CN108585441A - 玻璃电熔炉熔制玻璃的方法 - Google Patents
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Abstract
玻璃电熔炉熔制玻璃的方法，所述熔制方法在电熔炉上进行，所述电熔炉内底部设有底插电极、顶部设有顶插电极，所述电熔炉底部还设有流液洞；本发明提供玻璃电熔炉熔制玻璃的方法，解决现有溶制玻璃时耗能高、挥发物高、污染环境等缺陷。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃制造领域，具体涉及玻璃电熔炉熔制玻璃的方法。
背景技术
玻璃生产已有几千年的历史，但大规模生产玻璃制品还是从二十世纪四、五十年代开始。最近几十年年来玻璃科技不断发展，熔制玻璃的热源从煤炭直火、煤气、煤焦油、重油发展到电助熔、全电熔；玻璃窑炉从坩埚炉发展到池炉、气电混合加热池炉，到目前纷纷使用的电熔炉。
玻璃全电熔技术上世纪八十年代从西方引入，九十年代在国内复制。新世纪后在国内全面铺开。玻璃电熔窑熔制玻璃有以下优点：一是热效率高达80％左右，比池炉30％—40％的热效率提高了一倍以上，节能效果明显。二是减少玻璃中挥发成分的挥发量。三是无燃烧产生的Co2和Nox，保护了环境。
本发明就是在电熔玻璃时，打破传统配合料层厚度为100mm—200mm的习惯，加厚到400mm—600mm左右，取得了更加节能和杜绝挥发成分挥发的特殊效果，节约了原料。
发明内容
(一)解决的技术问题
本发明提供玻璃电熔炉熔制玻璃的方法，解决现有溶制玻璃时耗能、污染环境等缺陷。
(二)采用的技术方案
本发明为实现上述目的，通过以下方案予以实现：玻璃电熔炉熔制玻璃的方法，所述熔制方法在电熔炉上进行，所述电熔炉内底部设有底插电极、顶部设有顶插电极，所述电熔炉底部还设有流液洞。
作为本方案的进一步优化，所述溶制方法为：通过将配合料倒入电熔炉内，通过顶插电极和底插电极相互配合，依次从配合料层、硅酸盐反应层、半熔层，最后到澄清匀化层。
作为本方案的进一步优化，所述配和料层包括冷配合料层和热配合料层，所述冷配合料层温度在150-200℃。
作为本方案的进一步优化，所述硅酸盐反应层温度在200-1000℃。
作为本方案的进一步优化，所述半熔层温度在1000-1200℃。
作为本方案的进一步优化，所述澄清匀化层温度在1200-1400℃。
(三)有益效果
本发明提供玻璃电熔炉熔制玻璃的方法，具有以下有益效果；
本发明就是在电熔玻璃时，打破传统配合料层厚度为100mm—200mm的习惯，加厚到400mm—600mm左右，取得了更加节能和杜绝挥发成分挥发的特殊效果，节约了原料；
配合料层厚度增加后，电极导电面积减少，炉内电阻上升，在使用相同的功率情况下，电流变小，电压升高，电极的损耗减少，使用寿命延长，可达2年以上，这在业内是先进的。
附图说明
图1为本发明混合料层为100-200mm厚度的反应图；
图2为本发明混合料层为400-600mm厚度的反应图；
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例
玻璃电熔炉熔制玻璃的方法，所述熔制方法在电熔炉上进行，所述电熔炉内底部设有底插电极、顶部设有顶插电极，所述电熔炉底部还设有流液洞。
作为本方案的进一步优化，所述溶制方法为：通过将配合料倒入电熔炉内，通过顶插电极和底插电极相互配合，依次从配合料层、硅酸盐反应层、半熔层，最后到澄清匀化层。
作为本方案的进一步优化，所述配和料层包括冷配合料层和热配合料层，所述冷配合料层温度在150-200℃。
作为本方案的进一步优化，所述硅酸盐反应层温度在200-1000℃。
作为本方案的进一步优化，所述半熔层温度在1000-1200℃。
作为本方案的进一步优化，所述澄清匀化层温度在1200-1400℃。
如图1所示，混合料层厚度为100mm—200mm的电熔炉配合料的熔化是垂直进行的，配合料不断地均匀地加在炉内表层，一层压一层，这个时候窑内的玻璃液流分布方式主要是垂直流；
如图2所示，混合料层厚度为400-600mm，炉内的玻璃流向发生了改变，原因是顶插电极(竖向插入)旁边的温度较高，玻璃的生成速度快于炉内同平面的其余区域。由于玻璃的比重大，快速下沉，促使同一平面的轻质层从炉中心开始向顶插电极方向流动，这时玻璃液的流动主要是按内漩式分布的；
下表为本发明为混合料层为100-200mm和400-600mm时产生的效果参照表：
由上表可以得出，混合料为400-600mm时候，挥发物少、耗能低，且在混合料为400mm时候溶制效果最佳。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.玻璃电熔炉熔制玻璃的方法，其特征在于，所述熔制方法在电熔炉上进行，所述电熔炉内底部设有底插电极、顶部设有顶插电极，所述电熔炉底部还设有流液洞。
2.根据权利要求1所述的玻璃电熔炉熔制玻璃的方法，其特征在于，所述溶制方法为：通过将配合料倒入电熔炉内，通过顶插电极和底插电极相互配合，依次从配合料层、硅酸盐反应层、半熔层，最后到澄清匀化层。
3.根据权利要求2所述的玻璃电熔炉熔制玻璃的方法，其特征在于，所述配和料层包括冷配合料层和热配合料层，所述冷配合料层温度在150-200℃。
4.根据权利要求2所述的玻璃电熔炉熔制玻璃的方法，其特征在于，所述硅酸盐反应层温度在200-1000℃。
5.根据权利要求2所述的玻璃电熔炉熔制玻璃的方法，其特征在于，所述半熔层温度在1000-1200℃。
6.根据权利要求2所述的玻璃电熔炉熔制玻璃的方法，其特征在于，所述澄清匀化层温度在1200-1400℃。
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