CN108295388A - 一种磁共振放疗系统中的支架运动控制方法及装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种磁共振放疗系统的支架运动控制方法及装置，获得病人的待治疗位置后，移动支架使得待治疗位置位于能够被射线照射到的初始位置；然后，利用射线照射待治疗位置处的病灶进行放射治疗。放射治疗过程中，需要旋转支架以使射线从人体的另一个角度照射到待治疗位置，由于磁共振两磁极间空间有限，为了减少支架旋转所需的空间，支架旋转一定角度，同时，沿X轴平移支架，使得支架底座的圆心靠近Y轴。从而减少底座做偏心旋转时所需的空间。此外，支架旋转的同时平移底座，使圆心靠近Y轴移动，这样能使支架连续旋转。

Description

一种磁共振放疗系统中的支架运动控制方法及装置

技术领域

本发明属于医疗器械技术领域，尤其涉及一种磁共振放疗系统中的支架运动控制方法及装置。

背景技术

磁共振放疗是在磁共振图像引导下进行放射治疗，是一种精准的放射治疗技术，用于对肿瘤放射治疗。放射源发出射线形成射线束并对准肿瘤病灶将肿瘤杀死。

然而，在放射治疗过程中，射线会对除肿瘤外的正常组织产生一定伤害，为了减少对正常组织的伤害，在放疗过程中旋转放射源或旋转病人，从而使放射源发出的射线能够从人体的不同位置照射到肿瘤位置。针对旋转病人的方案，如果肿瘤位置不在支架的中心轴，即，支架的圆形底座的旋转轴偏离了圆心位置。这样，当绕旋转轴旋转时，圆形底座上距离旋转轴较远的点所需的旋转空间很大，导致整个支架需要较大的空间，而磁共振系统的空间有限，不能提供充足的旋转空间。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的在于提供一种磁共振放疗系统的支架运动控制方法及装置，通过控制支架运动以减少支架旋转所需的空间。

第一方面，本申请提供了一种磁共振放疗系统的支架运动控制方法，包括：

获取位于所述支架上的病人的待治疗位置；

移动所述支架以使所述待治疗位置位于初始位置，所述初始位置为能够被射线照射到的位置；

将所述支架绕所述待治疗位置按照预设旋转方向旋转预设角度，以及，根据所述支架上底座的圆心与Y轴之间的偏移关系沿X轴平移所述支架，以使所述圆心靠近所述Y轴，所述X轴是所述射线照射路径在所述底座上的投影轴，所述Y轴是所述底座上与X轴垂直的坐标轴。

可选地，所述初始位置是所述磁共振放疗系统的系统中心，所述系统中心是所述射线照射方向与Z轴的交叉点，所述Z轴是与所述X轴及所述Y轴均相交且垂直的轴；

所述移动所述支架以使所述待治疗位置位于初始位置，包括：

将所述支架旋转第一角度，以使所述待治疗位置在所述底座上的投影位置位于所述Y轴上；

获取所述投影位置与所述X轴之间的第二最短距离；

将所述支架沿Y轴平移所述第二最短距离，以使所述投影位置位于所述X轴与所述Y轴的交叉点；

将所述支架沿所述Z轴平移以使所述待治疗位置位于所述系统中心。

可选地，所述初始位置是所述射线照射路径；

所述移动所述支架以使所述待治疗位置位于初始位置，包括：

获取所述待治疗位置在所述底座上的投影位置与所述X轴之间的第三最短距离；

将所述支架沿所述Y轴平移所述第三最短距离，以使所述投影位置位于所述X轴上；

将所述支架沿Z轴平移，以使所述待治疗位置位于所述射线照射路径上，所述Z轴是与所述X轴及所述Y轴均相交且垂直的轴。

可选地，所述根据所述支架上底座的圆心与Y轴之间的偏移关系沿X轴平移所述支架，以使所述圆心靠近所述Y轴，包括：

当所述底座的圆心位于所述Y轴左侧时，将所述支架沿所述X轴向右平移，以使所述圆心靠近所述Y轴；

当所述底座的圆心位于所述Y轴右侧时，将所述支架沿所述X轴向左平移，以使所述圆心靠近所述Y轴。

可选地，所述获取位于所述支架上的病人的待治疗位置，包括：

利用磁共振系统扫描位于所述支架上的病人获得磁共振图像；

分析所述磁共振图像获得所述待治疗位置。

第二方面，一种磁共振放疗系统的支架运动控制装置，包括：

获取模块，用于获取位于所述支架上的病人的待治疗位置；

第一移动控制模块，用于移动所述支架，以使所述待治疗位置位于初始位置，所述初始位置为能够被射线照射到的位置；

第二移动控制模块，用于将所述支架绕所述待治疗位置按照预设旋转方向旋转预设角度，以及，根据所述支架上底座的圆心与Y轴之间的偏移关系沿X轴平移所述支架，以使所述圆心靠近所述Y轴，所述X轴是所述射线照射路径在所述底座上的投影轴，所述Y轴是所述底座上与X轴垂直的坐标轴。

可选地，所述初始位置是所述磁共振放疗系统的系统中心，所述系统中心是所述射线照射方向与Z轴的交叉点，所述Z轴是与所述X轴及所述Y轴均相交且垂直的轴；所述第一移动控制模块包括：

旋转控制子模块，用于将所述支架旋转第一角度，以使所述待治疗位置在所述底座上的投影位置位于所述Y轴上；

第一获取子模块，用于获取所述投影位置与所述X轴之间的第二最短距离；

第一平移控制子模块，用于将所述支架沿Y轴平移所述第二最短距离，以使所述投影位置位于所述X轴与所述Y轴的交叉点；

第二平移控制子模块，用于将所述支架沿所述Z轴平移以使所述待治疗位置位于所述系统中心。

可选地，所述初始位置是所述射线照射路径；所述第一移动控制模块包括：

第二获取子模块，用于获取所述待治疗位置在所述底座上的投影位置与所述X轴之间的第三最短距离；

第三平移控制子模块，用于将所述支架沿所述Y轴平移所述第三最短距离，以使所述投影位置位于所述X轴上；

第四平移控制子模块，用于将所述支架沿Z轴平移，以使所述待治疗位置位于所述射线照射路径上，所述Z轴是与所述X轴及所述Y轴均相交且垂直的轴。

可选地，所述第二移动控制模块用于根据所述支架上底座的圆心与Y轴之间的偏移关系沿X轴平移所述支架，以使所述圆心靠近所述Y轴时，包括：

第五平移控制子模块，用于当所述底座的圆心位于所述Y轴左侧时，将所述支架沿所述X轴向右平移，以使所述圆心靠近所述Y轴；

第六平移控制子模块，用于当所述底座的圆心位于所述Y轴右侧时，将所述支架沿所述X轴向左平移，以使所述圆心靠近所述Y轴。

可选地，所述获取模块包括：

第三获取子模块，用于利用磁共振系统扫描位于所述支架上的病人获得磁共振图像；

分析子模块，用于分析所述磁共振图像获得所述待治疗位置。

本实施例提供的磁共振放疗系统的支架运动控制方法，通过磁共振系统获得病人的待治疗位置后，移动支架使得待治疗位置位于能够被射线照射到的初始位置；然后，利用射线照射所述待治疗位置处的病灶进行放射治疗。放射治疗过程中，需要旋转支架以使射线从人体的另一个角度照射到待治疗位置，此时，控制支架绕待治疗位置按照预设旋转方向旋转预设角度后到达第一位置；为了减少支架旋转所需的空间，支架旋转一定角度，同时，沿X轴平移支架，使得支架底座的圆心靠近Y轴。以减少底座做偏心旋转时所需的空间。此外，支架旋转的同时平移底座，使圆心靠近Y轴移动，这样能够使支架连续性旋转。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1a是本申请实施例一种磁共振放疗系统的结构示意图；

图1b是本申请实施例一种磁共振放疗系统中支架的结构示意图；

图2是本申请实施例一种磁共振放疗系统的支架运动控制方法的流程图；

图3是本申请实施例一种初始位置的示意图；

图4是本申请实施例另一种初始位置的示意图；

图5是本申请实施例一种支架移动位置的示意图；

图6是本申请实施例另一种支架移动位置的示意图；

图7是本申请实施例一种将支架移动至初始位置过程的流程图；

图8是本申请实施例一种支架移动位置的示意图；

图9是本申请实施例另一种将支架移动至初始位置过程的流程图；

图10是本申请实施例另一种支架移动位置的示意图；

图11是本申请实施例一种磁共振放疗系统中支架的控制装置示意图。

具体实施方式

磁共振放射治疗过程中，射线会对正常组织产生一定的伤害，为了减少射线对正常组织的伤害，通过旋转支架来旋转病人，以使射线能够从人体的不同角度照射到病灶位置。即，放射治疗过程中，需要旋转支架。但是，当病人的病灶不在支架的中心轴上时，绕病灶位置旋转支架会使圆形底座做偏心旋转，这样，旋转支架所需的空间由圆形底座上距离旋转轴较远的点决定，因此，旋转支架需要较大的空间，而磁共振系统的空间有限，不能提供足够的旋转空间。本申请提供了一种磁共振放疗系统的支架运动控制方法，当确定病人的病灶位置后，移动支架使病灶位置位于能够被射线照射的初始位置。然后，利用射线进行放射治疗。在放射治疗过程中，需要旋转支架，以使射线能够从人体的不同角度照射病灶位置。此时，控制支架绕病灶位置按照预设旋转方向旋转预设角度，同时，沿X轴平移支架，使得支架底座的圆心靠近Y轴，从而减少底座做偏心旋转时所需的空间。

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参见图1a，示出了本申请实施例一种磁共振放疗系统的结构示意图，如图1a所示，该系统包括放射源110、第一磁极120、第二磁极130、支架140和上位机(图中未示出)。

支架140位于第一磁极120和第二磁极130之间，病人位于该支架140上。当支架140旋转时会带动病人旋转。如图1b所示，支架140包括圆形的底座141，该底座141下方设置有驱动机构，该驱动机构能够使支架140沿X轴平移，并绕旋转轴进行旋转。

第一磁极120和第二磁极130，用于产生磁共振成像所需的均匀磁场。

放射源110用于发射治疗射线。放射源110发射的射线经由千叶准直器形成特定形状的射线束并照射到病人的病灶位置。

上位机通过控制支架140上的驱动机构来控制支架140运动，以及，控制放射源110的工作状态。

请参见图2，示出了本申请实施例一种磁共振放疗系统的支架运动控制方法的流程图，该方法用于图1所示磁共振系统的上位机中，如图2所示，该方法可以包括以下步骤：

S110，获取位于支架上的病人的待治疗位置。

放射治疗过程中通过上位机控制磁共振系统对病人进行实时扫描，得到实时的磁共振图像，分析该磁共振图像获得病灶位置，即，获得病人的待治疗位置。

S120，移动支架，以使待治疗位置位于初始位置。

通过控制支架上的驱动机构来控制支架移动。所述初始位置为射线能够照射到所述待治疗位置的位置。

将待治疗位置移至初始位置后，控制放射源发射放疗射线，对病灶进行放射治疗。

在本申请的一个实施例中，该初始位置可以是系统中心，系统中心是Z轴与放疗射线路径的交叉点，即，系统中心在底座上的投影为X轴与Y轴的交叉点。

如图3所示，为磁共振系统中磁极与支架的俯视示意图，图3中圆形210表示支架，圆形两侧的长方形220和230表示两个磁极。X轴即放疗射线在支架的底座上的投影；Y轴是底座上与X轴垂直的坐标轴；A点表示病灶位置在底座上的投影，A点位于X轴和Y轴的交叉点。

在本申请的另一个实施例中，该初始位置可以是放疗射线路径，即病灶位置在底座上的投影位于X轴上，但可能不在系统中心。

如图4所示，为磁共振系统中磁极与支架的俯视示意图，A点表示病灶位置在底座上的投影，由图4可知，A点位于X轴上，但不在X轴和Y轴的交叉点上。

S130，将支架绕待治疗位置按照预设旋转方向旋转预设角度，以及，根据底座的圆心与Y轴之间的偏移关系沿X轴平移支架，以使圆心靠近Y轴。

为了减少射线对人体的正常组织的伤害，放疗过程中旋转支架，以使射线从人体的不同角度照射病灶位置，避免射线一直照射人体某一处正常组织，导致该处的正常组织受到严重伤害。

预设旋转方向可以根据实际需求自行设定，例如，顺时针方向。预设角度也可以根据实际需求自行设定，本申请对此并不限定。

在本申请的一个实施例中，可以是先控制支架旋转一预设角度，然后，再控制支架沿X轴平移从而使底座的圆心靠近Y轴。

例如，如图5所示，在已经将病灶位置移至系统中心的前提下，然后，以病灶位置A点为中心顺时针旋转α角度后，支架的底座从实线位置移至虚线所示的位置，底座的圆心从O1点移动到O2点。此时，底座的圆心从位于Y轴的O1点移到Y轴右侧的O2点。

由于在X轴方向上两磁极间的距离有限，如果继续顺时针旋转，支架的底座将与右侧的磁极发生碰撞；因此，将支架沿X轴向左平移，使支架底座的圆心从O2点靠近Y轴。

例如，如图6所示，支架的底座沿X轴向左平移，即从实线位置移动到虚线位置，此时，底座的圆心从O2点移动到O3点，同时，病灶位置从A点移动到A1点。

然后，继续以A1点为旋转中心顺时针旋转α角度，同时，平移支架以使支架底座的圆心移动到Y轴上，即，重复执行旋转一定角度并将支架底座的圆心平移到Y轴上的操作，直到放射治疗过程结束。

如果旋转一预设角度后，支架底座的圆心位于Y轴的左侧，则将支架沿X轴向右平移，以使底座的圆心位于Y轴上。在本申请的其它实施例中，也可以将底座的圆心移动至靠近Y轴但不在Y轴上。

在本申请的另一个实施例中，控制支架旋转一预设角度的同时，控制支架沿X轴平移支架，这样，能够控制支架连续旋转。此种控制方式与旋转、平移分步控制的方式相似，此处不再赘述。

本实施例提供的磁共振放疗系统的支架运动控制方法，获得病人的待治疗位置后，移动支架使得待治疗位置位于能够被射线照射到的初始位置；然后，利用射线照射所述待治疗位置处的病灶进行放射治疗。放射治疗过程中，需要旋转支架以使射线从人体的另一个角度照射到待治疗位置，此时，控制支架绕待治疗位置按照预设旋转方向旋转预设角度，同时，控制支架沿X轴平移，使得底座的圆心靠近Y轴。这样，减少底座做偏心旋转时所需的空间，即减少了支架旋转时所需要的空间。此外，支架旋转的同时平移底座，使圆心靠近Y轴移动，这样能够保证支架连续性旋转。

请参见图7，示出了本申请实施例一种移动支架至初始位置的过程的流程图，本实施例中，初始位置为磁共振系统的系统中心。如图7所示，S120可以包括以下步骤：

S1211，将支架旋转第一角度，以使待治疗位置在底座上的投影位置位于Y轴上。

如图8所示，待治疗位置在底座上的投影位置为B点，B点既不位于X轴也不位于Y轴，此时，获取B点与底座圆心O点之间的连线与Y轴之间的夹角β，将支架以O点为旋转中心旋转β以使B点移动至B1点。

S1212，获取投影位置与X轴之间的第二最短距离。

然后，获取B1点距离X轴的最短距离为d1。

S1213，将支架沿Y轴平移第二最短距离，以使投影位置位于X轴与Y轴的交叉点。

如图8所示，再将支架沿Y轴的正方向平移距离d1，从而使B1点移动到B2点，即底座从实线位置移到虚线位置。

S1214，将支架沿Z轴平移以使待治疗位置位于系统中心。

最后，沿Z轴方向平移支架以使待治疗位置处于系统中心。

请参见图9，示出了本申请实施例另一种移动支架至初始位置的过程的流程图，本实施例中，初始位置为射线照射路径，而不是系统中心。如图9所示，S120可以包括以下步骤：

S1221，获取待治疗位置在底座上的投影位置与X轴之间的第三最短距离。

如图10所示，C点为待治疗位置在支架的底座上的投影位置。获取C点与X轴之间的距离d2。

S1222，将支架沿Y轴平移第三最短距离，以使待治疗位置的投影位置位于X轴上。

如图10所示，C点为待治疗位置在支架的底座上的投影位置。获取C点与X轴之间的距离d2。然后，将支架沿Y轴的正方向平移d2，使C点移动到位于X轴的C1点，底座的圆心从O点移动到O1点。

S1223，将支架沿Z轴平移，以使待治疗位置位于所述射线照射路径上。

所述Z轴是与所述X轴及所述Y轴均相交且垂直的轴。

最后，将支架沿Z轴平移，使得C1点移动到射线照射路径上。

相应于上述的磁共振放疗系统的支架运动控制方法实施例，本申请还提供了磁共振放疗系统的支架运动控制装置实施例。

请参见图11，示出了本申请实施例一种磁共振放疗系统的支架运动控制装置的框图，该装置应用于上位机中，如图11所示，该装置可以包括：获取模块110、第一移动控制模块120和第二移动控制模块130；

获取模块110，用于获取位于支架上的病人的待治疗位置。

放射治疗过程中经由第三获取子模块利用磁共振系统对病人进行实时扫描，得到实时的磁共振图像；然后，利用分析子模块分析该磁共振图像获得病灶位置，即，获得病人的待治疗位置。

第一移动控制模块120，用于移动支架，以使待治疗位置位于初始位置。

所述初始位置为射线能够照射到所述待治疗位置的位置。

在本申请的一个实施例中，初始位置是磁共振放疗系统的系统中心，系统中心是所述射线照射方向与Z轴的交叉点，Z轴是与X轴及Y轴均相交且垂直的轴；此种应用场景下，第一移动控制模块120可以包括：旋转控制子模块、第一获取子模块、第一平移控制子模块、第二平移控制子模块；

该旋转控制子模块，用于将支架旋转第一角度，以使待治疗位置在底座上的投影位置位于Y轴上。

该第一获取子模块，用于获取投影位置与X轴之间的第二最短距离。

该第一平移控制子模块，用于将支架沿Y轴平移所述第二最短距离，以使投影位置位于X轴与Y轴的交叉点；

该第二平移控制子模块，用于将支架沿Z轴平移以使待治疗位置位于系统中心。

在本申请的另一个实施例中，初始位置是射线照射路径。此种应用场景下，第一移动控制模块包括：第二获取子模块、第三平移控制子模块和第四平移控制子模块；

该第二获取子模块，用于获取待治疗位置在底座上的投影位置与X轴之间的第三最短距离。

第三平移控制子模块，用于将支架沿Y轴平移第三最短距离，以使投影位置位于X轴上。

第四平移控制子模块，用于将支架沿Z轴平移，以使待治疗位置位于射线照射路径上，Z轴是与X轴及Y轴均相交且垂直的轴。

将待治疗位置移至初始位置后，控制放射源发射放疗射线，对病灶位置进行放射治疗。

第二移动控制模块130，用于将支架绕治疗位置按照预设旋转方向旋转预设角度，以及，根据支架上底座的圆心与Y轴之间的偏移关系沿X轴平移支架，以使圆心靠近Y轴。

X轴是所述射线照射路径在所述底座上的投影轴，Y轴是所述底座上与X轴垂直的坐标轴。

为了减少射线对人体的正常组织的伤害，放疗过程中旋转支架，以使射线从人体的不同角度照射病灶位置，避免射线一直照射人体某一处正常组织，导致该处的正常组织受到严重伤害。

预设旋转方向可以根据实际需求自行设定，例如，顺时针方向。预设角度也可以根据实际需求自行设定，本申请对此并不限定。

在本申请的一个实施例中，可以是先控制支架旋转一预设角度，然后，再控制支架沿X轴平移从而使底座的圆心靠近Y轴；

在本申请的另一个实施例中，控制支架旋转一预设角度的同时，控制支架沿X轴平移支架，这样，能够控制支架连续旋转。

旋转支架的过程中，如果底座的圆心偏移到Y轴左侧，则控制支架沿X轴向右平移，以使支架上底座的圆心靠近Y轴；如果底座的圆心偏移到Y轴右侧时，将支架沿X轴向左平移，以使圆心靠近Y轴。

本实施例提供的磁共振放疗系统的支架运动控制装置，通过磁共振扫描图像获得病人的待治疗位置后，移动支架使得待治疗位置位于能够被射线照射到的初始位置；然后，利用射线照射所述待治疗位置处的病灶进行放射治疗。放射治疗过程中，需要旋转支架以使射线从人体的另一个角度照射到待治疗位置，此时，控制支架绕待治疗位置按照预设旋转方向旋转预设角度后到达第一位置；为了减少支架旋转所需的空间，支架旋转一定角度，同时，沿X轴平移支架，使得支架底座的圆心靠近Y轴。从而，减少底座做偏心旋转时所需的空间，即减少了支架旋转时所需要的空间。此外，支架旋转的同时平移底座，使圆心靠近Y轴移动，这样能够保证支架连续性旋转。

对于前述的各方法实施例，为了简单描述，故将其都表述为一系列的动作组合，但是本领域技术人员应该知悉，本发明并不受所描述的动作顺序的限制，因为依据本发明，某些步骤可以采用其他顺序或者同时进行。其次，本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于优选实施例，所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。

需要说明的是，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。对于装置类实施例而言，由于其与方法实施例基本相似，所以描述的比较简单，相关之处参见方法实施例的部分说明即可。

本申请各实施例方法中的步骤可以根据实际需要进行顺序调整、合并和删减。

本申请各实施例的各种装置中的模块和子模块可以根据实际需要进行合并、划分和删减。

本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的终端，装置和方法，可以通过其它的方式实现。例如，以上所描述的终端实施例仅仅是示意性的，例如，模块或子模块的划分，仅仅为一种逻辑功能划分，实际实现时可以有另外的划分方式，例如多个子模块或模块可以结合或者可以集成到另一个模块，或一些特征可以忽略，或不执行。另一点，所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口，装置或模块的间接耦合或通信连接，可以是电性，机械或其它的形式。

作为分离部件说明的模块或子模块可以是或者也可以不是物理上分开的，作为模块或子模块的部件可以是或者也可以不是物理模块或子模块，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络模块或子模块上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部模块或子模块来实现本实施例方案的目的。

另外，在本申请各个实施例中的各功能模块或子模块可以集成在一个处理模块中，也可以是各个模块或子模块单独物理存在，也可以两个或两个以上模块或子模块集成在一个模块中。上述集成的模块或子模块既可以采用硬件的形式实现，也可以采用软件功能模块或子模块的形式实现。

最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种磁共振放疗系统的支架运动控制方法，其特征在于，包括：

获取位于所述支架上的病人的待治疗位置；

移动所述支架以使所述待治疗位置位于初始位置，所述初始位置为能够被射线照射到的位置；

将所述支架绕所述待治疗位置按照预设旋转方向旋转预设角度，以及，根据所述支架上底座的圆心与Y轴之间的偏移关系沿X轴平移所述支架，以使所述圆心靠近所述Y轴，所述X轴是所述射线照射路径在所述底座上的投影轴，所述Y轴是所述底座上与X轴垂直的坐标轴。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述初始位置是所述磁共振放疗系统的系统中心，所述系统中心是所述射线照射方向与Z轴的交叉点，所述Z轴是与所述X轴及所述Y轴均相交且垂直的轴；

所述移动所述支架以使所述待治疗位置位于初始位置，包括：

将所述支架旋转第一角度，以使所述待治疗位置在所述底座上的投影位置位于所述Y轴上；

获取所述投影位置与所述X轴之间的第二最短距离；

将所述支架沿Y轴平移所述第二最短距离，以使所述投影位置位于所述X轴与所述Y轴的交叉点；

将所述支架沿所述Z轴平移以使所述待治疗位置位于所述系统中心。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述初始位置是所述射线照射路径；

所述移动所述支架以使所述待治疗位置位于初始位置，包括：

获取所述待治疗位置在所述底座上的投影位置与所述X轴之间的第三最短距离；

将所述支架沿所述Y轴平移所述第三最短距离，以使所述投影位置位于所述X轴上；

将所述支架沿Z轴平移，以使所述待治疗位置位于所述射线照射路径上，所述Z轴是与所述X轴及所述Y轴均相交且垂直的轴。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述支架上底座的圆心与Y轴之间的偏移关系沿X轴平移所述支架，以使所述圆心靠近所述Y轴，包括：

当所述底座的圆心位于所述Y轴左侧时，将所述支架沿所述X轴向右平移，以使所述圆心靠近所述Y轴；

当所述底座的圆心位于所述Y轴右侧时，将所述支架沿所述X轴向左平移，以使所述圆心靠近所述Y轴。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取位于所述支架上的病人的待治疗位置，包括：

利用磁共振系统扫描位于所述支架上的病人获得磁共振图像；

分析所述磁共振图像获得所述待治疗位置。

6.一种磁共振放疗系统的支架运动控制装置，其特征在于，包括：

获取模块，用于获取位于所述支架上的病人的待治疗位置；

第一移动控制模块，用于移动所述支架以使所述待治疗位置位于初始位置，所述初始位置为能够被射线照射到的位置；

第二移动控制模块，用于将所述支架绕所述待治疗位置按照预设旋转方向旋转预设角度，以及，根据所述支架上底座的圆心与Y轴之间的偏移关系沿X轴平移所述支架，以使所述圆心靠近所述Y轴，所述X轴是所述射线照射路径在所述底座上的投影轴，所述Y轴是所述底座上与X轴垂直的坐标轴。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述初始位置是所述磁共振放疗系统的系统中心，所述系统中心是所述射线照射方向与Z轴的交叉点，所述Z轴是与所述X轴及所述Y轴均相交且垂直的轴；所述第一移动控制模块包括：

旋转控制子模块，用于将所述支架旋转第一角度，以使所述待治疗位置在所述底座上的投影位置位于所述Y轴上；

第一获取子模块，用于获取所述投影位置与所述X轴之间的第二最短距离；

第一平移控制子模块，用于将所述支架沿Y轴平移所述第二最短距离，以使所述投影位置位于所述X轴与所述Y轴的交叉点；

第二平移控制子模块，用于将所述支架沿所述Z轴平移以使所述待治疗位置位于所述系统中心。

8.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述初始位置是所述射线照射路径；所述第一移动控制模块包括：

第二获取子模块，用于获取所述待治疗位置在所述底座上的投影位置与所述X轴之间的第三最短距离；

第三平移控制子模块，用于将所述支架沿所述Y轴平移所述第三最短距离，以使所述投影位置位于所述X轴上；

第四平移控制子模块，用于将所述支架沿Z轴平移，以使所述待治疗位置位于所述射线照射路径上，所述Z轴是与所述X轴及所述Y轴均相交且垂直的轴。

9.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述第二移动控制模块用于根据所述支架上底座的圆心与Y轴之间的偏移关系沿X轴平移所述支架，以使所述圆心靠近所述Y轴时，包括：

第五平移控制子模块，用于当所述底座的圆心位于所述Y轴左侧时，将所述支架沿所述X轴向右平移，以使所述圆心靠近所述Y轴；

第六平移控制子模块，用于当所述底座的圆心位于所述Y轴右侧时，将所述支架沿所述X轴向左平移，以使所述圆心靠近所述Y轴。

10.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述获取模块包括：

第三获取子模块，用于利用磁共振系统扫描位于所述支架上的病人获得磁共振图像；

分析子模块，用于分析所述磁共振图像获得所述待治疗位置。