CN108346685A - 一种阵列基板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，可增大显示装置的视角，改善广视角色偏问题。一种阵列基板，包括：依次设置在衬底基板上的彩色膜层和绝缘层；设置在绝缘层远离衬底基板一侧的像素界定层，像素界定层用于界定出多个子像素区域，多个子像素区域包括多个对应于彩色膜层的彩色子像素区域；设置在绝缘层远离衬底基板一侧的第一电极层，第一电极层包括多个分别对应于子像素区域的第一电极，其中，在多个彩色子像素区域内，绝缘层的上表面具有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面，第一电极覆盖所述凸起面；覆盖第一电极层和像素界定层的发光功能层；覆盖发光功能层的第二电极层。

Description

一种阵列基板及其制备方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示装置。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode，简称发光二极管)显示技术经过数十年的发展已成功商业化，在柔性、透明等高新显示领域展现出了巨大的潜力，与此同时，在照明领域也有着很好的发展。
如图1所示，现有技术中，OLED显示面板中的阵列基板包括：设置在衬底基板上的TFT(Thin Film Transistor，简称薄膜晶体管)和覆盖TFT的钝化层(简称PVX)，还包括依次设置在钝化层远离衬底基板一侧的彩膜12、树脂层13、阳极14、像素界定层15、发光功能层16、以及阴极17。其中，彩膜12和阳极14位于子像素区域，像素界定层15位于相邻两个子像素区域之间，树脂层13、发光功能层16和阴极17平铺于OLED显示面板的显示区域。
现有技术为了防止从任意一个子像素发出的光射到相邻子像素，从而出现子像素漏光的现象，像素界定层15的厚度应足够大，如图1所示，像素界定层15的厚度远大于阳极14的厚度。这样一来，发光功能层16在与像素界定层15对应的区域需爬坡形成台阶结构，在子像素区域内，发光功能层16包括爬坡的斜面d1和平行于钝化层的部分d2。在任一子像素区域内，由于从发光功能层15中平行于钝化层的部分d2发出的光，大多是垂直于衬底基板射出的，因此，不利于增大显示面板的视角；在此基础上，从发光功能层16爬坡的斜面d1发出的大部分光，是朝向相邻子像素区域的，将被像素界定层15吸收，也就是说只有一少部分的光会通过子像素区域射出，因此，对增大显示面板的视角的帮助非常小，显示面板仍存在视角小的问题，容易出现广视角色偏现象。
发明内容
本发明的实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，可增大显示装置的视角，改善广视角色偏问题。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
第一方面，提供一种阵列基板，包括：依次设置在衬底基板上的彩色膜层和绝缘层；设置在所述绝缘层远离所述衬底基板一侧的像素界定层，所述像素界定层用于界定出多个子像素区域，所述多个子像素区域包括多个对应于所述彩色膜层的彩色子像素区域；设置在所述绝缘层远离所述衬底基板一侧的第一电极层，所述第一电极层包括多个分别对应于所述子像素区域的第一电极，其中，在多个所述彩色子像素区域内，所述绝缘层的上表面具有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面，所述第一电极覆盖所述凸起面；覆盖所述第一电极层和所述像素界定层的发光功能层；覆盖所述发光功能层的第二电极层。
优选的，所述多个子像素区域还包括多个白色子像素区域；
在所述白色子像素区域内，所述绝缘层远离所述衬底基板的一侧形成有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面，其中，位于所述白色子像素区域内的所述凸起面的倾斜边侧，与所述彩色子像素区域内的所述凸起面的倾斜边侧的位置分布相同。
进一步优选的，所述彩色子像素区域内的所述凸起面的中间平坦的部分到所述衬底基板的距离，与所述白色子像素区域内的所述凸起面的中间平坦的部分到所述衬底基板的距离相同。
优选的，在多个所述子像素区域内，所述绝缘层的上表面还包括由所述凸起面的边沿向相邻所述子像素区域方向延伸、且平行于所述衬底基板的平面，以使得所述第一电极还包括覆盖所述平面的部分。
优选的，所述绝缘层的相邻所述凸起面之间构成凹槽，所述像素界定层位于所述凹槽中。
进一步优选的，所述凹槽为网状或条状。
第二方面，提供一种显示装置，包括第一方面所述的阵列基板。
第三方面，一种阵列基板的制备方法，包括：
在衬底基板上形成彩色膜层；在形成有所述彩色膜层的衬底基板上形成绝缘层。
在形成有所述绝缘层的衬底基板上，形成第一电极层和像素界定层；所述第一电极层包括多个第一电极，多个所述第一电极分别对应于由所述像素界定层界定出的子像素区域，多个所述子像素区域包括多个对应于所述彩色膜层的彩色子像素区域；其中，在多个所述彩色子像素区域内，所述绝缘层的上表面具有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面，所述第一电极覆盖所述凸起面。
在形成有所述第一电极层和所述像素界定层的衬底基板上，形成覆盖所述第一电极层和所述像素界定层的发光功能层；在形成有所述发光功能层的衬底基板上，形成覆盖所述发光功能层的第二电极层。
优选的，所述多个子像素区域还包括多个白色子像素区域；在所述白色子像素区域内，所述绝缘层远离所述衬底基板的一侧形成有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面，其中，位于所述白色子像素区域内的所述凸起面的倾斜边侧，与所述彩色子像素区域内的所述凸起面的倾斜边侧的位置分布相同。
优选的，所述在形成有所述彩色膜层的衬底基板上形成绝缘层，包括：在形成有所述彩色膜层的衬底基板上形成上表面平坦的绝缘薄膜，对所述绝缘薄膜进行刻蚀形成凹槽，以得到上表面具有中间平坦且边侧呈钝角倾斜的凸起面的绝缘层。
本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，通过在多个彩色子像素区域内，使绝缘层的上表面包括中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面，进而可使位于绝缘层远离衬底基板一侧的第一电极层、发光功能层，在彩色子像素区域内也包括中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面，发光功能层发出的光经过自身及第一电极层呈钝角倾斜的边侧后，与竖直方向呈一定夹角射出，即，从发光功能层中位于呈钝角倾斜的任一边侧发出的光，可向与该边侧相对的一侧倾斜并从衬底基板射出，从而当所述阵列基板应用于显示装置时，可增大显示装置的视角，改善广视角色偏问题。
在此基础上，现有技术中，在子像素区域内，发光功能层的表面为一平行于衬底基板的平面；而本发明实施例中，在彩色子像素区域内，发光功能层具有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面。相对于现有技术，本发明实施例在不改变彩色子像素区域大小的情况下，增大了发光功能层的发光面积，当所述阵列基板应用于显示装置时，可提高显示装置的发光亮度；在本发明与现有技术的显示装置的显示亮度相同的情况下，可降低TFT功耗，提高TFT的使用寿命。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术提供的一种阵列基板的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图一；
图3为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图二；
图4为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图三；
图5为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图四；
图6为本发明实施例提供的一种子像素区域与像素界定层的位置图；
图7为本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视示意图一；
图8为本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视示意图二；
图9为本发明实施例提供的一种制备阵列基板的流程示意图；
图10为本发明实施例提供的一种制备绝缘层的流程示意图；
图11(a)为本发明实施例提供的一种制备绝缘层的过程示意图一；
图11(b)为本发明实施例提供的一种制备绝缘层的过程示意图二；
图11(c)为本发明实施例提供的一种制备绝缘层的过程示意图三。
附图标记：
12-彩膜；13-树脂层；14-阳极；15-像素界定层；16-发光功能层；17-阴极；22-彩色膜层；23-绝缘层；231-凸起面；232-凹槽；233-绝缘薄膜；24-第一电极层；25-像素界定层；26-发光功能层；27-第二电极层；30-光刻胶。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供一种阵列基板，如图2、3、4、5、6所示，包括：依次设置在衬底基板上的彩色膜层22和绝缘层23；设置在绝缘层23远离衬底基板一侧的像素界定层25，像素界定层25用于界定出多个子像素区域，多个子像素区域包括多个对应于彩色膜层22的彩色子像素区域；设置在绝缘层23远离衬底基板一侧的第一电极层24，第一电极层24包括多个分别对应于子像素区域的第一电极，其中，在多个彩色子像素区域内，绝缘层23的上表面具有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角α倾斜的凸起面231，第一电极覆盖所述凸起面231；覆盖第一电极层24和像素界定层25的发光功能层26；覆盖发光功能层26的第二电极层27。
其中，绝缘层23的上表面，是指：绝缘层23中远离衬底基板一侧的表面。
此处，所述阵列基板还包括设置于衬底基板与彩色膜层22之间的TFT和覆盖TFT的钝化层。其中TFT包括栅极、栅绝缘层、有源层、源极和漏极，TFT可以是底栅型结构，也可以是顶栅型结构。
示例的，包括刻蚀阻挡层(简称ESL)底栅型TFT包括：依次设置在衬底基板上的栅极、栅绝缘层、有源层、刻蚀阻挡层、以及同层设置的源极和漏极。
需要说明的是，第一，所述阵列基板为底发光结构，当所述阵列基板应用于显示装置时，在彩色子像素区域内，发光功能层26发出的光依次经过第一电极24、绝缘层23、彩色膜层22、钝化层、衬底基板用于显示。
当然，如图3和5所示，子像素区域可以只包括彩色子像素区域；如图2和4所示，也可以包括彩色子像素区域和白色子像素区域。当子像素区域还包括白色子像素区域时，在白色子像素区域内，发光功能层26发出的光依次经过第一电极24、绝缘层23、钝化层、衬底基板用于显示。
第二，不对彩色膜层22的具体图案进行限定，彩色膜层22可以是多个彩色图案块，也可以是多个彩色图案条。
第三，彩色子像素区域可以包括：红色子像素区域、绿色子像素区域、蓝色子像素区域；还可以包括品红色子像素区域、青色子像素区域、黄色子像素区域。
本发明中，例如在一个子像素区域内设置红色滤光片，则该子像素区域是红色子像素区域；在一个子像素区域内设置绿色滤光片，则该子像素区域是绿色子像素区域；在一个子像素区域内设置蓝色滤光片，则该子像素区域是蓝色子像素区域。
第四，不对绝缘层23的材料进行限定，只要可以起到绝缘作用、且可以使光透过即可，例如，绝缘层23的材料可以是有机树脂。
第五，第一电极层24为阳极，第二电极层27为阴极；或者，第一电极层24为阴极，第二电极层27为阳极。其中，第一电极层24的材料可以是锡氧化铟(Indium Tin Oxide，简称ITO)等透明导电材料；第二电极层27的材料可以是导电金属，例如可以是金属铝。
第六，在多个彩色子像素区域内，绝缘层23的凸起面231可以包括相对的两个呈钝角倾斜的边侧，当所述阵列基板应用于显示装置时，相对的两个呈钝角倾斜的边侧可以对应于显示装置的左右两侧，用于增大显示装置左右两侧的视角。当然，绝缘层23的凸起面231中相对的两个呈钝角倾斜的边侧，还可以对应于显示装置的上下两侧，用于增大显示装置上下两侧的视角。
绝缘层23的凸起面231也可以包括三个呈钝角倾斜的边侧，当所述阵列基板应用于显示装置时，三个呈钝角倾斜的边侧可以对应于显示装置的左侧、右侧、和上侧，用于增大显示装置左右两侧、及上侧的视角；或者，三个呈钝角倾斜的边侧可以对应于显示装置的左侧、右侧、和下侧，用于增大显示装置左右两侧、及下侧的视角。当然，绝缘层23的凸起面231中三个呈钝角倾斜的边侧，还可以对应于显示装置的上侧、下侧、和左侧，用于增大显示装置上下两侧、及左侧的视角；或者，三个呈钝角倾斜的边侧对应于显示装置的上侧、下侧、和右侧，用于增大显示装置上下两侧、及右侧的视角。
绝缘层23的凸起面231也可以包括四个呈钝角倾斜的边侧，当所述阵列基板应用于显示装置时，四个呈钝角倾斜的边侧可以对应于显示装置中的左侧、右侧、上侧、和下侧，用于增显示装置左右两侧、及上下两侧的视角。
本发明实施例提供一种阵列基板，通过在多个彩色子像素区域内，使绝缘层23的上表面包括中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面231，进而可使位于绝缘层23远离衬底基板一侧的第一电极层24、发光功能层26，在彩色子像素区域内也包括中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面，发光功能层26发出的光经过自身及第一电极层24呈钝角倾斜的边侧后，与竖直方向呈一定夹角射出，即，从发光功能层26中位于呈钝角倾斜的任一边侧发出的光，可向与该边侧相对的一侧倾斜并从衬底基板射出，从而当所述阵列基板应用于显示装置时，可增大显示装置的视角，改善广视角色偏问题。
在此基础上，现有技术中，在子像素区域内，发光功能层16的表面为一平行于衬底基板的平面；而本发明实施例中，在彩色子像素区域内，发光功能层26具有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面。相对于现有技术，本发明实施例在不改变彩色子像素区域大小的情况下，增大了发光功能层26的发光面积，当所述阵列基板应用于显示装置时，可提高显示装置的发光亮度；在本发明与现有技术的显示装置的显示亮度相同的情况下，可降低TFT功耗，提高TFT的使用寿命。
优选的，如图2所示，多个子像素区域还包括多个白色子像素区域；在白色子像素区域内，绝缘层23远离衬底基板的一侧形成有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面231，其中，位于白色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧，与彩色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧的位置分布相同。
需要说明的是，位于白色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧，与彩色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧的位置分布相同，是指：白色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧的个数、以及倾斜边侧对应于显示装置的侧面，均与彩色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧相同。
示例的，若彩色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧为相对的两侧，且将所述阵列基板应用于显示装置时，彩色子像素区域内的凸起面231中倾斜的边侧对应于显示装置的左右两侧，则白色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧也为相对的两侧，且白色子像素区域内的凸起面231中倾斜的边侧也对应于显示装置的左右两侧。
同样的，白色子像素区域内的凸起面231还可以包括三个呈钝角倾斜的边侧或包括四个呈钝角倾斜的边侧，且均与彩色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧的位置分布相同。
本发明实施例中，在子像素区域还包括白色子像素区域的情况下，在白色子像素区域内，使绝缘层23远离衬底基板的一侧形成有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面231，这样一来，从白色子像素区域发出的光也具有增大显示装置的视角的作用；在此基础上，使位于白色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧，与彩色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧的位置分布相同，可使白色子像素区域与彩色子像素区域发出的光在相同侧增大显示装置的视角。
当然，如图4所示，当子像素区域还包括白色子像素区域时，在白色子像素区域内，绝缘层23的上表面也可以是一平行于衬底基板的平面，在此不做限定。
进一步优选的，如图2所示，彩色子像素区域内的凸起面231的中间平坦的部分到衬底基板的距离，与白色子像素区域内的凸起面231的中间平坦的部分到衬底基板的距离相同。
本发明实施例可通过同一次构图工艺形成绝缘层23位于彩色子像素区域的凸起面231和位于白色子像素区域内的凸起面231，从而使彩色子像素区域内的凸起面231的中间平坦的部分到衬底基板的距离，与白色子像素区域内的凸起面231的中间平坦的部分到衬底基板的距离相同，在从白色子像素区域与彩色子像素区域发出的光均可增大显示装置视角的基础上，还可简化制备工艺。
优选的，如图2、3、4、5所示，在多个子像素区域内，绝缘层23的上表面还包括由凸起面231的边沿向相邻子像素区域方向延伸、且平行于衬底基板的平面，以使得第一电极还包括覆盖所述平面的部分。
本发明实施中，由于在多个子像素区域内，绝缘层23的上表面还包括所述平面，以使第一电极还包括覆盖所述平面的部分，可在不减小开口率的情况下，增大相邻子像素区域中凸起面231之间的距离，以防止从任一子像素区域内的凸起面231中呈钝角倾斜的边侧发出的光射到相邻子像素区域，并出现子像素间漏光的问题。
优选的，如图7和图8所示，绝缘层23的相邻凸起面231之间构成凹槽232，像素界定层25位于凹槽232中。
本发明实施例中，由于设置于相邻子像素区域之间的像素界定层25，可以吸收从一个子像素区域射向相邻子像素区域的光，从而改善相邻子像素区域间漏光的现象，因此，在所述阵列基板为底发光的情况下，通过将像素界定层25设置于由绝缘层23的相邻凸起面231所构成的凹槽232中，可使像素界定层25最大程度防止相邻子像素区域间漏光。
进一步优选的，如图7所示，所述凹槽232为网状；如图8所示，所述凹槽232为条状。
需要说明的是，当凸起面231为条状图案时，所述凹槽232为条状；当凸起面231为块状图案时，凹槽232为网状。
其中，当凸起面231为条状图案时，凸起面231可包括相对的两个呈钝角倾斜的边侧；当凸起面231为块状图案时，凸起面231可包括相对的两个呈钝角倾斜的边侧，或包括三个、四个呈钝角倾斜的边侧。
本发明实施例提供一种显示装置，包括前述任一实施例的阵列基板。
其中，所述显示装置可以是显示面板，也可以是包含显示面板的显示器。
本发明实施例提供一种显示装置，通过在显示装置的多个彩色子像素区域内，使阵列基板上的绝缘层23的上表面包括中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面231，进而可使位于绝缘层23远离衬底基板一侧的第一电极层24、发光功能层26，在彩色子像素区域内也包括中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面，发光功能层26发出的光经过自身及第一电极层24呈钝角倾斜的边侧后，与竖直方向呈一定夹角射出，即，从发光功能层26中位于呈钝角倾斜的任一边侧发出的光，可向与该边侧相对的一侧倾斜并从衬底基板射出，从而可增大显示装置的视角，改善广视角色偏问题。
在此基础上，现有技术中，在子像素区域内，发光功能层16的表面为一平行于衬底基板的平面；而本发明实施例中，在彩色子像素区域内，发光功能层26具有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面。相对于现有技术，本发明实施例在不改变彩色子像素区域大小的情况下，增大了发光功能层26的发光面积，从而可提高显示装置的发光亮度；在本发明与现有技术的显示装置的显示亮度相同的情况下，可降低TFT功耗，提高TFT的使用寿命。
本发明实施例提供一种阵列基板的制备方法，如图9所示，具体可通过如下步骤实现：
S10、在衬底基板上形成彩色膜层22。
需要说明的是，不对彩色膜层22的具体图案进行限定，彩色膜层22可以是多个彩色图案块，也可以是多个彩色图案条。
S20、在形成有彩色膜层22的衬底基板上形成绝缘层23。
需要说明的是，不对绝缘层23的材料进行限定，只要可以起到绝缘作用、且可以使光透过即可，例如，绝缘层23的材料可以是有机树脂。
S30、在形成有绝缘层23的衬底基板上，形成第一电极层24和像素界定层25；第一电极层24包括多个第一电极，多个第一电极分别对应于由像素界定层25界定出的子像素区域，多个子像素区域包括多个对应于彩色膜层22的彩色子像素区域；其中，在多个彩色子像素区域内，绝缘层23的上表面具有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面231，第一电极覆盖所述凸起面231。
需要说明的是，第一，可以在形成有绝缘层23的衬底基板上先形成第一电极层24，之后，再在形成有第一电极层24的衬底基板上形成像素界定层25；也可以在形成有绝缘层23的衬底基板上先形成像素界定层25，之后，再在形成有像素界定层25的衬底基板上形成第一电极层24。
第二，彩色子像素区域可以包括：红色子像素区域、绿色子像素区域、蓝色子像素区域；还可以包括品红色子像素区域、青色子像素区域、黄色子像素区域。
本发明中，例如在一个子像素区域内设置红色滤光片，则该子像素区域是红色子像素区域；在一个子像素区域内设置绿色滤光片，则该子像素区域是绿色子像素区域；在一个子像素区域内设置蓝色滤光片，则该子像素区域是蓝色子像素区域。
第三，在多个彩色子像素区域内，绝缘层23的凸起面231可以包括相对的两个呈钝角倾斜的边侧，当所述阵列基板应用于显示装置时，相对的两个呈钝角倾斜的边侧可以对应于显示装置的左右两侧，用于增大显示装置左右两侧的视角。当然，绝缘层23的凸起面231中相对的两个呈钝角倾斜的边侧，还可以对应于显示装置的上下两侧，用于增大显示装置上下两侧的视角。
绝缘层23的凸起面231也可以包括三个呈钝角倾斜的边侧，当所述阵列基板应用于显示装置时，三个呈钝角倾斜的边侧可以对应于显示装置的左侧、右侧、和上侧，用于增大显示装置左右两侧、及上侧的视角；或者，三个呈钝角倾斜的边侧可以对应于显示装置的左侧、右侧、和下侧，用于增大显示装置左右两侧、及下侧的视角。当然，绝缘层23的凸起面231中三个呈钝角倾斜的边侧，还可以对应于显示装置的上侧、下侧、和左侧，用于增大显示装置上下两侧、及左侧的视角；或者，三个呈钝角倾斜的边侧对应于显示装置的上侧、下侧、和右侧，用于增大显示装置上下两侧、及右侧的视角。
绝缘层23的凸起面231也可以包括四个呈钝角倾斜的边侧，当所述阵列基板应用于显示装置时，四个呈钝角倾斜的边侧可以对应于显示装置中的左侧、右侧、上侧、和下侧，用于增大OLED显示装置左右两侧、及上下两侧的视角。
S40、在形成有第一电极层24和像素界定层25的衬底基板上，形成覆盖第一电极层24和像素界定层25的发光功能层26。
S50、在形成有发光功能层26的衬底基板上，形成覆盖发光功能层26的第二电极层27。
需要说明的是，第一电极层24为阳极，第二电极层27为阴极；或者，第一电极层24为阴极，第二电极层27为阳极。其中，第一电极层24的材料可以是锡氧化铟(Indium TinOxide，简称ITO)等透明导电材料；第二电极层27的材料可以是导电金属，例如可以是金属铝。
本发明实施例提供一种阵列基板的制备方法，具有与前述显示装置相同的技术效果，在此不再赘述。
优选的，如图2所示，多个子像素区域还包括多个白色子像素区域；在白色子像素区域内，绝缘层23远离衬底基板的一侧形成有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面231，其中，位于白色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧，与彩色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧的位置分布相同。
需要说明的是，位于白色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧，与彩色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧的位置分布相同，是指：白色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧的个数、以及倾斜边侧对应于显示装置的侧面，均与彩色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧相同。
示例的，若彩色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧为相对的两侧，且将所述阵列基板应用于显示装置时，彩色子像素区域内的凸起面231中倾斜的边侧对应于显示装置的左右两侧，则白色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧也为相对的两侧，且白色子像素区域内的凸起面231中倾斜的边侧也对应于显示装置的左右两侧。
同样的，白色子像素区域内的凸起面231还可以包括三个呈钝角倾斜的边侧或包括四个呈钝角倾斜的边侧，且均与彩色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧的位置分布相同。
本发明实施例中，在子像素区域还包括白色子像素区域的情况下，在白色子像素区域内，使绝缘层23远离衬底基板的一侧形成有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面231，这样一来，从白色子像素区域发出的光也具有增大显示装置的视角的作用；在此基础上，使位于白色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧，与彩色子像素区域内的凸起面231的倾斜边侧的位置分布相同，可使白色子像素区域与彩色子像素区域发出的光在相同侧增大显示装置的视角。
当然，如图4所示，当子像素区域还包括白色子像素区域时，在白色子像素区域内，绝缘层23的上表面也可以是一平行于衬底基板的平面，在此不做限定。
具体的，在衬底基板上形成彩色膜层22之后，可在形成有彩色膜层22的衬底基板上，形成厚度处处相等的绝缘层23。此时，由于位于绝缘层23与衬底基板之间的彩色膜层22具有一定的图案，因此，在衬底基板上具有彩色膜层22的区域，绝缘层23的上表面与彩色膜层22的上表面处处平行，在衬底基板上无彩色膜层22的区域，绝缘层23的上表面与衬底基板的上表面平行。这样一来，即可在多个彩色子像素区域内，使绝缘层23的上表面具有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面231；在多个白色子像素区域内，使绝缘层23的上表面为一平行于衬底基板的平面。
优选的，如图10、11(a)、11(b)、11(c)所示，在形成有彩色膜层22的衬底基板上形成绝缘层23，包括：在形成有彩色膜层22的衬底基板上形成上表面平坦的绝缘薄膜233，对绝缘薄膜233进行刻蚀形成凹槽232，以得到上表面具有中间平坦且边侧呈钝角倾斜的凸起面231的绝缘层23。
具体的，在形成有彩色膜层22的衬底基板上形成绝缘层23，如图10所示，具体可通过如下步骤实现：
S100、如图11(a)所示，在形成有彩色膜层22的衬底基板上形成上表面平坦的绝缘薄膜233，并在绝缘薄膜233上方形成光刻胶30。
S200、利用半透掩模板对光刻胶30进行曝光，显影后形成光刻胶完全保留部分、光刻胶完全去除部分、光刻胶半保留部分；光刻胶完全保留部分与待形成的凸起面231对应，光刻胶完全去除部分与阵列基板上待形成的过孔对应，光刻胶半保留部分与显示区域中的其他区域对应。
其中，半色调掩模板包括不透明部分、半透明部分和透明部分。光刻胶30经过曝光后，光刻胶完全保留部分对应半色调掩模板的不透明部分，光刻胶半保留部分对应半色调掩模板的半透明部分，光刻胶完全去除部分对应半色调掩模板的透明部分。
当然，上述所指的光刻胶30为正性胶，当光刻胶30为负性胶时，光刻胶完全保留部分则对应半色调掩模板的透明部分，光刻胶完全去除部分则对应半色调掩模板的不透明部分，光刻胶半保留部分依然对应半色调掩模板的半透明部分。
需要说明的是，光刻胶完全去除部分与阵列基板上待形成的过孔对应，其中，阵列基板上待形成的过孔，例如可以是为了使第一电极层24与TFT中的漏极电连接的过孔。
S300、采用刻蚀工艺，对与光刻胶完全去除部分对应的绝缘薄膜233进行刻蚀，以得到过孔(图中未画出)。
S400、如图11(b)所示，采用灰化工艺去除光刻胶半保留部分。
S500、如图11(c)所示，采用刻蚀工艺，对露出的绝缘薄膜233进行刻蚀，形成绝缘层23(此图仅以包含白色子像素区域、且白色子像素区域内的绝缘层上表面也具有凸起面为例)。
本发明实施例中，通过先在衬底基板上形成上表面平坦的绝缘薄膜233，之后，再对绝缘薄膜233进行刻蚀形成凹槽232，从而使得所形成的绝缘层23的上表面具有中间平坦且边侧呈钝角倾斜的凸起面231，并且可根据刻蚀时间等调整凹槽232的深度，以得到理想的凹槽232。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：
依次设置在衬底基板上的彩色膜层和绝缘层；
设置在所述绝缘层远离所述衬底基板一侧的像素界定层，所述像素界定层用于界定出多个子像素区域，所述多个子像素区域包括多个对应于所述彩色膜层的彩色子像素区域；
设置在所述绝缘层远离所述衬底基板一侧的第一电极层，所述第一电极层包括多个分别对应于所述子像素区域的第一电极，其中，在多个所述彩色子像素区域内，所述绝缘层的上表面具有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面，所述第一电极覆盖所述凸起面；
覆盖所述第一电极层和所述像素界定层的发光功能层；
覆盖所述发光功能层的第二电极层。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述多个子像素区域还包括多个白色子像素区域；
在所述白色子像素区域内，所述绝缘层远离所述衬底基板的一侧形成有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面，其中，位于所述白色子像素区域内的所述凸起面的倾斜边侧，与所述彩色子像素区域内的所述凸起面的倾斜边侧的位置分布相同。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述彩色子像素区域内的所述凸起面的中间平坦的部分到所述衬底基板的距离，与所述白色子像素区域内的所述凸起面的中间平坦的部分到所述衬底基板的距离相同。
4.根据权利要求1至3任一项所述的阵列基板，其特征在于，在多个所述子像素区域内，所述绝缘层的上表面还包括由所述凸起面的边沿向相邻所述子像素区域方向延伸、且平行于所述衬底基板的平面，以使得所述第一电极还包括覆盖所述平面的部分。
5.根据权利要求1至3任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述绝缘层的相邻所述凸起面之间构成凹槽，所述像素界定层位于所述凹槽中。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽为网状或条状。
7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至6任一项所述的阵列基板。
8.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上形成彩色膜层；
在形成有所述彩色膜层的衬底基板上形成绝缘层；
在形成有所述绝缘层的衬底基板上，形成第一电极层和像素界定层；所述第一电极层包括多个第一电极，多个所述第一电极分别对应于由所述像素界定层界定出的子像素区域，多个所述子像素区域包括多个对应于所述彩色膜层的彩色子像素区域；其中，在多个所述彩色子像素区域内，所述绝缘层的上表面具有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面，所述第一电极覆盖所述凸起面；
在形成有所述第一电极层和所述像素界定层的衬底基板上，形成覆盖所述第一电极层和所述像素界定层的发光功能层；
在形成有所述发光功能层的衬底基板上，形成覆盖所述发光功能层的第二电极层。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述多个子像素区域还包括多个白色子像素区域；
在所述白色子像素区域内，所述绝缘层远离所述衬底基板的一侧形成有中间平坦且至少两个相对的边侧呈钝角倾斜的凸起面，其中，位于所述白色子像素区域内的所述凸起面的倾斜边侧，与所述彩色子像素区域内的所述凸起面的倾斜边侧的位置分布相同。
10.根据权利要求8或9所述的方法，其特征在于，所述在形成有所述彩色膜层的衬底基板上形成绝缘层，包括：
在形成有所述彩色膜层的衬底基板上形成上表面平坦的绝缘薄膜，对所述绝缘薄膜进行刻蚀形成凹槽，以得到上表面具有中间平坦且边侧呈钝角倾斜的凸起面的绝缘层。
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