CN108405381A - 清洁装置与方法 - Google Patents

Abstract

一种清洁装置与方法。清洁装置包含一主体、至少一导引滚轮、至少一承载滚轮与至少一清洁件。导引滚轮是连接主体，且导引滚轮具有一第一转轴方向。承载滚轮是连接主体，承载滚轮具有第二转轴方向，且第一转轴方向与第二转轴方向相交。清洁件是设置于主体上。

Description

清洁装置与方法

技术领域

本揭露的部分实施方式是关于一种清洁装置与方法，特别是关于一种用于半导体厂的清洁装置与方法。

背景技术

随着科技日趋成长，集成电路广泛地应用在各个领域中，连带促进半导体产业的蓬勃发展。在半导体产业的高度竞争下，半导体元件须在最有效率的条件下进行设计与制造。因此，自动化物料配送系统(Automated Material Handling System；AMHS)已大量地应用在半导体制造厂中。

一般而言，自动化物料配送系统具有高架式传输系统(Overhead HoistTransport System；OHTS)，高架式传输系统包含高架式轨道以引导输送装置传送晶圆承载单元、或光罩载具至不同制程机台(设备)之间。

发明内容

依据本揭露的部分实施方式，清洁装置包含一主体、至少一导引滚轮、至少一承载滚轮与至少一清洁件。导引滚轮是连接主体，且导引滚轮具有一第一转轴方向。承载滚轮是连接主体，承载滚轮具有第二转轴方向，且第一转轴方向与第二转轴方向相交。清洁件是设置于主体上。

依据本揭露的部分实施方式，清洁装置包含一主体、至少一导引滚轮、至少一承载滚轮、第一清洁件与第二清洁件。导引滚轮是连接主体。承载滚轮是连接主体，且承载滚轮与导引滚轮是位于不同高度。第一清洁件是邻近于导引滚轮，且第二清洁件是邻近于承载滚轮。

依据本揭露的部分实施方式，清洁方法包含以下步骤。移动一主体以沿着一轨道前进。在移动主体时，清洁轨道的第一水平面，且清洁轨道的第二水平面，其中第一水平面的水平高度与第二水平面的水平高度是不同的。

附图说明

阅读以下详细叙述并搭配对应的附图，可了解本揭露的多个样态。需留意的是，附图中的多个特征并未根据该业界领域的标准作法绘制实际比例。事实上，所述的特征的尺寸可以任意的增加或减少以利于讨论的清晰性。

图1为依据本揭露的部分实施方式的清洁装置的俯视图；

图2为依据本揭露的部分实施方式的清洁装置的侧视图；

图3为图2于不同视角的侧视图；

图4为依据本揭露的部分实施方式的清洁装置的系统示意图；

图5为依据本揭露的部分实施方式的清洁方法的流程图；

图6为依据本揭露的另一实施方式的清洁装置的侧视图；

图7为图6于不同视角的侧视图；

图8为依据本揭露的另一实施方式的清洁装置的侧视图；

图9为图8于不同视角的侧视图。

具体实施方式

以下将以附图及详细说明清楚说明本揭露的精神，任何所属技术领域中具有通常知识者在了解本揭露的实施例后，当可由本揭露所教示的技术，加以改变及修饰，其并不脱离本揭露的精神与范围。举例而言，叙述“第一特征形成于第二特征上方或上”，于实施例中将包含第一特征及第二特征具有直接接触；且也将包含第一特征和第二特征为非直接接触，具有额外的特征形成于第一特征和第二特征之间。此外，本揭露在多个范例中将重复使用元件标号以及/或文字。重复的目的在于简化与厘清，而其本身并不会决定多个实施例以及/或所讨论的配置之间的关系。

在本文中所使用的术语，仅是用以描述特定实施例，不应以此叙述限制本揭露。在本文中，除非上下文中另外明确指明，否则单数形式“一”以及“所述”亦欲包含复数形式。进一步理解，术语“包括”、“包含”以及“具有”，在本说明书使用时，用以表示所述特征、区域、整体、步骤、操作、元件和/或成分的存在，但不排除存在或添加一个或多个特征、区域、整体、步骤、操作、元件、成分，和/或以上组合。

此外，方位相对词汇，如“在…之下”、“下面”、“下”、“上方”或“上”或类似词汇，在本文中为用来便于描述绘示于附图中的一个元件或特征至另外的元件或特征的关系。方位相对词汇除了用来描述装置在附图中的方位外，其包含装置于使用或操作下的不同的方位。当装置被另外设置(旋转90度或者其他面向的方位)，本文所用的方位相对词汇同样可相应地进行解释。

同时参照图1与图2。图1为依据本揭露的部分实施方式的清洁装置的俯视图。图2为依据本揭露的部分实施方式的清洁装置的侧视图。于部分实施方式中，清洁装置10包含一主体100、至少一导引滚轮200、至少一承载滚轮300与至少一清洁件400。导引滚轮200是连接主体100，且导引滚轮200具有一第一转轴方向D1。承载滚轮300是连接主体100，且承载滚轮300具有第二转轴方向D2，第一转轴方向D1与第二转轴方向D2相交。清洁件400是设置于主体100上。换句话说，主体100是通过导引滚轮200或承载滚轮300而沿着一轨道600前进，在主体100沿着轨道600前进的过程中，连接于主体100的清洁件400亦会随着主体100而沿着轨道600前进。因此，当清洁件400随着主体100而移动于轨道600时，清洁件400可移除附着于轨道600的粒子、尘埃或异物，从而实现轨道自动化清洁，以利于节省人力耗损。

同时参照图2与图3。图3为图2于不同视角的侧视图。于部分实施方式中，主体100可包含第一侧面110、第二侧面120与第三侧面130，第一侧面110、第二侧面120与第三侧面130是彼此相交的，且共同形成一容纳空间S。容纳空间S可包含至少一个功能组件，例如：驱动马达、电路板、或其他适当元件，以协助清洁装置10的运作，但本揭露不以此为限。举例而言，第一侧面110、第二侧面120与第三侧面130可为金属壳、塑胶壳、以上组合、或其他适当的材料，但本揭露不以此为限。

于部分实施方式中，如图2与图3所示，导引滚轮200是连接于主体100的第一侧面110，且承载滚轮300是连接于主体100的第二侧面120。进一步来说，于部分实施方式中，轨道600可包含导引面610与承载面620，导引面610与承载面620相交。当清洁装置10位于轨道600时，导引滚轮200可与轨道600的导引面610相切，且导引滚轮200可沿着导引面610前进。进一步来说，导引滚轮200可具有一转轴210，转轴210可通过连接件102而连接主体100的第一侧面110。转轴210的轴向方向称为第一转轴方向D1，第一转轴方向D1与导引面610的法向量N1是互相垂直的，因此，导引滚轮200可以滚动的方式沿着导引面610前进。

于部分实施方式中，当清洁装置10位于轨道600时，承载滚轮300可与轨道600的承载面620相切，且承载滚轮300可沿着承载面620前进。进一步来说，承载滚轮300可具有转轴310，转轴310是连接主体100的第二侧面120。转轴310的轴向方向称为第二转轴方向D2，第二转轴方向D2与承载面620的法向量N2是互相垂直的，因此，承载滚轮300可以滚动的方式沿着承载面620前进。如此一来，通过搭配设置导引滚轮200与承载滚轮300，主体100可沿着轨道600的导引面610与承载面620前进，从而帮助控制清洁装置10的前进方向。此外，在承载滚轮300与承载面620的互相作用之下，承载面620可支撑清洁装置10的至少部分重量，使得清洁装置10可为悬吊式的，以利于将清洁装置10应用于高架式轨道中。

于部分实施方式中，当清洁装置10位于轨道600时，主体100的第一侧面110是平行于承载面620、主体100的第二侧面120是平行于导引面610，且主体100的第三侧面130可与承载面620以及导引面610相交。第一侧面110的至少一部分可位于承载面620之上，且第二侧面120与第三侧面130可位于两个导引面610之间。于其他实施方式中，在导引滚轮200的第一转轴方向D1垂直于导引面610的法向量N1，且承载滚轮300的第二转轴方向D2垂直于承载面620的法向量N2的前提下，第一侧面110、第二侧面120与第三侧面130的空间位置是可自由地设计，本揭露不以此为限。

于部分实施方式中，如图2与图3所示，清洁装置10还包含一辅助导引滚轮220，辅助导引滚轮220是连接于主体100的第一侧面110，且辅助导引滚轮220与导引滚轮200是分别位于主体100的相对两侧。也就是说，辅助导引滚轮220所在的水平高度与导引滚轮200所在的水平高度是不同的。举例而言，当清洁装置10位于轨道600时，辅助导引滚轮220所在的水平高度是高于导引滚轮200所在的水平高度。

进一步来说，于部分实施方式中，如图1所示，轨道600可包含辅助导引件640，辅助导引件640是邻设设于轨道600的弯曲处，用以协助移动于弯曲处的清洁装置10转弯。也就是说，当清洁装置10通过轨道600的弯曲处时，清洁装置10的辅助导引滚轮220可与部分的辅助导引件640相切，从而帮助清洁装置10顺着轨道600的弯曲处转弯。

于部分实施方式中，如图2与图3所示，清洁件400可包含一刷子402，刷子402能够随着导引滚轮200与承载滚轮300的其中一者移动。因此，通过移动导引滚轮200、承载滚轮300、或以上两者，刷子402可移动而产生的足够剪力，以移除附着于轨道600上的粒子、尘埃或异物。举例而言，刷子402可为薄平状的刷子、笔状的刷子、或旋转状的刷子，但本揭露不以此为限。举例而言，刷子402的材料可为聚乙烯醇(PVA)、塑胶、或尼龙，但本揭露不以此为限。举例而言，于部分实施方式中，刷子402可为一真空刷，亦即，刷子402可结合一吸入口，吸入口可用以对此刷子402之下的粒子、尘埃或异物进行真空清洁，但本揭露不以此为限。

于部分实施方式中，如图2与图3所示，清洁件400包含一吸嘴404，吸嘴404能够随着导引滚轮200与承载滚轮300的其中一者移动。也就是说，当主体100通过导引滚轮200或承载滚轮300移动于轨道600中而具有一移动路径时，吸嘴404亦具有与主体100相同的移动路径。举例而言，吸嘴404可为硬式吸嘴、软式吸嘴、或以上组合，但本揭露不以此为限。举例而言，吸嘴可为单一段、多段、或多组件吸嘴，但本揭露不以此为限。于其他实施方式中，吸嘴404中可包含吸收剂、吸附剂、气溶胶改性剂、添加剂、或以上组合，但本揭露不以此为限。

更详细地说，于部分实施方式中，如图2所示，吸嘴404是连通一吸尘组件406，例如：吸尘器、或真空产生器，吸尘组件406可抽取吸嘴404内的气体，借此提供压力差而以抽吸的方式移除位于移动路径上的轨道600的粒子、尘埃或异物。如图2所示，吸尘组件406可位于主体100之下，而通过连接件408连接于主体100的第一侧面110。因此，吸尘组件406可位于轨道600之下，从而帮助避免清洁装置10于轨道600上方的尺寸过大。

于部分实施方式中，如图2所示，清洁件400的数量为多个，且此多个清洁件400是分别位于不同的水平高度。更详细地说，清洁件400可分为第一清洁件410与第二清洁件420。第一清洁件410是邻近于导引滚轮200，第二清洁件420是邻近于承载滚轮300。导引滚轮200与承载滚轮300是位于不同高度，且第一清洁件410与第二清洁件420是位于不同高度。举例而言，当清洁装置10位于轨道600时，承载滚轮300所在的水平高度是大于导引滚轮200所在的水平高度，因此，第一清洁件410的水平高度亦是大于第二清洁件420的水平高度，但本揭露不以此为限。如此一来，当第一清洁件410与第二清洁件420随着导引滚轮200或承载滚轮300移动于轨道600时，由于第一清洁件410所在的水平高度与第二清洁件420所在的水平高度是不同的，因此第一清洁件410可清洁轨道600的第一部分，第二清洁件420可清洁轨道600的第二部分，轨道600的第一部分的水平高度与轨道600的第二部分的水平高度是不同的，故清洁装置10可较为完善地清洁轨道600的不同部分。

于部分实施方式中，如图2所示，第一清洁件410的数量可为多个，且多个第一清洁件410是间隔地设置于主体100的第一侧面110上。第一清洁件410是通过一连接件102而与主体100连接，亦即，连接件102是连接于主体100的第一侧面110与第一清洁件410之间。举例而言，连接件102可包含螺丝、螺栓、卡扣件或其他适当的固定件，但本揭露不以此为限。进一步来说，第一清洁件410可通过连接件102连接而位于导引滚轮200之下。亦即，通过调整连接件102的长度，可调整第一清洁件410的位置，使得第一清洁件410的水平高度低于导引滚轮200的水平高度。于其他实施方式中，第一清洁件410的水平高度可等于导引滚轮200的水平高度，但本揭露部以此为限。

于部分实施方式中，如图2所示，第二清洁件420的数量可为多个，且多个第二清洁件420是设置于主体100的相对两第二侧面120上。第二清洁件420是通过一连接件104而与主体100连接，亦即，连接件104是连接于主体100的第二侧面120与第二清洁件420之间。举例而言，连接件104可包含螺丝、螺栓、卡扣件或其他适当的固定件，但本揭露不以此为限。进一步来说，第二清洁件420可通过连接件104连接而位于承载滚轮300的外侧。此外，通过调整连接件102的长度与位置，可调整第二清洁件420的位置，使得第二清洁件420可接触轨道600的承载面620，而不会干扰承载滚轮300的移动。于其他实施方式中，第二清洁件420可电性连接一清洁件致动器422。清洁件致动器422是用以控制第二清洁件420，使得第二清洁件420可沿着第一转轴方向D1移动，且第一转轴方向D1是平行于第二清洁件420所接触的承载面620的法向量N2，但本揭露不以此为限。

于部分实施方式中，如图1与图2所示，轨道600包含一辅助加固面630，辅助加固面630是平行于承载面620，且承载面620所在的水平高度是不同于辅助加固面630所在的水平高度。当清洁装置10位于轨道600时，第一清洁件410可接触轨道600的辅助加固面630，且第二清洁件420是接触轨道600的承载面620。换句话说，当第一清洁件410与第二清洁件420随着导引滚轮200或承载滚轮300移动于轨道600时，第一清洁件410可移除附着于辅助加固面630上的粒子、尘埃或异物，且第二清洁件420可移除附着于承载面620上的粒子、尘埃或异物。

举例而言，于部分实施方式中，第一清洁件410可包含刷子402、吸嘴404、静电布、以上组合、或其他适当的清洁元件，但本揭露不以此为限。第二清洁件420可包含刷子402、吸嘴404、静电布、以上组合、或其他适当的清洁元件，但本揭露不以此为限。于部分实施方式中，第一清洁件410所具有的元件可与第二清洁件420所具有的元件相同。于其他实施方式中，依据第一清洁件410与第二清洁件420所欲清洁的轨道600的部分，可使得第一清洁件410所具有的元件与第二清洁件420所具有的元件不同，但本揭露不以此为限。

于部分实施方式中，如图2所示，至少一导引滚轮200的数量为多个，至少一承载滚轮300的数量为多个，这些导引滚轮200分别具有相距最远的两端部202，导引滚轮200的两端部202的距离小于承载滚轮300的最短距离。进一步来说，多个承载滚轮300可分别连接于主体100的相对两第二侧面120上。亦即，多个承载滚轮300可依其位置而分类为第一承载滚轮300与第二承载滚轮300，第一承载滚轮300是位于图2中的主体100的左侧，第二承载滚轮300是位于主体100的右侧，且第一承载滚轮300与第二承载滚轮300之间具有最小距离A1。多个导引滚轮200可间隔地连接于主体100的同一第一侧面110上，且导引滚轮200的端部202可接触轨道600的导引面610，两端部202之间相隔距离A2。导引滚轮200的两端部202之间的水平距离A2是小于承载滚轮300之间的最小距离A1。

换句话说，于部分实施方式中，如图2所示，导引滚轮200可与导引面610的第一部分612接触，且承载滚轮300可与承载面620的第一部分622接触。承载面620的第一部分622之间的最小距离是大于导引面610的第一部分612之间的最小距离。亦即，清洁装置10的导引滚轮200与承载滚轮300是经设计以移动于轨道600中。举例而言，于部分实施方式中，导引滚轮200的两端部202之间的距离A2是等于导引面610的第一部分612之间的最小距离，但本揭露不以此为限。

于部分实施方式中，清洁装置10包含致动器700。致动器700是用以控制导引滚轮200与承载滚轮300的其中一者移动。换句话说，致动器700是经配置以控制导引滚轮200、承载滚轮300、或以上两者以滚动的方式移动。致动器700可设置于主体100的容纳空间S中，且致动器700可为电动致动器、电磁致动器、气动致动器、液压致动器、伺服气动致动器、伺服液压致动器、或其他适当的致动器，但本揭露不以此为限。举例而言，致动器700可为轴承马达、或电动马达，但本揭露不以此为限。

于部分实施方式中，清洁装置10还包含一摄像装置800，且摄像装置800能够随着导引滚轮200与承载滚轮300的其中至少一者移动。进一步来说，摄像装置800是用以撷取且记录清洁装置10移动于轨道600上的轨道影像。举例而言，摄像装置800可设置主体100的第一侧面110、第二侧面120、第三侧面130、或以上组合上，因此，位于第一侧面110的摄像装置800可拍摄轨道600的辅助加固面630的轨道影像、位于第二侧面120的摄像装置800可拍摄轨道600的承载面620的轨道影像、或位于第三侧面130的摄像装置800可拍摄轨道的导引面610的轨道影像、承载面620的轨道影像、辅助加固面630的轨道影像、或以上组合，但本揭露不以此为限。

参照图4。图4为依据本揭露的部分实施方式的清洁装置的系统示意图。于部分实施方式中，清洁装置10可包含处理装置910，处理装置910可设置于主体100的容纳空间S中，且摄像装置800可电性连接处理装置910。处理装置910可以是中央处理器、控制元件、微处理器、服务器或其他可执行指令的硬件元件，但本揭露不以此为限。当摄像装置800电性连接处理装置910时，处理装置910可控制摄像装置800于每单位时间内拍摄一轨道影像，且记录每一轨道影像所被拍摄的时间与拍摄当下所在轨道的位置。进一步来说，于部分实施方式中，清洁装置10可包含一轨道影像分析模块920，轨道影像分析模块920可用以判断轨道影像中的粒子、尘埃或异物的多寡，而回报一轨道清洁状态S予处理装置910。随后，处理装置910可依据轨道清洁状态S而发出指令予致动器700，而致动器700可调整导引滚轮200、承载滚轮300、或以上两者移动的速度，从而调整清洁件400移动于轨道中的速度，但本揭露不以此为限。

举例而言，于部分实施方式中，轨道影像分析模块920可被整合至处理装置910中。处理装置910可以是中央处理器、控制元件、微处理器、服务器或其他可执行指令的硬件元件，但本揭露不以此为限。于其他实施方式中，轨道影像分析模块920可由计算机程序所实现且储存于储存装置中。储存装置包含非暂态计算机可读取记录媒体或其他具有储存功能的装置。此计算机程序包括多个程序指令，这些程序指令可由一中央处理器来执行，从而执行各模块的功能，但本揭露不以此为限。

于部分实施方式中，摄像装置800所撷取的轨道影像亦可作为判断轨道600、或其他相关装置的异常的根据。举例而言，当轨道600中的缆线、光收发装置、红外线感测装置等发生异常时，若清洁装置10于发生异常之前一段时间内是通过此发生异常的轨道，亦可透过查看摄像装置800所撷取的轨道影像，而分析发生异常的可能性、或排除发生异常的可能性，但本揭露不以此为限。

于部分实施方式中，如图4所示，清洁装置10可包含轨道数据储存模块930与路径控制模块940。举例而言，轨道数据储存模块930是经设计而可储存有每一轨道的位置数据，且针对每一轨道、轨道的不同位置定义有不同座标值。因此，当清洁装置10移动于轨道时，轨道数据储存模块930可提供轨道的座标值予清洁装置10的路径控制模块940，以帮助确保清洁装置10可依据预设路径移动于轨道中。更详细地说，轨道数据储存模块930与路径控制模块940可被整合至清洁装置10的处理装置910中，处理装置910可透过路径控制模块940所提供的指令而驱动致动器700运作，从而使得导引滚轮200、承载滚轮300、或以上两者移动。举例而言，于部分实施方式中，路径控制模块940可被写入多条预设路径，每一预设路径是对应不同时间点，例如：于第一时间点与第二时间点之间是对应第一轨道路径、于第二时间点与第三时间点是对应第二轨道路径，但本揭露不以此为限。如此一来，通过搭配设置致动器700、轨道数据储存模块930与路径控制模块940，清洁装置10可经设计而于不同时段自动地移动于不同轨道区间(亦即移动于不同轨道路径)。换句话说，清洁装置10可结合自动排程的功能而于不同时间自动地清洁不同轨道区间。

举例而言，于部分实施方式中，清洁装置10的路径控制可包含一制造执行系统(Manufacturing Execution System；MES)，制造执行系统可具有规划物件的传送路径的功能、最佳化物件的传送路径的功能、或记录物件的传送路径的功能…等功能。清洁装置10的路径控制模块940可依据制造执行系统所发出的指令，控制致动器700而调整导引滚轮200、承载滚轮300或以上两者的方向，从而帮助调整清洁装置10的移动路径，但本揭露不以此为限。

于部分实施方式中，当清洁装置10应用于半导体厂时，清洁装置10可讯号连接至一原料控制系统(material control system；MCS)，从而避免清洁装置10与其他移动于轨道上的物件发生碰撞的可能性。进一步来说，原料控制系统可连接多部主机(hostcomputer)，而每一主机连接至一或多个机台。主机中可内嵌机台自动化程序(EquipmentAutomation Program；EAP)，用以于物件、机台与清洁装置10之间传递讯息与发布指令。举例来说，移动于轨道上的物件是用以沿着轨道移动而于不同制程机台之间传送晶圆承载单元、或光罩承载单元，但本揭露不以此为限。

参照图5。图5为依据本揭露的部分实施方式中的清洁方法的步骤流程图。于部分实施方式中，清洁方法包含以下步骤。于步骤S10中，移动一主体100以沿着一轨道前进。于步骤S20中，在移动主体100时，清洁轨道600的第一水平面(亦即导引面610)，且清洁轨道600的第二水平面(亦即承载面620)，其中第一水平面的水平高度与第二水平面的水平高度是不同的。此外，在移动主体100时，撷取与记录轨道600的多个轨道影像。

同时参照图6与图7。图6为依据本揭露的另一实施方式的清洁装置的侧视图。图7为图6于不同视角的侧视图。本实施方式与图2的实施方式的主要差异在于：清洁装置10a还包含第三清洁件430，第三清洁单元是设置于第二侧面120上，且邻近辅助导引件640。第三清洁件430所在的水平高度与第二清洁件420所在的水平高度是不同的，且第三清洁件430所在的水平高度与第一清洁件410所在的水平高度是不同的。举例而言，当清洁装置10a位于轨道600时，第三清洁件430所在的水平高度是大于第二清洁件420所在的水平高度，且第三清洁件430所在的水平高度是大于第一清洁件410所在的水平高度。由于第三清洁件430是邻近辅助导引件640，因此，当清洁装置10a通过轨道600的辅助导引件640时，第三清洁件430可移除附着于辅助导引件640上的粒子、尘埃或异物，以利于完善地清洁轨道的各个部份。

更详细地说，于部分实施方式中，如图6所示，辅助导引件640包含相交的第一辅助水平面632与第二辅助垂直面634，第一辅助水平面632是平行于承载面620，且第二辅助垂直面634是平行于导引面610。举例而言，第三清洁件430是经配置而可接触辅助导引件640的第一辅助水平面632，从而清洁第一辅助水平面632。或者，第三清洁件430是经设置而可接触辅助导引件640的第二辅助垂直面634，从而清洁第二辅助垂直面634，但本揭露不以此为限。本实施方式的其他细节大致上如前所述，在此不再赘述。

同时参照图8与图9。图8为依据本揭露的另一实施方式的清洁装置的侧视图。图9为图8于不同视角的侧视图。本实施方式与图2的实施方式的主要差异在于：清洁装置10b还包含第四清洁件440，第四清洁件440是设置于相对远离辅助导引件640的第二侧面120上。第四清洁件440所在的水平高度与第二清洁件420所在的水平高度是不同的，且第四清洁件440所在的水平高度与第一清洁件410所在的水平高度是不同的。举例而言，当清洁装置10b位于轨道600时，第四清洁件440所在的水平高度是高于第二清洁件420所在的水平高度，且第四清洁件440所在的水平高度是高于第一清洁件410所在的水平高度。进一步来说，第四清洁件440是通过连接件102而连接于主体100的第二侧面120，且连接件104与第四清洁件440是朝着承载面620的法向量N2排列的。也就是说，第四清洁件440的清洁组件(例如：刷子、吸嘴、其他适当的清洁件、或以上组合)是朝向图8的上方，但本揭露不以此为限。本实施方式的其他细节大致上如前所述，在此不再赘述。本实施方式的其他细节大致上如前所述，在此不再赘述。

依据本揭露的部分实施方式，清洁装置包含一主体、至少一导引滚轮、至少一承载滚轮与至少一清洁件。导引滚轮是连接主体，且导引滚轮具有一第一转轴方向。承载滚轮是连接主体，承载滚轮具有第二转轴方向，且第一转轴方向与第二转轴方向相交。清洁件是设置于主体上。

依据本揭露的部分实施方式，其中清洁件包含一吸嘴，吸嘴能够随着导引滚轮与承载滚轮的其中至少一者移动。

依据本揭露的部分实施方式，其中清洁件包含一刷子，刷子能够随着导引滚轮与承载滚轮的其中至少一者移动。

依据本揭露的部分实施方式，其中至少一清洁件的数量为多个，这些清洁件分别位于不同的高度。

依据本揭露的部分实施方式，其中至少一承载滚轮的数量为多个，且至少一导引滚轮的数量为多个，这些导引滚轮分别具有相距最远的两端部，此两端部的距离小于这些承载滚轮的最短距离。

依据本揭露的部分实施方式，清洁装置还包含一致动器，用以控制承载滚轮与导引滚轮的其中至少一者移动。

依据本揭露的部分实施方式，清洁装置包含一主体、至少一导引滚轮、至少一承载滚轮、第一清洁件与第二清洁件。导引滚轮是连接主体。承载滚轮是连接主体，且承载滚轮与导引滚轮是位于不同高度。第一清洁件是邻近于导引滚轮，且第二清洁件是邻近于承载滚轮。

依据本揭露的部分实施方式，清洁装置还包含一摄像装置，摄像装置能够随着导引滚轮与承载滚轮的其中至少一者移动。

依据本揭露的部分实施方式，清洁方法包含以下步骤。移动一主体以沿着一轨道前进。在移动主体时，清洁轨道的第一水平面，且清洁轨道的第二水平面，其中第一水平面的水平高度与第二水平面的水平高度是不同的。

依据本揭露的部分实施方式，其中在移动主体时，撷取与记录该轨道的多个轨道影像。

上述已概述数个实施方式的特征，因此熟悉此技艺者可更了解本揭露的态样。熟悉此技艺者应了解到，其可轻易地利用本揭露作为基础，来设计或润饰其他制程与结构，以实现与在此所介绍的实施方式相同的目的及/或达到相同的优点。熟悉此技艺者也应了解到，这类均等架构并未脱离本揭露的精神和范围，且熟悉此技艺者可在不脱离本揭露的精神和范围下，进行各种的更动、取代与润饰。

Claims (10)

1.一种清洁装置，其特征在于，包含：

一主体；

至少一导引滚轮，连接该主体，且该导引滚轮具有一第一转轴方向；

至少一承载滚轮，连接该主体，且该承载滚轮具有一第二转轴方向，该第一转轴方向与该第二转轴方向相交；以及

至少一清洁件，设置于该主体上。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，该清洁件包含一吸嘴，该吸嘴能够随着该导引滚轮与该承载滚轮的其中至少一者移动。

3.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，该清洁件包含一刷子，该刷子能够随着该导引滚轮与该承载滚轮的其中至少一者移动。

4.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，该至少一清洁件的数量为多个，所述多个清洁件分别位于不同的高度。

5.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，该至少一承载滚轮的数量为多个，该至少一导引滚轮的数量为多个，所述多个导引滚轮分别具有相距最远的两端部，该两端部的距离小于所述多个承载滚轮的最短距离。

6.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，还包含：

一致动器，用以控制该承载滚轮与该导引滚轮的其中至少一者移动。

7.一种清洁装置，其特征在于，包含：

一主体；

至少一导引滚轮，连接该主体；

至少一承载滚轮，连接该主体，该承载滚轮与该导引滚轮是位于不同高度；

一第一清洁件，邻近于该导引滚轮；以及

一第二清洁件，邻近于该承载滚轮。

8.根据权利要求7所述的清洁装置，其特征在于，还包含：

一摄像装置，能够随着该导引滚轮与该承载滚轮的其中至少一者移动。

9.一种清洁方法，其特征在于，包含：

移动一主体以沿着一轨道前进；

在该移动该主体时，清洁该轨道的一第一水平面，且清洁该轨道的一第二水平面，其中该第一水平面的一水平高度与该第二水平面的一水平高度是不同的。

10.根据权利要求9所述的清洁方法，其特征在于，在该移动该主体时，撷取与记录该轨道的多个轨道影像。