极其竖长的指甲、横向宽度大的指甲等),也能够尽量不改变美甲设计D的印象地、在接近用户的预想的状态下进行描绘。
另外,在本实施方式的设计数据中,预先设定界限变化率α,其分别针对该美甲设计D的纵向以及横向中的每一个规定能够发生变化的界限。
因此,即使在为了使美甲设计D符合指甲T而在纵向或横向进行了压缩或者伸长时,也可以将这样的美甲设计D的形状变化限制在设计整体的印象不会发生变化或者不破坏平衡的范围内,并能够尽量将用户预想的设计适当地呈现在指甲T上。
另外,处理器81可以通过以下方法来进行嵌合:通过第2嵌合模式,伸长或者压缩设计数据,直到美甲设计的纵向的长度或者横向的长度中的至少某一个与指甲的纵向的长度或者横向的长度相匹配,接下来,通过第1嵌合模式,在不超过该美甲设计的界限变化率的范围内压缩或者伸长设计数据,以使与指甲的纵向的长度或者横向的长度不对应的美甲设计的纵向的长度或者横向的长度与指甲对应。
因此,可以最大限度地防止美甲设计发生较大变形或者改变印象,并将接近原本的美甲设计D的印象的设计描绘在指甲T上。
处理器81还可以通过以下方法来进行嵌合:通过第1嵌合模式,压缩或者伸长设计数据,直到美甲设计的纵向的长度或者横向的长度与指甲的纵向的长度或者横向的长度相对应,接下来,当设计数据的压缩或者伸长后的美甲设计的纵向的长度或者横向的长度超过该美甲设计的界限变化率时,在不超过界限变化率的范围内进行再次调整。
因此,例如,在指甲T的形状(长宽比)接近比较标准的指甲T的情况下等,当嵌入美甲设计D时,纵向的长度或者横向的长度都没有超过该美甲设计的界限变化率时,通过一次嵌合就可以完成对指甲T的嵌入处理,从而可以实现简单、迅速的嵌合。
此外,以上针对本发明的实施方式进行了说明,但是本发明并不限定于所涉及的实施方式,自不必说在不脱离其主旨的范围内可以进行各种变形。
例如,在本实施方式中,针对美甲设计D根据通用的模型指甲MT设定尺寸的情况进行了说明,但是美甲设计D并不限定于是基于通用的模型指甲MT的设计。
例如,除了基于标准的模型指甲MT的美甲设计D,还可以分别准备对应于竖长的指甲的美甲设计、对应于横长的指甲的美甲设计。
这种情况下,在根据从通过指甲信息检测所检测出的指甲信息中获取到的指甲T的长宽比,掌握到指甲T是竖长、横长的指甲时,作为描绘候补可以在显示部26等中优先显示符合该指甲的形状的美甲设计。
在这种情况下,也可以以最小限度完成嵌合中的美甲设计D的变形,并讯速地在指甲T上描绘更加符合用户的预想的美甲设计。
另外,虽然设为可以使用以下2种方法进行本实施方式的设计嵌合,即,首先在进行了基于第2嵌合模式的嵌合之后,通过第1嵌合模式添加修正的方法;以及与此相反,在进行了基于第1嵌合模式的嵌合之后,通过第2嵌合模式添加修正的方法,但是设计嵌合也可以仅执行它们中的任何一个。
无论使用任何一个方法都可以进行与各种形状的指甲T相对应的美甲设计D的嵌合。
另外,在本实施方式中,对在装置内的存储部82中存储美甲设计的图像数据的情况进行了例示,但是美甲设计的图像数据例如可以经由因特网等从外部装置取得。
另外,在本实施方式中,对描绘头41是喷墨方式的情况进行了例示及说明,但是描绘头并不限定于此,例如,描绘用的笔可以被笔架等保持。
进而,具备喷墨方式的描绘头与画笔等的描绘工具的双方,例如,可以是以如果是涂抹底色等的话则使用画笔,对于精细图案部分使用喷墨方式的描绘头的方式,根据要描绘的设计、用途等区分喷墨方式的描绘头与画笔等的描绘工具来进行描绘的装置。
以上,对本发明的几个实施方式进行了说明,但是本发明的范围并不限定于上述的实施方式,包括权利要求的范围所记载的发明的范围和与其等同的范围。
以下,附记最初添加在本申请的申请书中的、记载在权利要求的范围中的发明。
附记中所记载的权利要求的编号与最初添加在本申请的申请书的权利要求的范围相同。

Claims (8)

1.一种描绘装置,其特征在于,该描绘装置具备处理器,
所述处理器获取作为描绘对象的手或脚的指甲的区域的长宽比,
在根据所述指甲的区域的长宽比改变美甲设计的长宽比来使所述美甲设计嵌合于所述指甲的区域的第1嵌合模式中,将所述美甲设计的长宽比的变化率设定为不超过对应于所述美甲设计的界限变化率的范围的值,
所述处理器在所述第1嵌合模式中,在以使所述美甲设计的纵向的长度与所述指甲的区域的纵向的长度一致,且使所述美甲设计的横向的长度与所述指甲的区域的横向的长度一致的方式进行变形之后,以使所述变化率成为不超过所述界限变化率的范围的值的方式,对所述美甲设计的纵向以及横向中的一个方向进行压缩或者伸长。
2.一种描绘装置,其特征在于,该描绘装置具备处理器,
所述处理器获取作为描绘对象的手或脚的指甲的区域的长宽比,
在根据所述指甲的区域的长宽比改变美甲设计的长宽比来使所述美甲设计嵌合于所述指甲的区域的第1嵌合模式中,将所述美甲设计的长宽比的变化率设定为不超过对应于所述美甲设计的界限变化率的范围的值,
所述美甲设计根据由压缩伸长引起的所述美甲设计整体给用户的印象变化的程度被分为多组,并按各组设定所述界限变化率。
3.根据权利要求2所述的描绘装置,其特征在于,
所述处理器在通过不改变所述美甲设计的长宽比地使所述美甲设计的大小变化的第2嵌合模式,根据所述指甲的区域的长宽比,使所述美甲设计变形,以使所述美甲设计的纵向以及横向中的一个方向的长度与所述指甲的区域的纵向以及横向中的所述一个方向的长度一致之后,
通过所述第1嵌合模式,以所述变化率不超过所述界限变化率的范围的值来对所述美甲设计的纵向以及横向中的另一个方向进行压缩或者伸长。
4.根据权利要求2所述的描绘装置,其特征在于,
所述描绘装置还具备:存储部,其在附带界限变化率的信息的状态下存储所述美甲设计,
所述处理器在所述第1嵌合模式中,将所述美甲设计的长宽比的变化率设定为不超过与存储在所述存储部中的所述美甲设计相对应的界限变化率的范围的值。
5.一种描绘方法,其特征在于,
所述描绘方法包括以下步骤:
指甲区域取得步骤,其获取作为描绘对象的手或脚的指甲的区域的长宽比;以及
设计嵌合步骤,其在根据所述指甲的区域的长宽比改变美甲设计的长宽比来使所述美甲设计嵌合于所述指甲的区域的第1嵌合模式中,将所述美甲设计的所述长宽比的变化率设为不超过针对所述美甲设计所设定的界限变化率的范围的值,
所述美甲设计根据由压缩伸长引起的所述美甲设计整体给用户的印象变化的程度被分为多组,并按各组设定所述界限变化率。
6.根据权利要求5所述的描绘方法,其特征在于,
所述设计嵌合步骤包括以下步骤:
第1变形步骤,其在所述第1嵌合模式中,使所述美甲设计发生变化,以使所述美甲设计的长宽比符合所述指甲的长宽比,并以使所述美甲设计的纵向的长度与所述指甲的区域的纵向的长度一致且使所述美甲设计的横向的长度与所述指甲的区域的横向的长度一致的方式进行变形;以及
第2变形步骤,其在执行了所述第1变形步骤之后,以使所述变化率成为不超过所述界限变化率的范围的值的方式,对所述美甲设计的纵向以及横向中的一个方向进行压缩或者伸长。
7.根据权利要求5所述的描绘方法,其特征在于,
所述设计嵌合步骤中的所述嵌合具有第2嵌合模式,其不改变所述美甲设计的长宽比地使所述美甲设计的大小变形,
所述设计嵌合步骤包括以下步骤:
第3变形步骤,其通过所述第2嵌合模式,根据所述指甲的区域的长宽比,以使所述美甲设计的纵向以及横向中的一个方向的长度与所述指甲的区域的纵向以及横向中的所述一个方向的长度一致的方式来改变所述美甲设计;以及
第4变形步骤,其在执行了所述第3变形步骤之后,通过所述第1嵌合模式,以所述变化率不超过所述界限变化率的范围的值来对所述美甲设计的纵向以及横向中的另一个方向进行压缩或者伸长。
8.一种可读取的记录介质,其记录了描绘装置用的程序,其特征在于,
所述描绘装置用的程序用于使所述描绘装置的处理器执行以下处理:
获取作为描绘对象的手或脚的指甲的区域的长宽比的处理;以及
在根据所述指甲的区域的长宽比改变美甲设计的长宽比来使所述美甲设计嵌合于所述指甲的区域的第1嵌合模式中,将所述美甲设计的长宽比的变化率设定为不超过与所述美甲设计相对应的界限变化率的范围的值的处理,
所述美甲设计根据由压缩伸长引起的所述美甲设计整体给用户的印象变化的程度被分为多组,并按各组设定所述界限变化率。
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