CN108388087A - 边缘曝光机及边缘曝光方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种边缘曝光机及边缘曝光方法。该边缘曝光机包括：用于从基板上方曝光基板边缘的光源；用于从基板下方通过真空吸附固定基板并向上支撑基板的真空垫；位于边缘曝光机的腔室底部用于在基板下方反射光源所发出向下光线的反光底板，当边缘曝光机对一基板边缘曝光时，所述反光底板对应于所述基板边缘的部分产生一反光范围；还包括平移机构，用于调整临近所述基板边缘的真空垫与所述基板边缘之间的水平相对位置，以使临近所述基板边缘的真空垫趋向于离开所述反光范围。本发明还提供了相应的边缘曝光方法。本发明的边缘曝光机及边缘曝光方法，减少反射光线光强对基板照射的影响，很好的解决真空垫亮暗不均的产生，减少良率损失。

Description

边缘曝光机及边缘曝光方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种边缘曝光机及边缘曝光方法。

背景技术

在LCD显示面板与OLED显示面板的制造过程中，会经常用到光刻制程：具体为在涂有光刻胶的基板上方放置掩膜板，然后利用曝光机对基板进行曝光，曝光机通过开启超高压水银灯发出紫外光线，将掩膜板上的图像信息转移到涂有光刻胶的基板表面上，基于掩膜板的图案，光刻胶会有被曝光的部分和未被曝光的部分；再利用显影液对光刻胶进行显影，即可去除光刻胶被曝光的部分，保留光刻胶未被曝光的部分，或者去除光刻胶未被曝光的部分，保留光刻胶被曝光的部分，从而使光刻胶形成所需的图形；最后进行蚀刻，在基板上形成相应的图案。

近年来，中小尺寸液晶显示器发展迅猛，低温多晶硅(LTPS)制程过程中需要使用到边缘曝光机，对基板长短边进行洗边，去除金属等边缘导电物质。

如图1所示，其为现有边缘曝光机的真空垫亮暗不均产生原理示意图，图中以箭头表示光线方向。在边缘曝光机的曝光制程中，透明的基板1是由多个真空垫(pad)2以真空吸附的方式从基板1下方支撑固定在曝光位置，边缘曝光机的光源3露光时照射到基板1边缘和基板1边缘旁边的光线，将通过边缘曝光机腔室(chamber)内的反光底板4与基板1边缘上下对应的部分被反射回来，此反射光对基板1产生了露光效应。反光底板4与基板1边缘相对应的部分反射光源3的光线所产生的反光范围与光源3相对于基板1边缘的位置有关，反光范围可预先确定，图1中虚线光线所涵盖范围即为相对于基板1所产生的反射范围。当真空垫2处于反射范围时，处于基板1边缘位置的真空垫2挡住了从下面反射回来的光线，真空垫2周围的感光部分和遮光部分形成了鲜明的对比而导致真空垫2对应的遮光部分关键尺寸(CD)变化趋势明显，进而导致四方状亮暗不均(Mura)的产生。

发明内容

因此，本发明的目的在于提供一种边缘曝光机及边缘曝光方法，避免真空垫亮暗不均的产生。

为实现上述目的，本发明提供了一种边缘曝光机，包括：用于从基板上方曝光基板边缘的光源；用于从基板下方通过真空吸附固定基板并向上支撑基板的真空垫；位于边缘曝光机的腔室底部用于在基板下方反射光源所发出向下光线的反光底板，当边缘曝光机对一基板边缘曝光时，所述反光底板对应于所述基板边缘的部分产生一反光范围；还包括平移机构，用于调整临近所述基板边缘的真空垫与所述基板边缘之间的水平相对位置，以使临近所述基板边缘的真空垫趋向于离开所述反光范围。

其中，所述平移机构使临近所述基板边缘的真空垫位于所述反光范围外。

其中，所述平移机构包括水平滑轨和能够在所述水平滑轨上水平滑动的滑块，临近所述基板边缘的真空垫固定至所述滑块。

其中，所述反光底板包括位于中心的中心底板以及与中心底板分离的位于中心底板边缘的倾斜底板，所述倾斜底板为所述反光底板对应于所述基板边缘的部分；所述倾斜底板设有角度调节机构，用于调整所述倾斜底板的反光角度，以使所述反光范围趋向于离开临近所述基板边缘的真空垫。

其中，所述角度调节结构包括固定底座和固定底座上的转轴，所述倾斜底板通过转轴安装至固定底座。

其中，所述角度调节机构调整所述倾斜底板的反光角度，使所述反光范围位于基板范围外。

其中，所述边缘曝光机应用于小于15英寸的中小尺寸的液晶屏幕生产领域。

本发明还提供了一种边缘曝光机，包括：用于从基板上方曝光基板边缘的光源；用于从基板下方通过真空吸附固定基板并向上支撑基板的真空垫；位于边缘曝光机的腔室底部用于在基板下方反射光源所发出向下光线的反光底板，当边缘曝光机对一基板边缘曝光时，所述反光底板对应于所述基板边缘的部分产生一反光范围；所述反光底板包括位于中心的中心底板以及与中心底板分离的位于中心底板边缘的倾斜底板，所述倾斜底板为所述反光底板对应于所述基板边缘的部分；所述倾斜底板设有角度调节机构，用于调整所述倾斜底板的反光角度，以使所述反光范围趋向于离开临近所述基板边缘的真空垫。

本发明还提供了一种边缘曝光机的边缘曝光方法，包括：

光源从基板上方曝光基板边缘；

真空垫从基板下方通过真空吸附固定基板并向上支撑基板；

反光底板在基板下方反射光源所发出的向下光线，当对一基板边缘曝光时，所述反光底板对应于所述基板边缘的部分产生一反光范围；

调整临近所述基板边缘的真空垫与所述基板边缘之间的水平相对位置，以使临近所述基板边缘的真空垫趋向于离开所述反光范围。

其中，还包括：

所述反光底板包括位于中心的中心底板以及与中心底板分离的位于中心底板边缘的倾斜底板，所述倾斜底板为所述反光底板对应于所述基板边缘的部分；

调整所述倾斜底板的反光角度，以使所述反光范围趋向于离开临近所述基板边缘的真空垫。

综上，本发明的边缘曝光机及边缘曝光方法，减少反射光线光强对基板照射的影响，很好的解决真空垫亮暗不均的产生，减少良率损失。

附图说明

下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其他有益效果显而易见。

附图中，

图1为现有边缘曝光机的真空垫亮暗不均产生原理示意图；

图2为本发明边缘曝光机一较佳实施例的结构示意图。

具体实施方式

参见图2，其为本发明边缘曝光机一较佳实施例的结构示意图。本发明的边缘曝光机主要包括：用于从基板1上方曝光基板边缘11的光源3；用于从基板1下方通过真空吸附固定基板1并向上支撑基板的真空垫20；位于边缘曝光机的腔室底部用于在基板1下方反射光源3所发出向下光线的反光底板，具体可包括中心底板40和倾斜底板41，当边缘曝光机对一基板边缘11曝光时，反光底板对应于基板边缘11的部分产生一反光范围；还包括平移机构，用于调整临近基板边缘11的真空垫20与基板边缘11之间的水平相对位置，以使临近基板边缘11的真空垫20趋向于离开反光范围，图2中以虚线和方向箭头表示真空垫20的移动趋势；优选为通过平移机构预先调整临近基板边缘11的真空垫20位置，使其位于反光范围外，以避免后续边缘曝光制程时产生真空垫亮暗不均。

因每种光阻都有一定的感光度，经过边缘曝光机反光底板所反射的光的能量若不足以使光阻发生露光效应，就不会产生真空垫亮暗不均，通过图2所示实施例，本发明可以利用平移机构将真空垫20位置向基板1中央内缩，使真空垫20对应的遮光部分远离反光范围，减少反射光线光强对基板1照射的影响。

在此实施例中，图2简单图示了一种平移机构作为举例，主要包括水平滑轨21和能够在水平滑轨21上水平滑动的滑块22，临近基板边缘11的真空垫20固定至滑块22。在真空垫20吸附基板1之前，根据反光范围，可以预先将真空垫20通过滑块22平移到适当位置，然后利用制动装置固定位置，从而可以避免后续产生真空垫亮暗不均现象。平移机构可以不仅限于一个方向进行平移，也可以设置为可以沿多个方向水平移动，或者也可以在多个方向设置平移机构，以适用于处于基板1各个边缘方向的真空垫20。

在此较佳实施例中，还将边缘曝光机腔室底部反光底板进行倾斜，使反射光线反射到基板1范围外。反光底板主要包括位于中心的中心底板40以及与中心底板40分离的位于中心底板40边缘的倾斜底板41，倾斜底板41为反光底板对应于基板边缘11的部分；倾斜底板41设有角度调节机构，用于调整倾斜底板41的反光角度，以使反光范围趋向于离开临近基板边缘11的真空垫20。

在此实施例中，图2简单图示了一种角度调节结构作为举例，主要包括固定底座42和固定底座42上的转轴43，倾斜底板41通过转轴43安装至固定底座42，利用转轴43控制倾斜底板41的倾斜角度，也就是控制反光角度，倾斜底板41旋转到适当角度后通过制动装置固定角度。角度调节机构通过调整倾斜底板41的反光角度，可以使反光范围位于基板1范围外，朝向远离基板边缘11的方向反光。倾斜底板41可以设置于中心底板40四周的各个方向，以配合基板1各个方向边缘的曝光制程。

在图2所示实施例中，本发明通过将现有边缘曝光机真空垫位置调整，并且同步将腔室底部反光底板进行倾斜，使光线反射到基板范围外，很好的避免了真空垫亮暗不均的产生；本发明通过结合以上两个改善方式，能很好的解决真空垫亮暗不均的产生，减少良率损失(loss)。

另一方面，在本发明的其他实施例的边缘曝光机中，也可以分别单独使用以上两个改善方式，即仅设有真空垫平移机构，或者仅设有倾斜底板。

根据上述实施例中的边缘曝光机，本发明还提供了相应的边缘曝光方法，主要包括：

光源从基板上方曝光基板边缘；

真空垫从基板下方通过真空吸附固定基板并向上支撑基板；

反光底板在基板下方反射光源所发出的向下光线，当对一基板边缘曝光时，所述反光底板对应于所述基板边缘的部分产生一反光范围；

调整临近所述基板边缘的真空垫与所述基板边缘之间的水平相对位置，以使临近所述基板边缘的真空垫趋向于离开所述反光范围。

进一步还可以包括：

所述反光底板包括位于中心的中心底板以及与中心底板分离的位于中心底板边缘的倾斜底板，所述倾斜底板为所述反光底板对应于所述基板边缘的部分；

调整所述倾斜底板的反光角度，以使所述反光范围趋向于离开临近所述基板边缘的真空垫。

本发明的边缘曝光机可以具体应用于小于15英寸的中小尺寸的液晶屏幕生产领域。本发明通过对边缘曝光机真空垫及反光底板等进行改进，很好的解决了真空垫亮暗不均的问题，边缘曝光机的具体结构可以参考现有技术，此不再赘述。

综上，本发明的边缘曝光机及边缘曝光方法，减少反射光线光强对基板照射的影响，很好的解决真空垫亮暗不均的产生，减少良率损失。

以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种边缘曝光机，其特征在于，包括：用于从基板上方曝光基板边缘的光源；用于从基板下方通过真空吸附固定基板并向上支撑基板的真空垫；位于边缘曝光机的腔室底部用于在基板下方反射光源所发出向下光线的反光底板，当边缘曝光机对一基板边缘曝光时，所述反光底板对应于所述基板边缘的部分产生一反光范围；还包括平移机构，用于调整临近所述基板边缘的真空垫与所述基板边缘之间的水平相对位置，以使临近所述基板边缘的真空垫趋向于离开所述反光范围。

2.如权利要求1所述的边缘曝光机，其特征在于，通过所述平移机构使临近所述基板边缘的真空垫位于所述反光范围外。

3.如权利要求1所述的边缘曝光机，其特征在于，所述平移机构包括水平滑轨和能够在所述水平滑轨上水平滑动的滑块，临近所述基板边缘的真空垫固定至所述滑块。

4.如权利要求1所述的边缘曝光机，其特征在于，所述反光底板包括位于中心的中心底板以及与中心底板分离的位于中心底板边缘的倾斜底板，所述倾斜底板为所述反光底板对应于所述基板边缘的部分；所述倾斜底板设有角度调节机构，用于调整所述倾斜底板的反光角度，以使所述反光范围趋向于离开临近所述基板边缘的真空垫。

5.如权利要求4所述的边缘曝光机，其特征在于，所述角度调节结构包括固定底座和固定底座上的转轴，所述倾斜底板通过转轴安装至固定底座。

6.如权利要求4所述的边缘曝光机，其特征在于，通过所述角度调节机构调整所述倾斜底板的反光角度，使所述反光范围位于基板范围外。

7.如权利要求1所述的边缘曝光机，其特征在于，所述边缘曝光机应用于小于15英寸的中小尺寸的液晶屏幕生产领域。

8.一种边缘曝光机，其特征在于，包括：用于从基板上方曝光基板边缘的光源；用于从基板下方通过真空吸附固定基板并向上支撑基板的真空垫；位于边缘曝光机的腔室底部用于在基板下方反射光源所发出向下光线的反光底板，当边缘曝光机对一基板边缘曝光时，所述反光底板对应于所述基板边缘的部分产生一反光范围；所述反光底板包括位于中心的中心底板以及与中心底板分离的位于中心底板边缘的倾斜底板，所述倾斜底板为所述反光底板对应于所述基板边缘的部分；所述倾斜底板设有角度调节机构，用于调整所述倾斜底板的反光角度，以使所述反光范围趋向于离开临近所述基板边缘的真空垫。

9.一种如权利要求1所述边缘曝光机的边缘曝光方法，其特征在于，包括：

光源从基板上方曝光基板边缘；

真空垫从基板下方通过真空吸附固定基板并向上支撑基板；

反光底板在基板下方反射光源所发出的向下光线，当对一基板边缘曝光时，所述反光底板对应于所述基板边缘的部分产生一反光范围；

调整临近所述基板边缘的真空垫与所述基板边缘之间的水平相对位置，以使临近所述基板边缘的真空垫趋向于离开所述反光范围。

10.如权利要求9所述边缘曝光机的边缘曝光方法，其特征在于，还包括：

所述反光底板包括位于中心的中心底板以及与中心底板分离的位于中心底板边缘的倾斜底板，所述倾斜底板为所述反光底板对应于所述基板边缘的部分；

调整所述倾斜底板的反光角度，以使所述反光范围趋向于离开临近所述基板边缘的真空垫。