CN108366499B - 一种电路基板的树脂塞孔方法 - Google Patents
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 51
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000011049 filling Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims abstract description 11
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 claims description 23
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 18
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 17
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 16
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 15
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000004005 microsphere Substances 0.000 claims description 12
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 10
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 10
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000010792 warming Methods 0.000 claims description 9
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 claims description 8
- 229910021577 Iron(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 7
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L iron dichloride Chemical compound Cl[Fe]Cl NMCUIPGRVMDVDB-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 claims description 6
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 229940040526 anhydrous sodium acetate Drugs 0.000 claims description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 6
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 6
- -1 2- ethyl imidazol Chemical compound 0.000 claims description 5
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 claims description 4
- 229940059939 kayexalate Drugs 0.000 claims description 4
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 claims description 4
- LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 2-undecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical group CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229960000935 dehydrated alcohol Drugs 0.000 claims description 3
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 3
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 2-phenylacetic acid Chemical compound O[14C](=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-PPJXEINESA-N 0.000 claims 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical group [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- QMMBZOSZCYBCDC-UHFFFAOYSA-N NCCNCCC[SiH](OC(OCC)(OCC)OCC)OC Chemical group NCCNCCC[SiH](OC(OCC)(OCC)OCC)OC QMMBZOSZCYBCDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 abstract 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 abstract 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 3
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 241000209094 Oryza Species 0.000 description 2
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006157 aromatic diamine group Chemical group 0.000 description 2
- WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N phenylacetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 241000894007 species Species 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005213 imbibition Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229960003424 phenylacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000003279 phenylacetic acid Substances 0.000 description 1
- ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N polynoxylin Chemical compound O=C.NC(N)=O ODGAOXROABLFNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000013517 stratification Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/42—Plated through-holes or plated via connections
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K7/00—Use of ingredients characterised by shape
- C08K7/22—Expanded, porous or hollow particles
- C08K7/24—Expanded, porous or hollow particles inorganic
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
- C08K9/06—Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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- C08K9/10—Encapsulated ingredients
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- H—ELECTRICITY
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0094—Filling or covering plated through-holes or blind plated vias, e.g. for masking or for mechanical reinforcement
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/011—Nanostructured additives
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- Medicinal Chemistry (AREA)
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Abstract
一种电路基板的树脂塞孔方法,包括制备复合树脂基塞孔树脂,通过丝网印刷将塞孔树脂填充至电路基板的塞孔内部,丝网印刷的同时开动超声波震荡装置,最终通过加热将树脂固化,本发明制备方法简单,塞孔的饱和度高。
Description
技术领域
本发明涉及一种电路基板的树脂塞孔方法。
背景技术
印制电路板又称印刷电路板,是电子元器件电气连接的提供者。它的发展已有100多年的历史了;它的设计主要是版图设计;采用电路板的主要优点是大大减少布线和装配的差错,提高了自动化水平和生产劳动率。
近十几年来,我国印制电路板制造行业发展迅速,总产值、总产量双双位居世界第一。由于电子产品日新月异,价格战改变了供应链的结构,中国兼具产业分布、成本和市场优势,已经成为全球最重要的印制电路板生产基地。印制电路板从单层发展到双面板、多层板和挠性板,并不断地向高精度、高密度和高可靠性方向发展。不断缩小体积、减少成本、提高性能,使得印制电路板在未来电子产品的发展过程中,仍然保持强大的生命力。未来印制电路板生产制造技术发展趋势是在性能上向高密度、高精度、细孔径、细导线、小间距、高可靠、多层化、高速传输、轻量、薄型方向发展。
树脂塞孔的工艺流程近年来在PCB产业里面的应用越来越广泛,尤其是在一些层数高,板子厚度较大的产品上面更是备受青睐。人们希望使用树脂塞孔来解决一系列使用绿油塞孔或者压合填树脂所不能解决的问题。然而,因为这种工艺所使用的树脂本身的特性的缘故,在制作上需要克服许多的困难,方能取得良好的树脂塞孔产品的品质。
发明内容
本发明专利的目的在于提供一种电路基板的树脂塞孔方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
步骤一,制备复合树脂基塞孔树脂
将双酚A环氧树脂,有机溶剂,固化剂,固化促进剂,N-甲基吡咯烷酮,着色剂和纳米颗粒以质量比为20-40:10-20:1-2:0.1-1:0.5-2:1-5:5-25混合,并在常温下搅拌0.5-3h,升温至40℃并在真空下搅拌1-3h得到复合树脂基塞孔树脂;
所述纳米颗粒为表面改性的纳米颗粒,采用如下方法制备:
步骤A、多孔Fe3O4纳米颗粒的合成
将FeCl3·6H2O与FeCl2·4H2O溶解到乙二醇中,得到混合溶液,在氮气保护下升温至50-70℃,以300-800r/min搅拌条件下加入浓氨水,随后加入无水乙酸钠和聚苯乙烯磺酸钠,将得到的混合液搅拌均匀后放入反应釜中;将反应釜置于200℃的温度下10-20h,得到的黑色产物分离后,再用无水乙醇和去离子水洗涤几次,然后于真空干燥至恒重;最后将黑色粉末置于380-400℃的管式炉中在氮气保护下煅烧3-4小时,收集得到多孔Fe3O4纳米颗粒;所述FeCl3·6H2O、FeCl2·4H2O、乙二醇、浓氨水、无水乙酸钠和聚苯乙烯磺酸钠的质量比为2-5:3-7:50-60:2-10:1-8:2-6;
步骤B、复合纳米微球的制备
将步骤A制备的多孔Fe3O4纳米颗粒置于去离子水中,加入盐酸调节至pH=1-3,搅拌30-60min后加入第一液体;所述第一液体由尿素和甲醛以摩尔比为1-2:1.5-4组成;调节温度至10-20℃,持续搅拌10-40min后静置10-30min,采用离心分离出固体颗粒,采用去离子水洗涤3-6遍既得到脲醛树脂/Fe3O4复合纳米微球;所述多孔Fe3O4纳米颗粒、去离子水和第一液体的质量比为4-5:30-60:1-4;
步骤C、多孔复合纳米颗粒的制备
将步骤B制备的脲醛树脂/Fe3O4复合微球于80-100℃干燥20-30h,之后置于加热炉中升温至600-700℃,焙烧1-6小时,得到多孔复合纳米颗粒;
步骤D、表面改性的纳米颗粒
将步骤C制备的多孔复合纳米颗粒加入第一组合物;所述多孔复合纳米颗粒和第一组合物的质量比为1-5:30-60,所述第一组合物为N-氨乙基-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷和甲苯以质量比为0.1-0.5:100-500;在通入氮气的情况下搅拌30-200min,保持温度为60-80℃,自然冷却至常温,将混合物进行抽滤后将颗粒自然晾干;
将晾干后的颗粒、苯乙酸、甲苯和咪唑类衍生物以质量比为3-10:0.01-0.05:30-60:0.1-0.2混合,搅拌的同时升温至60-100℃,搅拌至再无气泡冒出即可以的表面改性的纳米颗粒;
步骤二,将电路基板和基板上的塞孔清理去除灰尘和杂质;
步骤三,将电路基板放置在超声波震荡装置上;
步骤四、通过丝网印刷将塞孔树脂填充至电路基板的塞孔内部,丝网印刷的同时开动超声波震荡装置,超声波震荡装置的开启时间为60-120s;
步骤五,将塞孔树脂进行固化
将电路基板置于100-125℃下20-80min,使得塞孔树脂预固化;最后升温至130-145℃下静置60-120min,使得塞孔树脂完全固化。
所述有机溶剂为N,N-二甲基乙酰胺。
所述着色剂选自铬绿、钴绿或者氧化铬绿的至少之一.
所述固化剂选自芳香族二胺类固化剂、双氰胺及其衍生物类固化剂或者有机酸酐类固化剂。
所述固化促进剂为咪唑型固化促进剂,该固化剂选自2-乙基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑或者2-十一烷基咪唑中的至少一种。
步骤四中丝网印刷所采用的刮板下端部具有一个缺口该缺口与电路基板形成一个角度α,该角度α为25-40°,所述刮板的压力为:5-9kg/cm2,刮板速度为6-15m/min。
步骤四中所述角度α为30°,所述刮板(1)的压力为:7.5kg/cm2,刮板速度为10m/min。
有益效果:
1、树脂能够均匀的覆盖在电路板上;
2、本发明的中不采用抽气装置进行塞孔,而采用超声波震荡装置和本发明设计的一种刮板相结合的方式,可以进行完全的塞孔,该刮板与下端部具有一个缺口,该缺口与电路基板(3)形成一个角度α,该角度α为25-40°,优选30°;通过该角度的设置,能够使得刮板的速度达到6-15m/min,优选10m/min,且能够使得塞孔外观均匀、平整,一刀的塞孔树脂入孔的饱和度可以达到99%。
具体实施方式
下面结合具体实施例,进一步阐述本发明。
一种电路基板的树脂塞孔方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
步骤一,制备复合树脂基塞孔树脂
将双酚A环氧树脂,有机溶剂,固化剂,固化促进剂,N-甲基吡咯烷酮,着色剂和纳米颗粒以质量比为20-40:10-20:1-2:0.1-1:0.5-2:1-5:5-25混合,并在常温下搅拌0.5-3h,升温至40℃并在真空下搅拌1-3h得到复合树脂基塞孔树脂;
步骤二,将电路基板和基板上的塞孔清理去除灰尘和杂质;
步骤三,将电路基板放置在超声波震荡装置上;
步骤四、通过丝网印刷将塞孔树脂填充至电路基板的塞孔内部,丝网印刷的同时开动超声波震荡装置,超声波震荡装置的开启时间为60-120s;
步骤五,将塞孔树脂进行固化
将电路基板置于100-125℃下20-80min,使得塞孔树脂预固化;最后升温至130-145℃下静置60-120min,使得塞孔树脂完全固化。
所述有机溶剂为N,N-二甲基乙酰胺。
所述着色剂选自铬绿、钴绿或者氧化铬绿的至少之一.
所述固化剂选自芳香族二胺类固化剂、双氰胺及其衍生物类固化剂或者有机酸酐类固化剂。
所述固化促进剂为咪唑型固化促进剂,该固化剂选自2-乙基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑或者2-十一烷基咪唑中的至少一种。
步骤四中丝网印刷所采用的刮板下端部具有一个缺口该缺口与电路基板形成一个角度α,该角度α为25-40°,所述刮板的压力为:5-9kg/cm2,刮板速度为6-15m/min。
步骤四中所述角度α为30°,所述刮板(1)的压力为:7.5kg/cm2,刮板速度为10m/min。
本发明复合树脂基塞孔树脂中采用的纳米颗粒为表面改性的纳米颗粒,采用如下方法制备:
步骤A、多孔Fe3O4纳米颗粒的合成
将FeCl3·6H2O与FeCl2·4H2O溶解到乙二醇中,得到混合溶液,在氮气保护下升温至50-70℃,以300-800r/min搅拌条件下加入浓氨水,随后加入无水乙酸钠和聚苯乙烯磺酸钠,将得到的混合液搅拌均匀后放入反应釜中;将反应釜置于200℃的温度下10-20h,得到的黑色产物分离后,再用无水乙醇和去离子水洗涤几次,然后于真空干燥至恒重;最后将黑色粉末置于380-400℃的管式炉中在氮气保护下煅烧3-4小时,收集得到多孔Fe3O4纳米颗粒(所述FeCl3·6H2O、FeCl2·4H2O、乙二醇、浓氨水、无水乙酸钠和聚苯乙烯磺酸钠的质量比为2-5:3-7:50-60:2-10:1-8:2-6);
步骤B、复合纳米微球的制备
将步骤A制备的多孔Fe3O4纳米颗粒置于去离子水中,加入盐酸调节至pH=1-3,搅拌30-60min后加入第一液体(所述第一液体由尿素和甲醛以摩尔比为1-2:1.5-4组成)调节温度至10-20℃,持续搅拌10-40min后静置10-30min,采用离心分离出固体颗粒,采用去离子水洗涤3-6遍既得到脲醛树脂/Fe3O4复合纳米微球(所述多孔Fe3O4纳米颗粒、去离子水和第一液体的质量比为4-5:30-60:1-4);
步骤C、多孔复合纳米颗粒的制备
将步骤B制备的脲醛树脂/Fe3O4复合微球于80-100℃干燥20-30h,之后置于加热炉中升温至600-700℃,焙烧1-6小时,得到多孔复合纳米颗粒;
步骤D、表面改性的纳米颗粒
将步骤C制备的多孔复合纳米颗粒加入第一组合物(所述多孔复合纳米颗粒和第一组合物的质量比为1-5:30-60,所述第一组合物为N-氨乙基-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷和甲苯以质量比为0.1-0.5:100-500),在通入氮气的情况下搅拌30-200min,保持温度为60-80℃,自然冷却至常温,将混合物进行抽滤后将颗粒自然晾干;
将晾干后的颗粒、苯乙酸、甲苯和咪唑类衍生物以质量比为3-10:0.01-0.05:30-60:0.1-0.2混合,搅拌的同时升温至60-100℃,搅拌至再无气泡冒出即可以的表面改性的纳米颗粒。
所述咪唑类衍生物为N,N’-羰基二咪唑;
经过测试:
(1)步骤A中通过在在FeCl3·6H2O与FeCl2·4H2O溶解到乙二醇后进行升温和搅拌的情况下加入了浓氨水经过搅拌使得后期的Fe3O4纳米颗粒的粒度达到30-150nm,30-60m的可以达到75%,普通制备方法下未采用浓氨水颗粒尺寸为300-600纳米,且纳米颗粒的尺寸为400-550nm的占70%以上;
(2)步骤B中本发明首次使用脲醛树脂/Fe3O4复合纳米微球,复合微球中表层脲醛树脂的厚度为1-10nm,经包覆脲醛树脂的微球颗粒饱和磁矩约为50-62.5emu/g,优选57.5emu/g;
(3)步骤C中所述颗粒孔洞的孔径为1-3nm,平均孔容为0.51-0.63cm3/g,并测出其比表面积为250-420m2/g,优选为340m2/g,更优选为365m2/g;
(4)步骤D中所述表面改性的纳米颗粒为表面枝节了苯乙酸了纳米颗粒,枝节率可以达到92%。
(5)化学物理稳定性,不容易氧化,不容易团聚,耐酸、碱性能好,通过加入表面改性的纳米颗粒使得该塞孔树脂固化后的热分解温度(TD)为390-470℃,优选420℃;吸水性为0.05-0.1%;10%硫酸常温120min目测无膨胀无开裂;10%氢氧化钠常温120min目测无膨胀无开裂;100℃的水下120min目测无膨胀无开裂。
应理解,这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。此外应理解,在阅读了本发明讲授的内容之后,本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改,这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。
Claims (6)
1.一种电路基板的树脂塞孔方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
步骤一,制备复合树脂基塞孔树脂
将双酚A环氧树脂,有机溶剂,固化剂,固化促进剂,N-甲基吡咯烷酮,着色剂和纳米颗粒以质量比为20-40:10-20:1-2:0.1-1:0.5-2:1-5:5-25混合,并在常温下搅拌0.5-3h,升温至40℃并在真空下搅拌1-3h得到复合树脂基塞孔树脂;
所述纳米颗粒为表面改性的纳米颗粒,采用如下方法制备:
步骤A、多孔Fe3O4纳米颗粒的合成
将FeCl3·6H2O与FeCl2·4H2O溶解到乙二醇中,得到混合溶液,在氮气保护下升温至50-70℃,以300-800r/min搅拌条件下加入浓氨水,随后加入无水乙酸钠和聚苯乙烯磺酸钠,将得到的混合液搅拌均匀后放入反应釜中;将反应釜置于200℃的温度下10-20h,得到的黑色产物分离后,再用无水乙醇和去离子水洗涤几次,然后于真空干燥至恒重;最后将黑色粉末置于380-400℃的管式炉中在氮气保护下煅烧3-4小时,收集得到多孔Fe3O4纳米颗粒;所述FeCl3·6H2O、FeCl2·4H2O、乙二醇、浓氨水、无水乙酸钠和聚苯乙烯磺酸钠的质量比为2-5:3-7:50-60:2-10:1-8:2-6;
步骤B、复合纳米微球的制备
将步骤A制备的多孔Fe3O4纳米颗粒置于去离子水中,加入盐酸调节至pH=1-3,搅拌30-60min后加入第一液体;所述第一液体由尿素和甲醛以摩尔比为1-2:1.5-4组成;调节温度至10-20℃,持续搅拌10-40min后静置10-30min,采用离心分离出固体颗粒,采用去离子水洗涤3-6遍既得到脲醛树脂/Fe3O4复合纳米微球;所述多孔Fe3O4纳米颗粒、去离子水和第一液体的质量比为4-5:30-60:1-4;
步骤C、多孔复合纳米颗粒的制备
将步骤B制备的脲醛树脂/Fe3O4复合微球于80-100℃干燥20-30h,之后置于加热炉中升温至600-700℃,焙烧1-6小时,得到多孔复合纳米颗粒;
步骤D、表面改性的纳米颗粒
将步骤C制备的多孔复合纳米颗粒加入第一组合物;所述多孔复合纳米颗粒和第一组合物的质量比为1-5:30-60,所述第一组合物为N-氨乙基-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷和甲苯以质量比为0.1-0.5:100-500;在通入氮气的情况下搅拌30-200min,保持温度为60-80℃,自然冷却至常温,将混合物进行抽滤后将颗粒自然晾干;
将晾干后的颗粒、苯乙酸、甲苯和咪唑类衍生物以质量比为3-10:0.01-0.05:30-60:0.1-0.2混合,搅拌的同时升温至60-100℃,搅拌至再无气泡冒出即可以的表面改性的纳米颗粒;
步骤二,将电路基板和基板上的塞孔清理去除灰尘和杂质;
步骤三,将电路基板放置在超声波震荡装置上;
步骤四、通过丝网印刷将塞孔树脂填充至电路基板的塞孔内部,丝网印刷的同时开动超声波震荡装置,超声波震荡装置的开启时间为60-120s;
步骤四中丝网印刷所采用的刮板下端部具有一个缺口该缺口与电路基板形成一个角度α,该角度α为25-40°,所述刮板的压力为:5-9kg/cm2,刮板速度为6-15m/min;
步骤五,将塞孔树脂进行固化
将电路基板置于100-125℃下20-80min,使得塞孔树脂预固化;最后升温至130-145℃下静置60-120min,使得塞孔树脂完全固化。
2.如权利要求1所述的一种电路基板的树脂塞孔方法,其特征在于,所述有机溶剂为N,N-二甲基乙酰胺。
3.如权利要求1所述的一种电路基板的树脂塞孔方法,其特征在于,所述着色剂选自铬绿、钴绿或者氧化铬绿的至少之一。
4.如权利要求1所述的一种电路基板的树脂塞孔方法,其特征在于,所述固化剂选自芳香族二胺类固化剂、双氰胺及其衍生物类固化剂或者有机酸酐类固化剂。
5.如权利要求1所述的一种电路基板的树脂塞孔方法,其特征在于,所述固化促进剂为咪唑型固化促进剂,该固化剂选自2-乙基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑或者2-十一烷基咪唑中的至少一种。
6.如权利要求1所述的一种电路基板的树脂塞孔方法,其特征在于,步骤四中所述角度α为30°,所述刮板(1)的压力为:7.5kg/cm2,刮板速度为10m/min。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810182378.6A CN108366499B (zh) | 2018-03-06 | 2018-03-06 | 一种电路基板的树脂塞孔方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810182378.6A CN108366499B (zh) | 2018-03-06 | 2018-03-06 | 一种电路基板的树脂塞孔方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108366499A CN108366499A (zh) | 2018-08-03 |
CN108366499B true CN108366499B (zh) | 2019-10-11 |
Family
ID=63003156
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810182378.6A Active CN108366499B (zh) | 2018-03-06 | 2018-03-06 | 一种电路基板的树脂塞孔方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN108366499B (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109302801A (zh) * | 2018-11-20 | 2019-02-01 | 景旺电子科技(龙川)有限公司 | 一种金属基塞孔板的制作方法 |
CN111295052B (zh) * | 2020-03-25 | 2021-06-01 | 深圳捷飞高电路有限公司 | 高密度互连印制电路板盲孔填孔工艺及研磨装置 |
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---|---|---|---|---|
CN1396218A (zh) * | 2001-07-13 | 2003-02-12 | 叶嗣韬 | 无溶剂热硬化感光塞孔油墨 |
CN103313531A (zh) * | 2012-03-12 | 2013-09-18 | 宏恒胜电子科技(淮安)有限公司 | 电路基板的塞孔方法 |
CN204046961U (zh) * | 2014-07-23 | 2014-12-24 | 广东兴达鸿业电子有限公司 | 一种电路板黄色阻焊油墨塞孔装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6855738B2 (en) * | 2003-06-06 | 2005-02-15 | Dow Global Technologies Inc. | Nanoporous laminates |
CN104487609A (zh) * | 2012-04-01 | 2015-04-01 | 盖尔创尼克斯有限公司 | 用于打印及镀覆工序的印制方法 |
CN105357873A (zh) * | 2015-10-23 | 2016-02-24 | 深圳市仁创艺电子有限公司 | 高纵横比的塞填镀hdi板及其制作方法 |
-
2018
- 2018-03-06 CN CN201810182378.6A patent/CN108366499B/zh active Active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN204046961U (zh) * | 2014-07-23 | 2014-12-24 | 广东兴达鸿业电子有限公司 | 一种电路板黄色阻焊油墨塞孔装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
CN108366499A (zh) | 2018-08-03 |
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