CN107219729A - 曝光机及遮光叶片 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种曝光机及遮光叶片。该曝光机通过在第一前遮光叶片的竖直部中设置开口，使得第一前遮光叶片移动时空气可通过所述开口流动，进而减少第一前遮光叶片移动时第一前遮光叶片与光罩保护膜之间的气压下降，避免光罩保护膜被刮蹭，并通过在所述开口的顶部和侧部设置遮光板，避免曝光所用的紫外光从所述开口泄漏出去，保证第一前遮光叶片的遮光效果和曝光机的曝光效果，防止图形异常。
Description
技术领域
本发明涉及显示器制作技术领域，尤其涉及一种曝光机及遮光叶片。
背景技术
在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示器已经逐步取代CRT显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。
在液晶显示器的Array制程等平板显示器的制程过程中，经常会使用曝光机进行曝光制程，以图案化相应的膜层。现有的曝光机一般包括：光罩载台、对应光罩载台设置的光源、设于所述光罩载台下方的放大光路、设于所述放大光路下方的基板载台、设于所述光罩载台与放大光路之间的第一遮光叶片(Y masking blade)以及设于所述基板载台与放大光路之间的第二遮光叶片(X masking blade)，在曝光前第一遮光叶片与第二遮光叶片会移动到曝光程序(Recipe)设定的位置，遮挡出曝光程序设定的曝光区域，避免已涂布成膜(Coating)的基板其他区域被曝光，导致图形缺失。
如图1所示，现有的曝光机中设有沿水平方向相对设置的第一前遮光叶片101(Ymasking blade Front)和第一后遮光叶片102(Y masking blade Rear)，所述第一前遮光叶片101和第一后遮光叶片102均位于光罩载台200的下方，工作时，光罩300设于所述光罩载台200靠近所述第一前遮光叶片101和第一后遮光叶片102的一侧，且所述光罩300远离所述光罩载台200的一侧设有光罩保护膜400(mask pellicle)。由于光罩保护膜400的底部与第一前遮光叶片101和第一后遮光叶片102的顶部距离极小(通常为3mm)，在第一前遮光叶片101和第一后遮光叶片102运动时可能会引起光罩保护膜400与第一前遮光叶片101和第一后遮光叶片102之间的气压减小，进而导致光罩保护膜400向下弯曲刮蹭到所述第一前遮光叶片101和第一后遮光叶片102的顶部，导致光罩保护膜400损坏，影响曝光制程质量。尤其是在所述曝光机进行光罩光学自动对焦传感器校正(mask OPAF sensor calibration)时，第一前遮光叶片101需要快速移动到第一后遮光叶片102的一侧，这种大范围的快速移动导致的气压下降很大，光罩保护膜400向下弯曲也更严重，出现刮蹭的风险也越大。
发明内容
本发明的目的在于提供一种曝光机，能够减少第一前遮光叶片移动时第一前遮光叶片与光罩保护膜之间的气压下降，避免光罩保护膜被刮蹭，保证曝光质量。
本发明的目的还在于提供一种遮光叶片，能够减少遮光叶片移动时遮光叶片与光罩保护膜之间的气压下降，避免光罩保护膜被刮蹭，保证曝光质量。
为实现上述目的，本发明提供了一种曝光机，包括：光罩载台、光罩、光罩保护膜、第一前遮光叶片及第一后遮光叶片；
所述光罩设于所述光罩载台的下方，所述光罩保护膜遮挡所述光罩远离所述光罩载台的一侧表面，所述第一前遮光叶片及第一后遮光叶片位于所述光罩保护膜远离所述光罩的一侧并与所述光罩保护膜间隔，且所述第一前遮光叶片及第一后遮光叶片沿水平方向相对设置；
所述第一前遮光叶片包括：竖直部、与所述竖直部的底边相连并往远离所述第一后遮光叶片的一侧延伸的第一水平部以及与所述竖直部的顶边相连并往靠近所述第一后遮光叶片的一侧延伸的第二水平部，所述竖直部上设有开口，所述开口的顶部及侧部均设有遮光片。
所述开口的形状为矩形，所述遮光片包括：一沿所述开口的顶边设置的水平的顶遮光片以及两分别沿所述开口的两侧边设置的竖直的侧遮光片；所述顶遮光片和侧遮光片均往远离所述第一后遮光叶片的一侧延伸。
还包括：设于所述光罩载台上方的光源、设于所述光源与光罩载台之间的弧形狭缝单元、设于所述弧形狭缝单元与光罩载台之间的校准示波器、设于光罩载台下方的基板载台以及设于所述光罩载台与基板载台之间的放大光路；所述第一前遮光叶片及第一后遮光叶片位于所述光罩载台与放大光路之间。
还包括：分别与所述第一前遮光叶片及第一后遮光叶片传动连接的两脉冲马达。
所述脉冲马达与所述第一前遮光叶片及第一后遮光叶片之间通过齿轮齿条传动连接。
在所述基板载台与放大光路之间还设有两沿水平方向相对设置的第二遮光叶片，两第二遮光叶片能够在其所在的平面内沿第一方向移动，所述第一前遮光叶片与第一后遮光叶片能够在其所在的平面内沿第二方向移动，所述第一方向与第二方向垂直，。
所述光罩保护膜的厚度为6.7mm至7.3mm，所述光罩保护膜靠近所述第一前遮光叶片的一侧表面与所述第一前遮光叶片的顶部之间间隔的距离为2.4mm至3.6mm。
本发明还提供一种遮光叶片，包括：竖直部、与所述竖直部的底边相连的第一水平部以及与所述竖直部的顶边相连的第二水平部，所述第一水平部和第二水平部的延伸方向相反，所述竖直部上设有开口，所述开口的顶部及侧部均设有遮光片。
所述开口的形状为矩形，所述遮光片包括：一沿所述开口的顶边设置的水平的顶遮光片、以及两分别沿所述开口的两侧边设置的竖直的侧遮光片；所述顶遮光片和侧遮光片延伸方向与所述第一水平部的延伸方向相同。
本发明的有益效果：本发明提供一种曝光机，该曝光机通过在第一前遮光叶片的竖直部中设置开口，使得第一前遮光叶片移动时空气可通过所述开口流动，进而减少第一前遮光叶片移动时第一前遮光叶片与光罩保护膜之间的气压下降，避免光罩保护膜被刮蹭，并通过在所述开口的顶部和侧部设置遮光板，避免曝光所用的紫外光从所述开口泄漏出去，保证第一前遮光叶片的遮光效果和曝光机的曝光效果，防止图形异常。本发明还提供一种遮光叶片，能够减少遮光叶片移动时遮光叶片与光罩保护膜之间的气压下降，避免光罩保护膜被刮蹭，保证曝光质量。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为现有的曝光机中第一遮光叶片区域的结构示意图；
图2为本发明的曝光机的结构示意图；
图3为本发明的曝光机中第一前遮光叶片暨本发明的遮光叶片的结构图；
图4为本发明的曝光机中第一前遮光叶片和第一后遮光叶片区域的放大示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图2至图4，本发明提供一种曝光机，包括：光罩载台10、光罩61、光罩保护膜62、第一前遮光叶片21及第一后遮光叶片22；
所述光罩61设于所述光罩载台10的下方，所述光罩保护膜62遮挡所述光罩61远离所述光罩载台10的一侧表面，所述第一前遮光叶片21及第一后遮光叶片22位于所述光罩保护膜62远离所述光罩61的一侧并与所述光罩保护膜62间隔，且所述第一前遮光叶片21及第一后遮光叶片22沿水平方向相对设置；
如图3所示，所述第一前遮光叶片21包括：竖直部211、与所述竖直部211的底边相连并往远离所述第一后遮光叶片22的一侧延伸的第一水平部212以及与所述竖直部211的顶边相连并往靠近所述第一后遮光叶片22的一侧延伸的第二水平部213，所述竖直部211上设有开口214，所述开口214的顶部及侧部均设有遮光片215。
优选地，如图3所示，所述开口214的形状为矩形，所述遮光片215包括：一沿所述开口214的顶边设置的水平的顶遮光片2151以及两分别沿所述开口214的两侧边设置的竖直的侧遮光片2152；所述顶遮光片2151和侧遮光片2152均往远离所述第一后遮光叶片22的一侧延伸。详细地，如图3所示，所述侧遮光片2152的形状为三角形。
具体地，所述曝光机还包括：设于所述光罩载台10上方的光源30、设于所述光源30与光罩载台10之间的弧形狭缝单元40、设于所述弧形狭缝单元40与光罩载台10之间的校准示波器60、设于光罩载台10下方的基板载台50以及设于所述光罩载台10与基板载台50之间的放大光路70；所述第一前遮光叶片21及第一后遮光叶片22位于所述光罩载台10与放大光路70之间。
进一步地，在所述基板载台50与放大光路70之间还设有两沿水平方向相对设置的第二遮光叶片(未图示)，两第二遮光叶片能够在其所在的平面内沿第一方向移动，所述第一前遮光叶片21与第一后遮光叶片22能够在其所在的平面内沿第二方向移动，所述第一方向与第二方向垂直，所述第二遮光片叶片与所述第一前遮光叶片21及第一后遮光叶片22配合遮挡出Recipe设定的曝光区域。
具体地，所述曝光机的光传播路径为：所述光源30发出的光线依次经过弧形狭缝单元40、校准示波器60、光罩61、光罩保护膜62和放大光路70照射到基板载台50上的待曝光的基板上。优选地，所述放大光路70中设有一梯形透镜、一凸透镜以及凹透镜。
具体地，所述曝光机还包括：分别与所述第一前遮光叶片21及第一后遮光叶片22传动连接的两脉冲马达23。优选地，所述脉冲马达23与所述第一前遮光叶片21及第一后遮光叶片22之间通过齿轮齿条传动连接。
进一步地，所述第一前遮光叶片21及第一后遮光叶片22上分别设有一齿条，所述两脉冲马达23的旋转轴上分别设有一与所述齿条配合的齿轮，进而通过所述脉冲马达23的旋转带动所述第一前遮光叶片21及第一后遮光叶片22移动。
优选地，所述光罩保护膜62的厚度为6.7mm至7.3mm，所述光罩保护膜62靠近所述第一前遮光叶片21的一侧表面与所述第一前遮光叶片21的顶部之间间隔的距离为2.4mm至3.6mm。
需要说明的是，请参阅图4，本发明通过在第一前遮光叶片21的竖直部中设置开口214，使得第一前遮光叶片21移动时空气可通过所述开口214流动，相比现有技术增加了新的空气流动通道，能够减少第一前遮光叶片21移动时第一前遮光叶片21与光罩保护膜62之间的气压下降，降低因气压下降导致的光罩保护膜62弯曲程度，减少光罩保护膜62被刮蹭的风险，并通过在所述开口214的顶部和侧部设置遮光板215，避免曝光所用的紫外光从所述开口214泄漏出去，保证第一前遮光叶片21的遮光效果和曝光机的曝光效果，防止图形异常。
请参阅图3，本发明还提供一种遮光叶片，所述遮光叶片应用于曝光机中，包括：竖直部211、与所述竖直部211的底边相连的第一水平部212以及与所述竖直部211的顶边相连的第二水平部213，所述第一水平部212和第二水平部213的延伸方向相反，所述竖直部211上设有开口214，所述开口214的顶部及侧部均设有遮光片215。
优选地，所述开口214的形状为矩形，所述遮光片215包括：一沿所述开口214的顶边设置的水平的顶遮光片2151以及两分别沿所述开口214的两侧边设置的竖直的侧遮光片2152；所述顶遮光片2151和侧遮光片2152延伸方向与所述第一水平部212的延伸方向相同。
具体地，所述遮光叶片为与光罩保护膜相邻设置的第一前遮光叶片，通过在遮光叶片的竖直部211中设置开口214，能够减少遮光叶片移动时遮光叶片与光罩保护膜之间的气压下降，避免光罩保护膜被刮蹭，保证曝光质量。
综上所述，本发明提供一种曝光机，该曝光机通过在第一前遮光叶片的竖直部中设置开口，使得第一前遮光叶片移动时空气可通过所述开口流动，进而减少第一前遮光叶片移动时第一前遮光叶片与光罩保护膜之间的气压下降，避免光罩保护膜被刮蹭，并通过在所述开口的顶部和侧部设置遮光板，避免曝光所用的紫外光从所述开口泄漏出去，保证第一前遮光叶片的遮光效果和曝光机的曝光效果，防止图形异常。本发明还提供一种遮光叶片，能够减少遮光叶片移动时遮光叶片与光罩保护膜之间的气压下降，避免光罩保护膜被刮蹭，保证曝光质量。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
Claims (9)
1.一种曝光机，其特征在于，包括：光罩载台(10)、光罩(61)、光罩保护膜(62)、第一前遮光叶片(21)及第一后遮光叶片(22)；
所述光罩(61)设于所述光罩载台(10)的下方，所述光罩保护膜(62)遮挡所述光罩(61)远离所述光罩载台(10)的一侧表面，所述第一前遮光叶片(21)及第一后遮光叶片(22)位于所述光罩保护膜(62)远离所述光罩(61)的一侧并与所述光罩保护膜(62)间隔，且所述第一前遮光叶片(21)及第一后遮光叶片(22)沿水平方向相对设置；
所述第一前遮光叶片(21)包括：竖直部(211)、与所述竖直部(211)的底边相连并往远离所述第一后遮光叶片(22)的一侧延伸的第一水平部(212)以及与所述竖直部(211)的顶边相连并往靠近所述第一后遮光叶片(22)的一侧延伸的第二水平部(213)，所述竖直部(211)上设有开口(214)，所述开口(214)的顶部及侧部均设有遮光片(215)。
2.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述开口(214)的形状为矩形，所述遮光片(215)包括：一沿所述开口(214)的顶边设置的水平的顶遮光片(2151)以及两分别沿所述开口(214)的两侧边设置的竖直的侧遮光片(2152)；所述顶遮光片(2151)和侧遮光片(2152)均往远离所述第一后遮光叶片(22)的一侧延伸。
3.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，还包括：设于所述光罩载台(10)上方的光源(30)、设于所述光源(30)与光罩载台(10)之间的弧形狭缝单元(40)、设于所述弧形狭缝单元(40)与光罩载台(10)之间的校准示波器(60)、设于光罩载台(10)下方的基板载台(50)以及设于所述光罩载台(10)与基板载台(50)之间的放大光路(70)；所述第一前遮光叶片(21)及第一后遮光叶片(22)位于所述光罩载台(10)与放大光路(70)之间。
4.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，还包括：分别与所述第一前遮光叶片(21)及第一后遮光叶片(22)传动连接的两脉冲马达(23)。
5.如权利要求4所述的曝光机，其特征在于，所述脉冲马达(23)与所述第一前遮光叶片(21)及第一后遮光叶片(22)之间通过齿轮齿条传动连接。
6.如权利要求3所述的曝光机，其特征在于，在所述基板载台(50)与放大光路(70)之间还设有两沿水平方向相对设置的第二遮光叶片，两第二遮光叶片能够在其所在的平面内沿第一方向移动，所述第一前遮光叶片(21)与第一后遮光叶片(22)能够在其所在的平面内沿第二方向移动，所述第一方向与第二方向垂直。
7.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述光罩保护膜(62)的厚度为6.7mm至7.3mm，所述光罩保护膜(62)靠近所述第一前遮光叶片(21)的一侧表面与所述第一前遮光叶片(21)的顶部之间间隔的距离为2.4mm至3.6mm。
8.一种遮光叶片，其特征在于，所述遮光叶片应用于曝光机中，包括：竖直部(211)、与所述竖直部(211)的底边相连的第一水平部(212)以及与所述竖直部(211)的顶边相连的第二水平部(213)，所述第一水平部(212)和第二水平部(213)的延伸方向相反，所述竖直部(211)上设有开口(214)，所述开口(214)的顶部及侧部均设有遮光片(215)。
9.如权利要求8所述的遮光叶片，其特征在于，所述开口(214)的形状为矩形，所述遮光片(215)包括：一沿所述开口(214)的顶边设置的水平的顶遮光片(2151)以及两分别沿所述开口(214)的两侧边设置的竖直的侧遮光片(2152)；所述顶遮光片(2151)和侧遮光片(2152)延伸方向与所述第一水平部(212)的延伸方向相同。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Patentee after: TCL China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. Address before: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Patentee before: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. |
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| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |