CN108573904B - 一种硅板机械清洗装置 - Google Patents

一种硅板机械清洗装置 Download PDF

Info

Publication number
CN108573904B
CN108573904B CN201810334479.0A CN201810334479A CN108573904B CN 108573904 B CN108573904 B CN 108573904B CN 201810334479 A CN201810334479 A CN 201810334479A CN 108573904 B CN108573904 B CN 108573904B
Authority
CN
China
Prior art keywords
bearing
sliding
shaped
rectangular
cleaning device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201810334479.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108573904A (zh
Inventor
艾蒙雁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuhu Yangzhan New Material Technology Service Co Ltd
Original Assignee
Wuhu Yangzhan New Material Technology Service Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuhu Yangzhan New Material Technology Service Co Ltd filed Critical Wuhu Yangzhan New Material Technology Service Co Ltd
Priority to CN201810334479.0A priority Critical patent/CN108573904B/zh
Publication of CN108573904A publication Critical patent/CN108573904A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108573904B publication Critical patent/CN108573904B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67046Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

本发明公开了一种硅板机械清洗装置,涉及微电子清洗设备技术领域,包括承载装置和清洗装置,清洗装置包括转盘,转盘下表面设有软羊毛刷,转盘顶部连接有电机,承载装置包括承载底座,承载底座中心对称设有四个承载滑槽,承载滑槽内设有固定组件,固定组件包括U型框和挡板,U型框两端内壁设有T型滑槽,挡板两端设有T型凸起,T型凸起与T型滑槽滑动连接。通过本装置,可以快速对硅板完成更换和翻转,减少了更换硅板的时间,提高了工作效率。

Description

一种硅板机械清洗装置
技术领域
本发明涉及微电子清洗设备技术领域,具体为一种硅板机械清洗装置。
背景技术
微电子产品在生产加工过程中会因各种因素的影响导致产品受到污染。一般情况下,这些污染物会通过物理吸附或化学吸附等方式存留在产品表面,对产品的质量和使用寿命会造成严重的影响。例如,在生产硅片时,一些污染物的离子或粒子会存留在硅片表面或氧化膜中。这主要是因为生产加工过程中,硅片的化学键受到了破坏,加剧了污染物的吸附力度。这种情况给硅片的清洗工作带来了很大的难度。目前,我国使用的微电子清洗手段主要有两种,即干法清洗和湿法清洗。
机械清洗法属于湿法清洗,具有较强的限制性,在清洗电子元件表面残渣或颗粒时具有较强的实效性,这种清洗方法在国外得到了广泛应用。按照性质来划分,机械清洗分为手工清洗和机械清洗两种。其中,手工清洗法的成本比较低,由清洗人员用镊子夹取带有有机溶液的棉球,对硅片表面带有污染物的地方进行清洗,从而达到清洗的效果,但这种清洗方法加大了硅片表面划伤的可能,会影响电子元件的质量。而机械清洗法则是采用的是高压擦片机和机械擦刷机等机械,可以有效清洗电子元件上的污染物,相比于手工清洗法来说,机械清洗法对电子元件造成损伤的可能性较小,通用的机械擦刷机无法自动完成对电子元件正、反两面同时清洗,当需要清洗电子元件另一面时,需要取下电子元件重新放置,这一过程可能造成电子元件表面重新附着灰尘,而且这一操作过程比较浪费时间。
发明内容
本发明目的在于提供一种硅板机械清洗装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
一种硅板机械清洗装置,包括承载装置和清洗装置,所述清洗装置包括转盘,转盘下表面设有软羊毛刷,转盘顶部连接有电机。
优选的,所述承载装置包括承载底座,所述承载底座中心对称设有四个承载滑槽,所述承载滑槽内设有固定组件,所述固定组件包括U型框和挡板,所述U型框两端内壁设有T型滑槽,所述挡板两端设有T型凸起,所述T型凸起与T型滑槽滑动连接。
优选的,所述T型滑槽底端设有若干螺纹孔,所述螺纹孔内螺纹连接有紧固螺栓。
优选的,所述承载滑槽底部设有滑动组件,所述滑动组件与承载底座通过连杆连接,所述滑动组件包括两块矩形滑块,所述矩形滑块之间通过工字型连接件固接,所述矩形滑块内表面设有矩形滑槽二,所述承载滑槽左、右侧壁对称设有矩形凹槽,所述矩形凹槽上、下内壁对称设有矩形滑槽一,所述矩形滑槽一和矩形滑槽二之间通过连杆连接,所述工字型连接件前端面设有转动轴,所述转动轴与U型框通过轴承转动连接。
优选的,所述连杆的外端和内端分别设有圆柱形滑块一和圆柱形滑块二,且圆柱形滑块一与矩形滑槽一滑动连接,圆柱形滑块二与矩形滑槽二滑动连接。
优选的,所述承载滑槽的外端铰接有定位组件,所述定位组件包括定位块,所述定位块中部设有定位孔,所述定位孔内表面设有螺纹,定位孔内配合连接有螺纹杆,所述螺纹杆上端设有固定盘,螺纹杆下端设有转动板,所述承载滑槽下方设有固定槽,所述固定槽内设有固定板。
优选的,转盘下表面中心位置设有转轴,承载底座上表面中部设有转动槽,所述转轴与转动槽转动连接。
优选的,U型框内壁设有橡胶层。
本发明的有益效果为:本发明结构简单,操作方便,通过本装置,可以快速对硅板完成更换和翻转,减少了更换硅板的时间,提高了工作效率。
附图说明
图1为本发明所述的一种硅板机械清洗装置主剖视图。
图2为本发明所述的一种硅板机械清洗装置中承载滑槽结构图。
图3为图2中沿A-A方向剖视图。
图4为本发明所述的一种硅板机械清洗装置中固定组件俯剖视图。
其中:1、承载底座;11、转动槽;12、承载滑槽;13、矩形凹槽;14、矩形滑槽一;2、转盘;21、转轴;22、软羊毛刷;3、电机;4、滑动组件;41、工字型连接件;42、矩形滑块;43、矩形滑槽二;5、固定组件;51、U型框;511、T型滑槽;512、螺纹孔;52、挡板;53、紧固螺栓;6、定位组件;61、定位块;62、螺纹杆;63、转动板;64、固定盘;65、固定槽;7、连杆;71、圆柱形滑块一;72、圆柱形滑块二。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
如图1至图4所示,一种硅板机械清洗装置,包括承载装置和清洗装置,所述清洗装置包括转盘2,转盘2下表面设有软羊毛刷22,转盘2顶部连接有电机3,将硅板放置在承载装置内,通过转盘2的转动,软羊毛刷22持续对硅板表面的颗粒物以及灰尘进行清理。
在本发明中,所述承载装置包括承载底座1,所述承载底座1中心对称设有四个承载滑槽12,所述承载滑槽12内设有固定组件5,所述固定组件5包括U型框51和挡板52,所述U型框51两端内壁设有T型滑槽511,所述挡板52两端设有T型凸起,所述T型凸起与T型滑槽511滑动连接,将硅板放置在U型框51内,并通过挡板52的移动来调节大小,以适应硅板的尺寸,所述T型滑槽511底端设有若干螺纹孔512,所述螺纹孔512内螺纹连接有紧固螺栓53,当挡板52的位置确定好后,通过紧固螺栓53对挡板52的位置进行固定,防止挡板52自由移动。
在本发明中,所述承载滑槽12底部设有滑动组件4,所述滑动组件4与承载底座1通过连杆7连接,所述滑动组件4包括两块矩形滑块42,所述矩形滑块42之间通过工字型连接件41固接,所述矩形滑块42内表面设有矩形滑槽二43,所述承载滑槽12左、右侧壁对称设有矩形凹槽13,所述矩形凹槽13上、下内壁对称设有矩形滑槽一14,所述矩形滑槽一14和矩形滑槽二43之间通过连杆7连接,所述工字型连接件41前端面与固定组件5连接,当需要取放硅板时,可将固定组件5完全拉出,连杆7的外端和内端分别设有圆柱形滑块一71和圆柱形滑块二72,且圆柱形滑块一71与矩形滑槽一14滑动连接,圆柱形滑块二72与矩形滑槽二43滑动连接。当固定组件5在向外运动的过程中,圆柱形滑块一71在矩形滑槽一14内向外端移动,圆柱形滑块二72在矩形滑槽二43内向外端移动,连杆7绕圆柱形滑块一71转动,这种传动方式可以保证固定组件可以被完全拉出,便于硅板的取放,也便于承载滑槽12内部件的维修与保养。
工字型连接件41前端面设有转动轴,所述转动轴与U型框51通过轴承连接,这种连接方式可以使得固定组件5绕转动轴发生转动,便于对硅板进行翻面,无需将硅板取下重新放置,只需要翻转固定组件5即可,然后将固定组件5推入承载滑槽12内后,可对硅板的另一面进行清洁。
为了防止固定组件5在承载滑槽12内自由移动,在承载滑槽12的外端铰接有定位组件6,所述定位组件6包括定位块61,所述定位块61中部设有定位孔,所述定位孔内表面设有螺纹,定位孔内配合连接有螺纹杆62,螺纹杆62上端设有固定盘64,螺纹杆62下端设有转动板63,承载滑槽12下方设有固定槽65,所述固定槽65内设有固定板,当固定组件5推入承载滑槽12内后,转动定位组件6,并在固定槽65内插入固定板,防止定位组件6自由转动,固定好定位组件6后,转动螺纹杆62下端的转动板63,使固定盘64向固定组件5方向移动,直到固定盘64将U型框51固定。
U型框51内壁设有橡胶层,可以有效的保护硅板边缘不被U型框51磨损。
为了保证转盘2在转动过程中不会出现晃动,在转盘2下表面中心位置设有转轴21,承载底座1上表面中部设有转动槽11,所述转轴21与转动槽11转动连接。
通过本装置,可以快速对硅板完成更换和翻转,减少了更换硅板的时间,提高了工作效率。
本发明并不局限于上述实施例,在本发明公开的技术方案的基础上,本领域的技术人员根据所公开的技术内容,不需要创造性的劳动就可以对其中的一些技术特征作出一些简单修改、等同变化与修饰,均属于本发明技术方案的范围。

Claims (3)

1.一种硅板机械清洗装置,其特征在于,包括承载装置和清洗装置,所述清洗装置包括转盘(2),转盘(2)下表面设有软羊毛刷(22),转盘(2)顶部连接有电机(3),所述承载装置包括承载底座(1),所述承载底座(1)中心对称设有四个承载滑槽(12),所述承载滑槽(12)内设有固定组件(5),所述固定组件(5)包括U型框(51)和挡板(52),所述U型框(51)两端内壁设有T型滑槽(511),所述挡板(52)两端设有T型凸起,所述T型凸起与T型滑槽(511)滑动连接,所述T型滑槽(511)底端设有若干螺纹孔(512),所述螺纹孔(512)内螺纹连接有紧固螺栓(53),所述承载滑槽(12)底部设有滑动组件(4),所述滑动组件(4)与承载底座(1)通过连杆(7)连接,所述滑动组件(4)包括两块矩形滑块(42),所述矩形滑块(42)之间通过工字型连接件(41)固接,所述矩形滑块(42)内表面设有矩形滑槽二(43),所述承载滑槽(12)左、右侧壁对称设有矩形凹槽(13),所述矩形凹槽(13)上、下内壁对称设有矩形滑槽一(14),所述矩形滑槽一(14)和矩形滑槽二(43)之间通过连杆(7)连接,所述工字型连接件(41)前端面设有转动轴,所述转动轴与U型框(51)通过轴承转动连接,所述连杆(7)的外端和内端分别设有圆柱形滑块一(71)和圆柱形滑块二(72),且圆柱形滑块一(71)与矩形滑槽一(14)滑动连接,圆柱形滑块二(72)与矩形滑槽二(43)滑动连接,所述承载滑槽(12)的外端铰接有定位组件(6),所述定位组件(6)包括定位块(61),所述定位块(61)中部设有定位孔,所述定位孔内表面设有螺纹,定位孔内配合连接有螺纹杆(62),所述螺纹杆(62)上端设有固定盘(64),螺纹杆(62)下端设有转动板(63),所述承载滑槽(12)下方设有固定槽(65),所述固定槽(65)内设有固定板。
2.根据权利要求1所述的一种硅板机械清洗装置,其特征在于,转盘(2)下表面中心位置设有转轴(21),承载底座(1)上表面中部设有转动槽(11),所述转轴(21)与转动槽(11)转动连接。
3.根据权利要求1所述的一种硅板机械清洗装置,其特征在于,U型框(51)内壁设有橡胶层。
CN201810334479.0A 2018-04-14 2018-04-14 一种硅板机械清洗装置 Active CN108573904B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810334479.0A CN108573904B (zh) 2018-04-14 2018-04-14 一种硅板机械清洗装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810334479.0A CN108573904B (zh) 2018-04-14 2018-04-14 一种硅板机械清洗装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108573904A CN108573904A (zh) 2018-09-25
CN108573904B true CN108573904B (zh) 2021-08-20

Family

ID=63574843

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810334479.0A Active CN108573904B (zh) 2018-04-14 2018-04-14 一种硅板机械清洗装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108573904B (zh)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000068243A (ja) * 1998-01-13 2000-03-03 Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd ウェーハ洗浄装置
CN1712333A (zh) * 2004-06-22 2005-12-28 大日本网目版制造株式会社 基板翻转装置及方法、基板运送装置及方法、基板处理装置及方法
CN101246812A (zh) * 2007-02-15 2008-08-20 大日本网目版制造株式会社 基板处理装置
CN102844702A (zh) * 2010-04-12 2012-12-26 住友化学株式会社 偏振膜的贴合装置及具有该贴合装置的液晶显示装置的制造系统

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150047442A (ko) * 2013-10-24 2015-05-04 주식회사 케이씨텍 웨이퍼 처리 장치 및 이에 사용되는 웨이퍼 다단계 세정기구
CN106876272A (zh) * 2017-02-21 2017-06-20 电子科技大学 一种fs‑igbt的制造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000068243A (ja) * 1998-01-13 2000-03-03 Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd ウェーハ洗浄装置
CN1712333A (zh) * 2004-06-22 2005-12-28 大日本网目版制造株式会社 基板翻转装置及方法、基板运送装置及方法、基板处理装置及方法
CN101246812A (zh) * 2007-02-15 2008-08-20 大日本网目版制造株式会社 基板处理装置
CN102844702A (zh) * 2010-04-12 2012-12-26 住友化学株式会社 偏振膜的贴合装置及具有该贴合装置的液晶显示装置的制造系统

Also Published As

Publication number Publication date
CN108573904A (zh) 2018-09-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN205263714U (zh) 一种防尘电脑屏幕
CN108573904B (zh) 一种硅板机械清洗装置
JP2001096245A (ja) 洗浄方法および洗浄装置
CN214262889U (zh) 一种集成电路测试用集成电路板除尘装置
CN213700480U (zh) 一种涂层机喷嘴清洁装置
CN210098330U (zh) 一种电子元件表面清洁装置
CN109047238A (zh) 一种化工原料盛放槽清洗装置
CN109834575B (zh) 一种五金加工用铁棒抛光设备
CN218743483U (zh) 一种全自动单片清洗机
CN213096754U (zh) 一种提高防滑效果的防静电台垫
JPS63239953A (ja) 半導体ウエハ−の洗浄装置
CN208245285U (zh) 一种硅片清洗装置
CN207747572U (zh) 一种印刷辊除釉装置
CN217797529U (zh) 一种互联网计算机屏幕清洗设备
CN201188170Y (zh) 光刻版夹具
CN220920161U (zh) 一种机械电气生产用元件清洗装置
KR200390482Y1 (ko) 롤지 이송컨베이어용 청소기
CN212952778U (zh) 一种食品生产用原料清洗设备
CN214600587U (zh) 一种显示器玻璃屏清洗机的定位装置
CN215847508U (zh) 一种基于导轨移动的去焊渣装置
CN204775167U (zh) 无水洗车专用海绵盘及无水洗车装置
CN212524655U (zh) 一种板材加工用喷涂辅助装置
CN214516394U (zh) 一种螺丝光学筛选机
CN213996864U (zh) 用于陶瓷侧边灰尘的擦除装置
CN220575510U (zh) 一种用于课桌椅加工的板材抛光装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20210722

Address after: 241000 room 228, building 2, Chuangye street, 8 Longhu street, Sanshan District, Wuhu City, Anhui Province

Applicant after: WUHU YANGZHAN NEW MATERIALS TECHNOLOGY SERVICE Co.,Ltd.

Address before: 241000 plant 1, office building, Sanshan Economic Development Zone, Wuhu City, Anhui Province (in Wuhu Chenxi New Building Materials Technology Co., Ltd.)

Applicant before: ANHUI JI'NAIER ELECTRICAL APPLIANCE TECHNOLOGY Co.,Ltd.

TA01 Transfer of patent application right
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant