CN108603948A - 罩构件、照相机及罩构件的制造方法 - Google Patents

罩构件、照相机及罩构件的制造方法 Download PDF

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Abstract

罩构件(10)是照相机用的罩构件(10)，其具备基材(40)和形成于基材(40)上的层叠薄膜层(50)。基材(40)由树脂构成。层叠薄膜层(50)具有由硅氧烷系丙烯酸树脂、含有二氧化硅的丙烯酸树脂或硅烷系丙烯酸树脂构成的密合层(51)、由硅烷系丙烯酸树脂构成的亲水层(53)、及用于将密合层(51)与亲水层(53)粘结的粘合剂即由树脂构成的中间层(52)。并且，密合层(51)、中间层(52)及亲水层(53)中密合层(51)被配置于最靠近基材(40)的位置。

Description

罩构件、照相机及罩构件的制造方法
技术领域
本公开涉及罩构件、具备该罩构件的照相机、及该罩构件的制造方法。
背景技术
专利文献1公开了一种罩构件，其包含具有透光性的基板、防反射层、防水防污层、及防透光层。通过涂敷防水防污层，成为使水滴和污渍掉落的构成。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2008―44133号公报
发明内容
发明所要解决的课题
本公开提供与以往相比视觉辨认性、防污性及耐久性提高的罩构件、具备该罩构件的照相机、及该罩构件的制造方法。
用于解决课题的手段
为了达成上述目的，本公开的一个方案的罩构件具备基材、和形成于上述基材上的层叠薄膜层，上述基材由聚碳酸酯或丙烯酸树脂构成，上述层叠薄膜层具有由硅氧烷系丙烯酸聚合物涂料构成的密合层、由以硅烷系丙烯酸聚合物作为主要成分的水系涂料构成的亲水层、及用于将上述密合层与上述亲水层粘结的粘合剂即由树脂涂料构成的中间层，上述密合层、上述中间层及上述亲水层被依次层叠于上述基材上。
另外，本公开的一个方案的照相机具备上述记载的罩构件和摄像器件。
另外，本公开的一个方案的罩构件的制造方法是照相机用的罩构件的制造方法，通过在基材上涂布硅氧烷系丙烯酸涂料、含有二氧化硅的丙烯酸涂料、或硅烷系丙烯酸涂料而形成密合层，通过在上述密合层上涂布作为粘合剂的树脂涂料而形成中间层，通过在上述中间层上涂布以硅烷系丙烯酸作为主要成分的水系涂料而形成亲水层。
发明效果
根据本公开，罩构件的视觉辨认性、防污性及耐久性提高。
附图说明
图1是具备实施方式的罩构件的监控照相机的立体图。
图2是实施方式的罩构件的剖视图。
图3A是用于说明实施方式的罩构件的视觉辨认性的图。
图3B是用于说明比较例1的罩构件的视觉辨认性的图。
图3C是将实施方式的监控照相机的图像的视觉辨认性进行比较的图。
图4A是用于说明实施方式的罩构件的防污性的图。
图4B是用于说明比较例2的罩构件的防污性的图。
图4C是将实施方式的监控照相机的图像的防污性进行比较的图。
图5是顶部的膜厚比底部的膜厚更厚的情况的实施方式的罩构件的剖视图。
图6是底部的膜厚比顶部的膜厚更厚的情况的实施方式的罩构件的剖视图。
图7是表示对于罩构件的各种试验结果的图。
具体实施方式
以下，适当参照附图对实施方式进行详细说明。但是，有时省略必要以上的详细的说明。例如，有时省略对于已经熟知的事项的详细说明和实质上相同的构成的重复说明。这是为了避免以下的说明不必要地变得冗长，使本领域技术人员容易理解。
需要说明的是，为了使本领域技术人员充分理解本公开而提供所附附图及以下的说明，但并不意图通过它们来限定权利要求书中记载的主题。另外，各图为示意图，未必严格地被图示。
另外，在各图中，Z轴是沿着连结罩构件的开口部的中心与穹顶形状的顶点的直线的轴。例如，在监控照相机被安装于天花板上的情况下，Z轴为沿着铅直方向的轴。X轴及Y轴彼此正交，并且，均为与Z轴方向正交的轴。例如，在监控照相机被安装于天花板上的情况下，XY平面为沿着天花板(设置面)的面。
(实施方式)
以下，使用图1～图7对实施方式进行说明。
[1.监控照相机的概略构成]
首先，对于本实施方式的监控照相机的概略构成，使用图1进行说明。图1是具备本实施方式的罩构件10的监控照相机1的立体图。需要说明的是，本实施方式中，对于将罩构件10用于监控照相机1的例子进行说明，但罩构件10的用途并不限定于监控照相机。
如图1中所示的那样，监控照相机1具备包含透镜镜筒的摄像部70(参照图2的(a))和覆盖摄像部70而进行保护的护罩部30。
摄像部70例如为具有CCD(Charge Coupled Device，电荷耦合器件)图像传感器或CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor，互补金属氧化物半导体)图像传感器等摄像器件的照相机。
罩部30将摄像部70的整体覆盖，形成监控照相机1的框体。罩部30具有遍及整面地覆盖摄像部70的摄像面的罩构件10、和将罩构件10的大致圆形状的开口部固定的主体部20。
罩构件10为覆盖被收纳于主体部20中的摄像部70的透镜镜筒的正面的照相机用的罩构件(照相机罩构件)。本实施方式中，罩构件10遍及全域地覆盖摄像部70的摄像区域。罩构件10为具有透光性的构件。
罩构件10的形状为大致半球穹顶形状。因此，监控照相机1具有广的视角，能够将摄像部70的摄像区域放大。需要说明的是，罩构件10的形状没有特别限定。罩构件10的形状也可以为大致圆筒形状、大致箱型形状等。另外，所谓大致半球穹顶形状的意图当然包含完全半球的穹顶型的形状，也包含实质上被认为半球的穹顶型的形状。
主体部20由树脂材料或金属等形成。主体部20例如被形成为前端部稍微尖细的大致圆筒形状，在该大致圆筒形状的开口部处，水密地固定有罩构件10的大致圆形状的开口部。另外，在主体部20的后端侧(Z轴负方向侧)的开口部处，安装有用于将监控照相机1固定于墙壁或天花板等设置面上的金属制的构件(未图示)。
[2.罩构件的构成]
接着，对于本实施方式的罩构件10的构成，使用图2进行说明。图2是本实施方式的罩构件10的剖视图。图2的(a)是罩构件10及摄像部70的剖视图。图2的(b)是图2的(a)的罩构件10的局部放大图。
如图2的(a)中所示的那样，罩构件10具备基材40和层叠薄膜层50。
基材40使用成型性及透光性优异的树脂材料作为基板材料而构成。本实施方式中，对于基材40，使用硬且耐冲击的聚碳酸酯等有机系树脂材料而构成。另外，基材40也可以使用丙烯酸等透光性良好的树脂材料来构成。聚碳酸酯或丙烯酸等树脂材料由于能够容易地成型，所以能够成型为穹顶形状等各种形状。在基材40的内面侧，配置有摄像部70。需要说明的是，基材40的折射率例如为1.59。另外，基材40的厚度例如为0.5mm以上且10mm以下。
层叠薄膜层50在剖视图中层叠并形成于基材40的表面(为基材40的外侧的面，光入射的面)上。如图2的(a)中所示的那样，层叠薄膜层50将基材40的表面的大致整面覆盖。另外，如图2的(b)中所示的那样，层叠薄膜层50是密合层51、中间层52及亲水层53依次层叠而形成的。即，层叠薄膜层50具有3层结构。更详细而言，在基材40的表面(Z轴正侧的面)上，密合层51、中间层52及亲水层53依次朝向基材40的外侧(图2的(b)中，沿Z轴正方向)而被层叠。因此，基材40成为不直接暴露于外部环境中的结构。即，层叠薄膜层50是保护基材40免受外部环境伤害的保护层。另外，层叠薄膜层50具有透光性。
密合层51是用于使基材40与层叠薄膜层50的密合性提高的层。密合层51例如由硅氧烷系丙烯酸聚合物涂料构成。通过使用丙烯酸聚合物涂料，能够提高与由聚碳酸酯等构成的基材40的密合性。由此，能够抑制因长时间暴露于外部环境(室外的环境)中而导致基材40与层叠薄膜层50剥离。
构成密合层51的硅氧烷系丙烯酸聚合物例如是在聚硅氧烷的一个末端键合有氨基甲酸酯丙烯酸酯等丙烯酸系树脂的树脂等。另外，也可以使用含有无定形二氧化硅的丙烯酸聚合物或硅烷系丙烯酸聚合物等。需要说明的是，密合层51的折射率例如为1.54。
亲水层53具有亲水性，是用于提高监控照相机1的视觉辨认性及防污性的层。亲水层53例如由以硅烷系丙烯酸聚合物作为主要成分的水系涂料构成。例如，亲水层53是形成于中间层52的表面的地毯那样的高分子薄膜(丙烯酸聚合物刷)。通过亲水层53为聚合物刷，可得到高的亲水性，且能够维持高的亲水性。
构成亲水层53的硅烷系丙烯酸聚合物例如是在一个末端具有硅烷醇基的聚合物刷材。需要说明的是，亲水层53的折射率例如为1.35。
一般而言，有机系材料与无机系材料相比，硬度低，另外也不耐受紫外线等。因此，通过将作为有机系树脂材料的丙烯酸聚合物与硅烷系等无机系材料的复合树脂材料用于亲水层53，从而与亲水层53由有机系树脂材料构成的情况相比，能够提高机械强度及耐光性。
需要说明的是，亲水层53不由光催化剂构成。即，亲水层53并非通过被照射太阳等的光(一般为紫外线)而具有亲水性(超亲水性)。
密合层51与亲水层53的密合性低。因此，若将亲水层53直接形成于密合层51上，则有可能密合层51与亲水层53剥离等。于是，设置将密合层51与亲水层53粘结的粘合剂即中间层52。
中间层52形成于密合层51与亲水层53之间。即，中间层52与密合层51及亲水层53这两者相接，且与两个层具有高密合性。中间层52例如由包含无定形二氧化硅及聚硅酸盐化合物中的至少一者的树脂涂料构成。即，由于中间层52包含二氧化硅或硅酸盐，所以能够提高层叠薄膜层50的硬度。由此，能够抑制因与物体的接触等而在基材40上产生伤痕或缺口等(机械强度提高)。
构成中间层52的无定形二氧化硅及聚硅酸盐化合物例如为在将四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、聚硅酸乙酯、聚硅酸丁酯、甲基溶纤剂原硅酸酯、原硅酸正丙酯、硅酸四甲酯等的一部分或多个调合而成的溶剂中添加无定形二氧化硅而得到的有机无机材料。另外也可以使用甲基丙烯酸系有机硅聚合物。需要说明的是，中间层52的折射率例如为1.35。另外，中间层52也可以具有亲水性。
密合层51或中间层52也可以包含光吸收剂。例如，密合层51或中间层52也可以包含UV吸收剂。UV吸收剂例如为二苯甲酮系或苯并三唑系的UV吸收剂。本实施方式中，基材40由有机系树脂材料构成。一般而言，有机系树脂材料与无机系树脂材料相比存在不耐受紫外线的倾向。因此，通过密合层51或中间层52包含UV吸收剂，能够抑制基材40因紫外线而劣化。即，通过密合层51或中间层52包含UV吸收剂，罩构件10的耐久性(耐光性)提高。
需要说明的是，光吸收剂并不限定于UV吸收剂。例如，光吸收剂也可以是吸收特定的可见光的材料，还可以是吸收红外线的材料。另外，密合层51或中间层52也可以与UV吸收剂一并含有光稳定剂。例如为受阻胺系的光稳定剂等。由此，由于能够将通过紫外线而产生的自由基无害化，所以能够抑制树脂的劣化。
另外，有时层叠薄膜层50因被照射紫外线而劣化，膜厚变薄，发生剥离。由此，变得无法维持所期望的性能。因此，光吸收剂优选被包含于密合层51及中间层52中的更外侧(靠近外部环境)的层即中间层52中。由此，能够抑制密合层51因紫外线而劣化。
在罩构件10为大致半球穹顶形状的情况下，中间层52及亲水层53的膜厚的合计例如为60nm以上且180nm以下。若中间层52及亲水层53的膜厚的合计成为60nm以下，则中间层52及亲水层53的性能下降。即，中间层52的作为粘合剂的性能和亲水层53的视觉辨认性及防污性的性能下降。另外，若中间层52及亲水层53的膜厚的合计成为180nm以上，则有可能产生裂纹或光的透过性下降等。需要说明的是，在罩构件10不为大致半球穹顶形状的情况下，中间层52及亲水层53的膜厚的合计也可以为上述值以外的膜厚。需要说明的是，密合层的膜厚没有特别限定。
[3.视觉辨认性提高的机理]
接着，对于本实施方式的罩构件10的视觉辨认性提高的机理，使用图3A～图3C进行说明。图3A是用于说明本实施方式的罩构件10的视觉辨认性的图。图3B是用于说明比较例1的罩构件的视觉辨认性的图。需要说明的是，图3A及图3B是罩构件10的局部放大图。图3C是比较本实施方式的监控照相机1的图像的视觉辨认性的图。
需要说明的是，比较例1的罩构件是不具有层叠薄膜层50而基材40直接暴露于外部环境中的罩构件。另外，图中的虚线箭头表示从监控照相机1的外部入射至监控照相机1的光。虽然没有图示，但在虚线箭头的前方具有摄像部70，向罩构件10的内侧入射了的光被摄像部70受光。
在监控照相机1被设置于室外的情况下，若降雨则水滴会附着在罩构件10上。本实施方式的罩构件10由于在最外层具有亲水层53，所以水滴难以变成球状，如图3A中所示的那样，在亲水层53上薄薄地扩展并皮膜化而形成水膜60。由此，能够抑制光在空气与水膜60的界面发生漫反射。因而，监控照相机1能够进行良好的(视觉辨认性高)图像的摄影。
图3C的右侧(虚线的右侧)表示具备图3A中所示的本实施方式的罩构件10的监控照相机1所摄影的实图像。如图3C的右侧中所示的那样，通过具有层叠薄膜层50(亲水层53)，成为在图像内无法识别到水滴程度的视觉辨认性高的图像。
另一方面，若水滴61附着在比较例1的罩构件(不具有层叠薄膜层50(亲水层53)的罩构件)上，则如图3B中所示的那样，并非形成水膜，而是维持水滴61的状态。由此，入射至水滴61的入射光被水滴61漫反射。另外，就经由水滴61而入射至基材40的光和从空气直接(不经由水滴61)入射至基材40的光而言，被折射的方式不同。其结果是，监控照相机所摄影的图像的视觉辨认性下降。另外，在基材40上形成有防水性的层的情况下，水滴61更容易变成球状，因此，光更加被漫反射。
图3C的左侧(虚线的左侧)表示具备图3B中所示的比较例1的罩构件的监控照相机所摄影的实图像。如图3C的左侧中所示的那样，由于不具有层叠薄膜层50(亲水层53)，在图像内能够识别到水滴，成为视觉辨认性低的图像。
如上述那样，根据本实施方式的罩构件10，能够使监控照相机1所摄影的图像的视觉辨认性提高。
[4.防污性提高的机理]
接下来，对于本实施方式的罩构件10的防污性提高的机理，使用图4A～图4C进行说明。图4A是用于说明本实施方式的罩构件10的防污性的图。图4B是用于说明比较例2的罩构件的防污性的图。需要说明的是，图4A及图4B是罩构件10的局部放大图。图4C是比较本实施方式的监控照相机1的图像的防污性的图。
在监控照相机1被设置于室外的情况下，各种污渍80a～80c会附着在罩构件10上。例如，污渍80a～80c为各种尘埃等。若污渍80a～80c附着在罩构件10上，则监控照相机1所摄影的图像的视觉辨认性下降。
在污渍80a～80c附着在本实施方式的罩构件10(亲水层53)的表面后由于雨等而导致水滴附着在罩构件10上时，则如上述那样，水滴在亲水层53上发生皮膜化而成为大致均匀的膜厚的水膜60。亲水层53为亲水性，与水的亲和性大。即，亲水层53与水滴容易连结。因此，在水滴发生皮膜化时，水滴从污渍80a～80c进入罩构件10侧而以与亲水层53相接的状态形成水膜60。由此，如图4A中所示的那样，附着在罩构件10上的污渍80a～80c浮起，能够将罩构件10的表面的污渍80a～80c冲走(自清洁)。即，罩构件10具有高防污性。其结果是，监控照相机1能够摄影视觉辨认性高的图像。
图4C的右侧(虚线的右侧)表示具备图4A中所示的本实施方式的罩构件10的监控照相机1所摄影的实图像。如图4C的右侧中所示的那样，通过具有层叠薄膜层50(亲水层53)，能够摄影视觉辨认性高的图像。
另一方面，若在污渍80a～80c附着在比较例2的(不具有层叠薄膜层50(亲水层53))罩构件上后由于雨等而导致水滴61附着在罩构件上，则如上述那样，水滴61保持水滴61的状态存在。即，如图4B中所示的那样，没有进行自清洁，污渍80a～80c维持附着在罩构件(基材40)的表面的状态。其结果是，监控照相机所摄影的图像的视觉辨认性下降。
图4C的左侧(虚线的左侧)表示具备图4B中所示的比较例2的罩构件的监控照相机所摄影的实图像。如图4C的左侧中所示的那样，由于不具有层叠薄膜层50(亲水层53)，图像内变得模糊，成为视觉辨认性低的图像。
通过在高处设置的照相机等无法容易地进行维护(清洁等)的照相机中使用具有高防污性的罩构件10，即使不进行维护也能够摄影视觉辨认性高的图像。
[5.制造方法]
接下来，对于在大致半球穹顶形状的基材40上形成层叠薄膜层50的制造方法，使用图5及图6进行说明。图5是顶部90的膜厚比底部(日语原文为“裾野部”)100的膜厚更厚的情况的本实施方式的罩构件的剖视图。图6是底部100的膜厚比顶部90的膜厚更厚的情况的本实施方式的罩构件的剖视图。
在大致半球穹顶形状的基材40上形成层叠薄膜层50的方法例如为旋涂法或浸渍涂布法等。以下，对各个成膜方法进行说明，但固化等工序(干燥或烧成等)省略说明。
所谓旋涂法，是将涂布物(为用于形成膜的材料，本实施方式中构成各层的涂料)供给到基材40上、使基材40旋转、通过其离心力将涂布物拉长而形成薄膜的成膜方法。另外，所谓浸渍涂布法，是将基材40浸渍于涂布物中后、将基材40捞起而形成薄膜的成膜方法。例如，将基材40捞起后，使基材40旋转，通过其离心力将涂布物拉长而形成薄膜。
在使基材40旋转时，使大致半球穹顶形状的基材40的顶部朝下(例如铅直朝下)而使基材40旋转进行成膜的情况和使大致半球穹顶形状的基材40的顶部朝上(例如铅直朝上)而使基材40旋转进行成膜的情况下，有时形成于基材40上的层叠薄膜层50的膜厚在层内不同。
例如，若使基材40的顶部朝下而旋转，则有时大致半球穹顶形状的顶部90的膜的厚度变得比底部100的膜的厚度更厚。
图5的(a)是表示大致半球穹顶形状的顶部90的膜的厚度变得比底部100的膜的厚度更厚的情况的层叠薄膜层50a形成于基材40上的图。图5的(b)是将图5的(a)的罩构件的顶部90放大而得到的图。图5的(c)是将图5的(a)的罩部的底部100放大而得到的图。
如图5的(b)及图5的(c)中所示的那样，密合层51a、中间层52a及亲水层53a的膜厚分别按照顶部90的膜厚比底部100的膜厚厚的方式形成。例如，大致半球穹顶形状的顶部90的中间层52a及亲水层53a的膜厚的合计(第1合计膜厚)与底部100的中间层52a及亲水层53a的膜厚的合计相比为1.2倍以上且2.0倍以下。例如，也可以按照中间层52a及亲水层53a的膜厚的合计为60nm以上且180nm以下、并且第1合计膜厚满足上述的条件的方式形成。
另外，例如若使基材40的顶部朝上而旋转，则有时大致半球穹顶形状的底部100的膜的厚度变得比顶部90的膜的厚度更厚。
图6的(a)是表示大致半球穹顶形状的底部100的膜的厚度变得比顶部90的膜的厚度更厚的情况的层叠薄膜层50b形成于基材40上的图。图6的(b)是将图6的(a)的罩构件的顶部90放大而得到的图。图6的(c)是将图6的(a)的罩部的底部100放大而得到的图。
如图6的(b)及图6的(c)中所示的那样，密合层51b、中间层52b及亲水层53b的膜厚分别按照底部100的膜厚比顶部90的膜厚更厚的方式形成。例如，大致半球穹顶形状的底部100的中间层52b及亲水层53b的膜厚的合计(第2合计膜厚)与顶部90的中间层52b及亲水层53b的膜厚的合计相比为1.2倍以上且2.0倍以下。例如，也可以按照中间层52b及亲水层53b的膜厚的合计为60nm以上且180nm以下、并且第2合计膜厚满足上述的条件的方式形成。
由此，通过旋涂法或浸渍涂布法等一般的方法，能够在大致半球穹顶形状的基材40上形成层叠薄膜层50、50a、50b。需要说明的是，上述中对通过旋涂法或浸渍涂布法而形成层叠薄膜层50、50a、50b的例子进行了说明，但并不限定于这些方法。另外，在基材40为板状的情况下，也可以通过狭缝涂布法、流涂法、模涂法、辊涂法、喷雾法等而形成。
需要说明的是，上述中，对在大致半球穹顶形状的顶部90和底部100膜厚不同的例子进行了说明，但从得到视觉辨认性更高的图像的观点出发，各层的膜厚优选大致均匀地成膜。例如，亲水层53的膜厚优选在包含顶部90和底部100的整体中以大致均匀的膜厚成膜。
[6.实验结果]
接下来，对于针对罩构件10的各种试验结果，使用图7进行说明。图7是表示针对罩构件10的各种试验结果的图。需要说明的是，图7中的比较例表示在基材40上形成有由有机硅树脂等无机系树脂材料构成的亲水层的罩构件的试验结果。另外，图7中的实施例表示包含UV吸收剂的罩构件10的试验结果。需要说明的是，作为试验项目，进行了“耐光性试验”(JIS K 5600-7-7、JIS B 7754)、“高温高湿试验”(IEC-60068-2-66)、“盐水喷雾试验”(JISZ 2371)、“干拭试验”(JIS K5600)。
首先，对于耐光性试验进行说明。在耐光性试验中，利用每个波长的强度分布接近太阳光的氙弧灯进行照射试验。罩构件10因暴露于光下而劣化，性能下降。例如，基材40发生变色或亲水层53的亲水性下降。本试验中，对罩构件的性能变成规定值以下为止的期间(年数)进行比较。如图7中所示的那样，比较例中1年性能变成规定值以下，与此相对，实施例中8年性能变成规定值以下。换而言之，实施例中的罩构件10的相对于光的劣化速度比比较例中的罩构件的相对于光的劣化速度慢。由该结果获知，本实施方式的罩构件10的耐光性提高。即，耐久性提高。
接着，对于高温高湿试验进行说明。高温高湿试验的条件为：温度为60℃、相对湿度为90％、试验时间为500h。在高温高湿试验中，对试验后的相对于水的接触角进行比较。即，主要对于高温高湿试验下的亲水层53的劣化进行确认。接触角越小，可以说亲水性越高。如图7中所示的那样，比较例中接触角成为40°以上，但在实施例中接触角即使在试验后也维持15°以下这样低的接触角。由该结果获知，本实施方式的罩构件10能够长时间维持高亲水性。即，耐久性提高。
接下来，对于盐水喷雾试验进行说明。盐水喷雾试验的条件(1个循环)为盐水喷雾2小时+湿润放置22小时。对罩构件的表面以雾状散布盐水，主要进行罩构件的变色、剥离等外观上的确认。本试验中，对至外观发生异常为止的循环数进行比较。如图7中所示的那样，获知比较例为3个循环，与此相对，实施例为9个循环，可长时间耐受。由该结果获知，本实施方式的罩构件10的耐蚀性提高。即，耐久性提高。
最后，对于干拭试验进行说明。在干拭试验中擦拭罩构件10的表面的条件为：材质为棉布、载荷为2kgf。本试验对至在以该载荷擦拭罩构件10的表面时产生外观的异常为止的擦拭罩构件10的表面的次数进行比较。如图7中所示的那样，比较例为4次，与此相对，实施例为500次，可大幅耐受。由该结果获知，本实施方式的罩构件10的耐磨性提高。即，耐久性提高。
如以上那样，本实施方式的罩构件10的耐久性提高。
[7.效果等]
如以上那样，本实施方式中，罩构件10具备基材40和形成于基材40上的层叠薄膜层50。基材40由聚碳酸酯或丙烯酸树脂构成。层叠薄膜层50具有密合层51、中间层52及亲水层53。密合层51由硅氧烷系丙烯酸聚合物涂料构成，亲水层53由以硅烷系丙烯酸聚合物作为主要成分的水系涂料构成，中间层52是将密合层51与亲水层53粘结的粘合剂且由树脂涂料构成。并且，密合层51、中间层52及亲水层53依次被层叠于基材40上。
由此，在基材40的表面，依次层叠而形成密合层51和中间层52和亲水层53。密合层51是用于提高基材40与层叠薄膜层50的密合性的层。密合层51通过由丙烯酸聚合物涂料构成，能够提高由聚碳酸酯等构成的基材40与层叠薄膜层50的密合性。亲水层53通过由以丙烯酸聚合物作为主要成分的水系涂料构成，从而具有高亲水性和高防污性。亲水层53由于亲水性高，所以即使水滴附着，水滴也难以变成球状。另外，亲水层53由于亲水性高，所以即使污渍附着也被自清洁。因此，通过将具有亲水层53的罩构件10用于照相机(例如监控照相机1)，即使水滴、污渍附着在罩构件10上也能够摄影视觉辨认性高的图像。
另外，通过亲水层53具有作为无机系材料的硅烷系材料，能够提高亲水层53的机械强度及耐光性。即，罩构件10的耐久性提高。进而，通过具有中间层52，能够使密合层51与亲水层53粘结。
通过这些，本实施方式的罩构件10的视觉辨认性、防污性及耐久性提高。
另外，密合层51或中间层52包含光吸收剂。
由此，例如在光吸收剂为UV吸收剂的情况下，能够抑制基材40因紫外线而劣化。因而，罩构件10的耐久性(耐光性)提高。
另外，构成中间层52的树脂涂料包含无定形二氧化硅及聚硅酸盐化合物中的至少一者。
由此，中间层52由于包含二氧化硅或硅酸盐，所以能够提高层叠薄膜层50的硬性(硬度)。即，能够抑制因与物体的接触等而在基材40上产生伤痕或缺口等。因而，罩构件10的耐久性(机械强度)提高。
另外，中间层52及亲水层53的膜厚的合计为60nm以上且180nm以下。
由此，罩构件10即使为大致半球穹顶形状，中间层52及亲水层53也能够具有所期望的性能。具体而言，通过中间层52及亲水层53的膜厚的合计为60nm以上，能够得到高视觉辨认性及高防污性。另外，通过中间层52及亲水层53的膜厚的合计为180nm以下，能够抑制裂纹等的产生。
另外，罩构件10的形状为大致半球穹顶形状。大致半球穹顶形状的底部100的中间层52及亲水层53的膜厚的合计与顶部90的中间层52及亲水层53的膜厚的合计相比也可以为1.2倍以上且2.0倍以下。另外，罩构件10的形状为大致半球穹顶形状。大致半球穹顶形状的顶部90的中间层52及亲水层53的膜厚的合计与底部100的合计相比也可以为1.2倍以上且2.0倍以下。
由此，在罩构件10为大致半球穹顶形状的情况下，通过旋涂法或浸渍涂布法等一般的方法，能够在基材40上形成层叠薄膜层50、50a、50b。
另外，罩构件10是覆盖照相机的透镜镜筒的正面的照相机罩构件。
通过将上述的罩构件10用于照相机，即使是照相机在室外等使用的情况下，也能够摄影高视觉辨认性的图像。
另外，本实施方式中，照相机具备上述的罩构件和摄像器件。
由此，即使是照相机在室外等使用的情况下，也能够摄影高视觉辨认性的图像。
(其它实施方式)
如以上那样，作为本公开中的技术的例示，对实施方式进行了说明。因此，提供了所附附图及详细的说明。
因此，在所附附图及详细的说明中记载的构成要素中，不仅包含为了解决课题所必须的构成要素，为了例示出上述技术，也可包含不是为了解决课题所必须的构成要素。因此，不能由于这些不是必须的构成要素被记载于所附附图和详细的说明中，就直接认定这些不是必须的构成要素是必须的。
另外，上述的实施方式由于是用于例示出本公开中的技术的方式，所以在权利要求书或其均等的范围内可以进行各种变更、置换、附加、省略等。
例如，在上述实施方式中，对罩构件10被用于监控照相机1中的例子进行了说明，但并不限定于此。例如，也可以用于具备摄像器件的数码相机或摄像机等。该情况下，罩构件10为覆盖照相机的透镜镜筒的正面的照相机罩构件。另外，例如，也可以在数码相机或摄像机的透镜(基材)表面形成上述的层叠薄膜层50。
另外，罩构件10也可以被用于照相机以外。例如，也可以在树脂制的窗口中使用罩构件10。由此，能够将附着在树脂制的窗口(罩构件10)上的污渍等自清洁。
另外，实施方式中，对层叠薄膜层50形成于基材40的表面的例子进行了说明，但层叠薄膜层50也可以也形成于基材40的背面(为基材40的内侧的面，本实施方式中，覆盖摄像部70的摄像区域的面)。由此，即使是通过结露等而水滴附着在基材40的背面的情况下，也能够摄影视觉辨认性高的图像。
另外，在上述实施方式中，对通过旋涂法或浸渍涂布法而形成层叠薄膜层50的各层(密合层51、中间层52及亲水层53)的例子进行了说明，但并不限定于此。密合层51、中间层52及亲水层53各自也可以通过不同的方法而形成。
另外，在上述实施方式中对使基材40的顶部朝上而进行旋转的情况和朝下而进行旋转的情况进行了说明，但并不限定于此。例如通过交替地进行朝上旋转和朝下旋转，也可以形成层叠薄膜层50的各层。另外，也可以使基材40的顶部向斜方向倾斜而旋转。
产业上的可利用性
本公开能够应用于设置在室外的监控照相机等。特别是对于高处设置的监控照相机等被设置于无法容易地维护的场所的照相机是有效的。
符号的说明
1 监控照相机
10 罩构件
20 主体部
30 罩部
40 基材
50、50a、50b 层叠薄膜层
51、51a、51b 密合层
52、52a、52b 中间层
53、53a、53b 亲水层
60 水膜
61 水滴
70 摄像部
80a、80b、80c 污渍
90 顶部
100 底部
权利要求书(按照条约第19条的修改)
1.[修改后]一种罩构件，其是照相机用的罩构件，其具备：
基材、和
形成于所述基材上的层叠薄膜层，
所述基材由树脂构成，
所述层叠薄膜层具有由硅氧烷系丙烯酸树脂、含有二氧化硅的丙烯酸树脂或硅烷系丙烯酸树脂构成的密合层、由硅烷系丙烯酸树脂构成的亲水层、及用于将所述密合层与所述亲水层粘结的粘合剂即由树脂构成的中间层，
所述密合层、所述中间层及所述亲水层中所述密合层被配置于最靠近所述基材的位置，
所述亲水层为聚合物刷，
构成所述中间层的所述树脂包含无定形二氧化硅。
2.根据权利要求1所述的罩构件，其中，
所述硅氧烷系丙烯酸树脂在聚硅氧烷的一个末端具有丙烯酸树脂。
3.[修改后]根据权利要求1或2所述的罩构件，其中，
构成所述中间层的所述树脂进一步包含聚硅酸盐化合物。
4.根据权利要求3所述的罩构件，其中，
构成所述中间层的所述树脂包含四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、聚硅酸乙酯、聚硅酸丁酯、甲基溶纤剂原硅酸酯、原硅酸正丙酯、及硅酸四甲酯中的至少1者。
5.根据权利要求1～4的任一项所述的罩构件，其中，
所述中间层具有亲水性。
6.[删除]
7.[修改后]根据权利要求1～5的任一项所述的罩构件，其中，
所述聚合物刷在一个末端具有硅烷醇基。
8.[修改后]根据权利要求1～5、7的任一项所述的罩构件，其中，
所述中间层及所述亲水层的膜厚的合计为60nm以上且180nm以下。
9.[修改后]根据权利要求1～5、7、8的任一项所述的罩构件，其中，
所述密合层或所述中间层包含光吸收剂。
10.根据权利要求9所述的罩构件，其中，
所述光吸收剂包含UV吸收剂。
11.根据权利要求10所述的罩构件，其中，
所述UV吸收剂为二苯甲酮系或苯并三唑系的UV吸收剂。
12.根据权利要求9～11的任一项所述的罩构件，其中，
所述密合层或所述中间层进一步包含受阻胺系的光稳定剂。
13.根据权利要求9～12的任一项所述的罩构件，其中，
所述光吸收剂被包含于所述中间层中。
14.[修改后]根据权利要求1～5、7～13的任一项所述的罩构件，其中，
构成所述基材的所述树脂为聚碳酸酯树脂或丙烯酸树脂。
15.[修改后]根据权利要求1～5、7～14的任一项所述的罩构件，其中，
所述基材的厚度为0.5mm以上且10mm以下。
16.[修改后]根据权利要求1～5、7～15的任一项所述的罩构件，其中，
所述基材的形状为大致半球穹顶形状、大致圆筒形状、大致箱型形状或板状。
17.根据权利要求16所述的罩构件，其中，
所述罩构件的形状为所述大致半球穹顶形状，所述大致半球穹顶形状的底部的所述中间层及所述亲水层的膜厚的合计与顶部的所述合计相比为1.2倍以上且2.0倍以下。
18.根据权利要求16所述的罩构件，其中，
所述罩构件的形状为所述大致半球穹顶形状，所述大致半球穹顶形状的顶部的所述中间层及所述亲水层的膜厚的合计与底部的所述合计相比为1.2倍以上且2.0倍以下。
19.[修改后]一种照相机，其具备：
权利要求1～5、7～18中任一项所述的罩构件、和
摄像器件。
20.[修改后]一种罩构件的制造方法，其是照相机用的罩构件的制造方法，其中，
通过在基材上涂布硅氧烷系丙烯酸涂料、含有二氧化硅的丙烯酸涂料、或硅烷系丙烯酸涂料而形成密合层，
通过在所述密合层上涂布包含作为粘合剂的无定形二氧化硅的树脂涂料而形成中间层，
通过在所述中间层上涂布以硅烷系丙烯酸作为主要成分的水系涂料而形成具有聚合物刷的亲水层。
21.根据权利要求20所述的罩构件的制造方法，其中，
所述硅氧烷系丙烯酸涂料、所述含有二氧化硅的丙烯酸涂料、或所述硅烷系丙烯酸涂料和所述树脂涂料和所述水系涂料通过旋涂法或浸渍涂布法而涂布。
22.根据权利要求21所述的罩构件的制造方法，其中，
通过所述旋涂法或所述浸渍涂布法而涂布所述树脂涂料及所述水系涂料后，进一步包括将所述中间层及所述亲水层的厚度的合计设定为60nm以上且180nm以下。
23.根据权利要求20所述的罩构件的制造方法，其中，
所述基材为板状，
所述硅氧烷系丙烯酸涂料、所述含有二氧化硅的丙烯酸涂料、或所述硅烷系丙烯酸涂料和所述树脂涂料和所述水系涂料通过旋涂法、浸渍涂布法、狭缝涂布法、流涂法、模涂法、辊涂法、或喷雾法而涂布。
24.根据权利要求23所述的罩构件的制造方法，其中，
通过所述旋涂法、所述浸渍涂布法、所述狭缝涂布法、所述流涂法、所述模涂法、所述辊涂法、或所述喷雾法而涂布所述树脂涂料及所述水系涂料后，进一步包括将所述中间层及所述亲水层的厚度的合计设定为60nm以上且180nm以下。
25.[追加]根据权利要求7所述的罩构件，其中，
所述聚合物刷为地毯那样的聚合物刷。

Claims (24)

1.一种罩构件，其是照相机用的罩构件，其具备：
基材、和
形成于所述基材上的层叠薄膜层，
所述基材由树脂构成，
所述层叠薄膜层具有由硅氧烷系丙烯酸树脂、含有二氧化硅的丙烯酸树脂或硅烷系丙烯酸树脂构成的密合层、由硅烷系丙烯酸树脂构成的亲水层、及用于将所述密合层与所述亲水层粘结的粘合剂即由树脂构成的中间层，
所述密合层、所述中间层及所述亲水层中所述密合层被配置于最靠近所述基材的位置。
2.根据权利要求1所述的罩构件，其中，
所述硅氧烷系丙烯酸树脂在聚硅氧烷的一个末端具有丙烯酸树脂。
3.根据权利要求1或2所述的罩构件，其中，
构成所述中间层的所述树脂进一步包含无定形二氧化硅及聚硅酸盐化合物中的至少一者。
4.根据权利要求3所述的罩构件，其中，
构成所述中间层的所述树脂包含四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、聚硅酸乙酯、聚硅酸丁酯、甲基溶纤剂原硅酸酯、原硅酸正丙酯、及硅酸四甲酯中的至少1者。
5.根据权利要求1～4的任一项所述的罩构件，其中，
所述中间层具有亲水性。
6.根据权利要求1～5的任一项所述的罩构件，其中，
所述亲水层具有聚合物刷。
7.根据权利要求6所述的罩构件，其中，
所述聚合物刷具有硅烷醇基。
8.根据权利要求1～7的任一项所述的罩构件，其中，
所述中间层及所述亲水层的膜厚的合计为60nm以上且180nm以下。
9.根据权利要求1～8的任一项所述的罩构件，其中，
所述密合层或所述中间层包含光吸收剂。
10.根据权利要求9所述的罩构件，其中，
所述光吸收剂包含UV吸收剂。
11.根据权利要求10所述的罩构件，其中，
所述UV吸收剂为二苯甲酮系或苯并三唑系的UV吸收剂。
12.根据权利要求9～11的任一项所述的罩构件，其中，
所述密合层或所述中间层进一步包含受阻胺系的光稳定剂。
13.根据权利要求9～12的任一项所述的罩构件，其中，
所述光吸收剂被包含于所述中间层中。
14.根据权利要求1～13的任一项所述的罩构件，其中，
构成所述基材的所述树脂为聚碳酸酯树脂或丙烯酸树脂。
15.根据权利要求1～14的任一项所述的罩构件，其中，
所述基材的厚度为0.5mm以上且10mm以下。
16.根据权利要求1～15的任一项所述的罩构件，其中，
所述基材的形状为大致半球穹顶形状、大致圆筒形状、大致箱型形状或板状。
17.根据权利要求16所述的罩构件，其中，
所述罩构件的形状为所述大致半球穹顶形状，所述大致半球穹顶形状的底部的所述中间层及所述亲水层的膜厚的合计与顶部的所述合计相比为1.2倍以上且2.0倍以下。
18.根据权利要求16所述的罩构件，其中，
所述罩构件的形状为所述大致半球穹顶形状，所述大致半球穹顶形状的顶部的所述中间层及所述亲水层的膜厚的合计与底部的所述合计相比为1.2倍以上且2.0倍以下。
19.一种照相机，其具备：
权利要求1～18中任一项所述的罩构件、和
摄像器件。
20.一种罩构件的制造方法，其是照相机用的罩构件的制造方法，其中，
通过在基材上涂布硅氧烷系丙烯酸涂料、含有二氧化硅的丙烯酸涂料、或硅烷系丙烯酸涂料而形成密合层，
通过在所述密合层上涂布作为粘合剂的树脂涂料而形成中间层，
通过在所述中间层上涂布以硅烷系丙烯酸作为主要成分的水系涂料而形成亲水层。
21.根据权利要求20所述的罩构件的制造方法，其中，
所述硅氧烷系丙烯酸涂料、所述含有二氧化硅的丙烯酸涂料、或所述硅烷系丙烯酸涂料和所述树脂涂料和所述水系涂料通过旋涂法或浸渍涂布法而涂布。
22.根据权利要求21所述的罩构件的制造方法，其中，
通过所述旋涂法或所述浸渍涂布法而涂布所述树脂涂料及所述水系涂料后，进一步包括将所述中间层及所述亲水层的厚度的合计设定为60nm以上且180nm以下。
23.根据权利要求20所述的罩构件的制造方法，其中，
所述基材为板状，
所述硅氧烷系丙烯酸涂料、所述含有二氧化硅的丙烯酸涂料、或所述硅烷系丙烯酸涂料和所述树脂涂料和所述水系涂料通过旋涂法、浸渍涂布法、狭缝涂布法、流涂法、模涂法、辊涂法、或喷雾法而涂布。
24.根据权利要求23所述的罩构件的制造方法，其中，
通过所述旋涂法、所述浸渍涂布法、所述狭缝涂布法、所述流涂法、所述模涂法、所述辊涂法、或所述喷雾法而涂布所述树脂涂料及所述水系涂料后，进一步包括将所述中间层及所述亲水层的厚度的合计设定为60nm以上且180nm以下。
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