CN108227387A - 光刻胶喷嘴及其使用方法 - Google Patents
光刻胶喷嘴及其使用方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108227387A CN108227387A CN201611137774.4A CN201611137774A CN108227387A CN 108227387 A CN108227387 A CN 108227387A CN 201611137774 A CN201611137774 A CN 201611137774A CN 108227387 A CN108227387 A CN 108227387A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- raceway groove
- photoresist
- fluid raceway
- fluid
- tip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Nozzles (AREA)
Abstract
本发明实施例提供一种光刻胶喷嘴及其使用方法。光刻胶喷嘴包括尖端,其中尖端包括第一部分以及第二部分。第一部分具有第一流体沟道,以使第一部分具有圆锥状的中空结构,且第一部分具有第一内表面以及第一外表面。第二部分具有第二流体沟道,以使第二部分具有圆锥状的中空结构,且第二部分具有第二内表面以及第二外表面。第二部分连接第一部分,第一内表面与第二内表面相接且为共平面,且第一外表面与第二外表面相接且具有夹角。
Description
技术领域
本发明实施例是有关于一种喷嘴及其使用方法,且特别是有关于一种光刻胶喷嘴及其使用方法。
背景技术
半导体集成电路(integrated circuit,IC)工业已历经快速成长的阶段。在IC材料与设计方面的技术发展的多个IC世代中,每个世代具有相较于前一世代更小且更复杂的电路。换言之,这样的IC发展趋势使得加工与制造IC的复杂度以及精密度亦同时提高。目前各方正努力开发适用于较高的加工与制造IC的复杂度以及精密度的技术与设备。
发明内容
本发明实施例提供一种光刻胶喷嘴。光刻胶喷嘴包括尖端,其中尖端包括第一部分以及第二部分。第一部分具有第一流体沟道,以使第一部分具有圆锥状的中空结构,且第一部分具有第一内表面以及第一外表面。第二部分具有第二流体沟道,以使第二部分具有圆锥状的中空结构,且第二部分具有第二内表面以及第二外表面。第二部分连接第一部分,第一内表面与第二内表面相接且为共平面,以使第一流体沟道与第二流体沟道相连接,且第一外表面与第二外表面相接且在相接处具有夹角。
本发明实施例提供一种光刻胶喷嘴。光刻胶喷嘴包括尖端以及主体。尖端具有圆锥状的中空结构,其中尖端包括第一部分以及第二部分。第一部分具有第一内表面、第一外表面以及第一流体沟道。第二部分具有第二内表面、第二外表面以及第二流体沟道。第二流体沟道连接第一流体沟道,第一内表面与第二内表面为共平面,第一外表面与第二外表面之间具有夹角。主体具有连接第二流体沟道的主体流体沟道,其中第二流体沟道位于第一流体沟道与主体流体沟道之间。
本发明实施例一种光刻胶喷嘴的使用方式,包括以下步骤。提供光刻胶供给装置,其中光刻胶供给装置具有上述光刻胶喷嘴。提供光刻胶储存装置以及光刻胶吸取装置,其中光刻胶储存装置以及光刻胶吸取装置連接光刻胶供给装置。提供光刻胶至光刻胶储存装置。透过光刻胶吸取装置使位于光刻胶储存装置中的光刻胶流经光刻胶喷嘴而喷涂至待涂布的物件上。
基于上述,在本发明实施例中,藉由光刻胶喷嘴的尖端具有圆锥状的中空结构,光刻胶喷嘴可加强控制位于内部流体沟道中的光刻胶液面的水平的一致性,使得光刻胶喷嘴内的光刻胶具有稳定液面,进而减少回吸气泡。
附图说明
根据以下的详细说明并配合所附图式以了解本发明实施例。应注意的是,根据本产业的一般作业,各种特征并未按照比例绘制。事实上,为了清楚说明,可能任意的放大或缩小组件的尺寸。
图1为依据一些本发明实施例的光刻胶喷嘴的剖面示意图。
图2为依据一些本发明实施例示意性地绘示光刻胶喷嘴以及使用光刻胶喷嘴的相关装置。
图3为依据一些本发明实施例的光刻胶喷嘴的使用方法的流程图。
附图标号说明
100:光刻胶喷嘴;
101:第一部分;
101a:第一内表面;
101b:第一外表面;
101c:第一流体沟道;
102:第二部分;
102a:第二内表面;
102b:第二外表面;
102c:第二流体沟道;
103:主体;
103a:内表面;
103b:外表面;
103c:主体流体沟道;
110:尖端;
120:凹槽结构;
200:光刻胶供给装置;
202:容置空间;
210:光刻胶吸取装置;
220:光刻胶储存装置;
230:光刻胶供应单元;
300:使用方法;
S310、S320、S330、S340:步骤;
D1:第一方向;
D2:第二方向;
H1、H2、H3:长度;
W1、W2、W3:宽度;
T1、T2、T3:厚度;
θ1、θ2:夹角。
具体实施方式
以下揭露内容提供用于实施所提供的目标的不同特征的许多不同实施例或实例。以下所描述的构件及设置的具体实例是为了以简化的方式传达本揭露为目的。当然,这些仅仅为实例而非用以限制。举例来说,于以下描述中,在第一特征上方或在第一特征上形成第二特征可包括第二特征与第一特征形成为直接接触的实施例,且亦可包括第二特征与第一特征之间可形成有额外特征使得第二特征与第一特征可不直接接触的实施例。此外,本揭露在各种实例中可使用相同的组件符号及/或字母来指代相同或类似的部件。组件符号的重复使用是为了简单及清楚起见,且并不表示所欲讨论的各个实施例及/或设置本身之间的关系。
另外,为了易于描述附图中所绘示的一个构件或特征与另一组件或特征的关系,本文中可使用例如“在...下”、“在...下方”、“下部”、“在…上”、“在…上方”、“上部”及类似术语的空间相对术语。除了附图中所绘示的定向之外,所述空间相对术语意欲涵盖组件在使用或操作时的不同定向。设备可被另外定向(旋转90度或在其他定向),而本文所用的空间相对术语相应地作出解释。
此外,文中所述用语诸如“第一”、“第二”等,其在文中的使用主要是便于描述图中所示相似或不同的组件或特征,并且可以根据叙述出现的顺序或上下文的描述而相互调换使用。
图1为依据一些本发明实施例的光刻胶喷嘴的剖面示意图。请参考图1,在一些实施方式中,光刻胶喷嘴100包括尖端110以及主体103。在一些实施方式中,尖端110具有第一部分101以及第二部分102,其中第一部分101与第二部分102连接,第二部分102与主体103连接,且第二部分102位于第一部分101与主体103之间。换句话说,第一部分101、第二部分102以及主体103之间彼此相通,且第一部分101通过第二部分102与主体103分隔开来。
请参照图1,在一些实施方式中,第一部分101具有第一流体沟道101c,以使第一部分101具有中空结构,且第一部分101具有第一内表面101a以及第一外表面101b。
在一些实施方式中,第一流体沟道101c的第一内表面101a与第一外表面101b彼此不平行,第一内表面101a与第一外表面101b之间具有第一厚度T1。在一些实施方式中,第一部分101不与第二部分102相接的一端为尖端110的出口端,第二部分102不与第一部分101相接的一端为尖端110的入口端,且第一厚度T1从开口端往入口端逐渐增加。在一些实施方式中,第一厚度T1约为0.05毫米至0.2毫米,且位于开口端的第一流体沟道101c的内径W1约为0.55毫米至0.65毫米。在一些实施方式中,沿第二方向D2上,尖端110位于开口端的直径约为0.8毫米至1.01毫米。在特定实施方式中,以尖端110的开口端来说,第一流体沟道101c的内径W1约为0.6毫米,第一厚度T1约为0.1毫米。
更具体来说,在一些实施方式中,第一流体沟道101c的内径W1从开口端往入口端逐渐增加。在一些实施方式中,第一部分101的第一内表面101a以及第一外表面101b不垂直于第二方向D2,其中夹置于第一部分101的第一内表面101a与第二方向D2之间的锐角约介于70度至80度。因此,第一部分101具有圆锥状的中空结构。
在一些实施方式中,第二部分102具有第二流体沟道102c,以使第二部分102具有中空结构,且第二部分102具有第二内表面102a以及第二外表面102b,如图1所示。
在一些实施方式中,第二流体沟道102c的第二内表面102a与第二外表面102b彼此平行,第二内表面102a与第二外表面102b之间具有第二厚度T2,且第二厚度T2的厚度保持不变。在一些实施方式中,第二厚度T2约为0.25毫米至0.4毫米,且位于入口端的第二流体沟道102c的内径W2约为2.5毫米至4.0毫米。在特定实施方式中,以尖端110的入口端来说,第二流体沟道102c的内径W2约为3毫米,第二厚度T2约为0.3毫米。
更具体来说,在一些实施方式中,第二流体沟道102c的内径W2从第一流体沟道101c与第二流体沟道102c的相接处往入口端逐渐增加。在一些实施方式中,且第二部分102的第二内表面102a以及第二外表面102b不垂直于第二方向D2,其中夹置于第二部分102的第二内表面102a与第二方向D之间锐角约介于70度至80度。因此,第二部分102具有圆锥状的中空结构。据此架构,尖端110具有圆锥状的中空结构,如图1所示。
在一些实施方式中,第一内表面101a与第二内表面102a相接,且彼此为共平面(coplanar),使得第一流体沟道101c与第二流体沟道102c相连接;且第一外表面101b与第二外表面102b相连接,且在彼此的相接处具有夹角θ1,其中夹角θ1为钝角。也就是说,在一些实施方式中,以第二方向D2为基准,第一内表面101a与第二内表面102a具有相同的斜率,而第一外表面101b与第二外表面102b具有不相同的斜率。在一些实施方式中,沿第一方向D1上,尖端110的第一部分101具有高度H1且第二部分102具有高度H2,其中第一部分101与第二部分102的高度比例(即,H1:H2)约介于1:2.5至1:3。
请继续参照图1,在一些实施例中,主体103具有主体流体沟道103c,以使主体103具有中空结构,且主体103具有内表面103a以及外表面103b。在一些实施方式中,内表面103a与第二内表面102相连接,使得主体流体沟道103c连接第二流体沟道102c,即主体流体沟道103c连接尖端110的入口端。在一些实施方式中,主体103的内表面103a以及第二部分102的第二内表面102的相接处具有夹角θ2,其中夹角θ2为钝角。在一些实施方式中,主体103的内表面103a为平面,且主体103的外表面103b具有多个凹槽结构120。
在一些实施方式中,主体103的内表面103a与外表面103b至少部分平行,且内表面103a与外表面103b之间具有第三厚度T3,且第三厚度T3约为2.5毫米至4.0毫米,本发明实施例对此不特别限定。在一些实施方式中,位于入口端的主体流体沟道103c的内径W3约为2.5毫米至3.5毫米。特定实施方式中,主体流体沟道103c的内径W3保持不变,约为3毫米,如图1所示。本发明实施例不限于此,在一些实施方式中,主体流体沟道103c的内径W3亦可从主体流体沟道103c与第二流体沟道102c相接处(即尖端110的入口端)往主体流体沟道103c不与第二流体沟道102c相接的一端逐渐增加。在一些实施方式中,主体流体沟道103c的内径W3亦可在部分的主体流体沟道103c具有单一的内径长度并在另一部分的主体流体沟道103c具有渐大或渐小的内径长度。
在一些实施方式中,沿第一方向D1上,主体103具有高度H3,其中尖端110与主体103的高度比例(即,(H1+H2):H3)约介于1:2.5至1:3。在一些实施方式中,以第二方向D2为基准,内表面103a与第二内表面102a可以具有相同的斜率或是具有不同的斜率。举例来说,主体103具有圆柱状的中空结构(即:内表面103a与第二内表面102a具有不同的斜率,或是主体流体沟道103c的内径W3不变),如图1所示;然而,本发明实施例不以此为限。在其他实施方式中,主体103可具有圆锥状的中空结构(即:内表面103a与第二内表面102a具有相同的斜率,或是主体流体沟道103c的内径W3从主体流体沟道103c与第二流体沟道102c相接处(即尖端110的入口端)往主体流体沟道103c不与第二流体沟道102c相接的一端逐渐增加)。在一些实施方式中,主体103亦可在部分区域具有单一的直径长度并在另一部分区域具有渐大或渐小的直径长度。在一些实施方式中,主体103的直径约为9.5毫米至10.5毫米。
在一些实施方式中,在第一流体沟道101c与第二流体沟道102c的相接处,第一厚度T1与第二厚度T2具有相同厚度(如图1所示),然本发明实施例不以此限制;在其他实施方式中,在第一流体沟道101c与第二流体沟道102c的相接处,第一厚度T1与第二厚度T2例如是不具有相同厚度(未示出)。在一些实施方式中,在第二流体沟道102c与主体流体沟道103c的相接处,第二厚度T2与第三厚度T3不具有相同厚度(如图1所示),然本发明实施例不以此限制;在其他实施方式中,在第二流体沟道102c与主体流体沟道103c的相接处,第二厚度T2与第三厚度T3例如是具有相同厚度(未示出)。
在一些实施方式中,光刻胶喷嘴100的材质例如是聚四氟乙烯(Teflon)或类似物,且光刻胶喷嘴100的尖端110以及主体103可以是一体成形,然本发明实施例并不以此为限。在其他实施方式中,光刻胶喷嘴100的材质可以是任何一种具有耐高温、耐化性且不与光刻胶材料产生反应的合适的材质。在其他实施方式中,光刻胶喷嘴100的尖端110以及主体103的形成方式亦可以包括分别形成尖端110以及主体103后接合尖端110以及主体103,以形成光刻胶喷嘴100。
如上述,藉由光刻胶喷嘴的尖端具有圆锥状的中空结构,光刻胶喷嘴可加强控制位于内部流体沟道中的光刻胶液面的水平的一致性,使得光刻胶喷嘴内的光刻胶具有稳定液面,进而减少回吸气泡。此外,由于光刻胶喷嘴的尖端的侧壁(即:内表面与外表面之间的厚度)具有特定厚度,可有效减少位在光刻胶喷嘴的尖端处的残留光刻胶量,进而抑制光刻胶结晶现象。因此,本发明实施例的光刻胶喷嘴具有较好的涂布效果的同时亦可避免光刻胶结晶现象以及回吸气泡。
图2为依据一些本发明实施例示意性地绘示光刻胶喷嘴以及使用光刻胶喷嘴的相关装置。图3为依据一些本发明实施例的光刻胶喷嘴的使用方法的流程图。本发明实施例的光刻胶喷嘴的使用方式请参考下方说明。
请参考图3,在一些实施方式中,在步骤S310中,提供光刻胶供给装置,且光刻胶供给装置具有光刻胶喷嘴。
在一些实施方式中,上述的光刻胶喷嘴例如是如图1所示的光刻胶喷嘴100。具体来说,图1所示的光刻胶喷嘴100包括具有圆锥状的中空结构的尖端110以及主体103,其中尖端110包括第一部分101以及第二部分102,第一部分101包括第一内表面101a、第一外表面101b以及第一流体沟道101c,第二部分102包括第二内表面102a、第二外表面102b以及第二流体沟道102c,第二流体沟道102c连接第一流体沟道101c,第一内表面101a与第二内表面102a相连接且为共平面,第一外表面101b与第二外表面102b相连接且具有夹角θ1,且主体103具有连接第二流体沟道102c的主体流体沟道103c,外表面103b与第二外表面102b相连接且具有夹角θ2,其中第二流体沟道102c位于第一流体沟道101c与主体流体沟道103c之间,主体103的外表面103b具有多个凹槽结构120。在一些实施方式中,如图2所示,光刻胶喷嘴100是可动地设置在光刻胶供给装置200上,其中光刻胶供给装置200具有容置空间202,光刻胶喷嘴100螺合于光刻胶供给装置200的容置空间202。在一些实施方式中,如图2所示,光刻胶喷嘴100透过多个凹槽结构120螺合于光刻胶供给装置200的容置空间202,使光刻胶喷嘴100的主体103连接光刻胶储存装置200。
请参考图3,在步骤S320中,提供光刻胶储存装置以及光刻胶吸取装置,其中光刻胶储存装置以及光刻胶吸取装置連接光刻胶供给装置。在一些实施方式中,如图2所示,光刻胶供给装置200连接光刻胶吸取装置210以及与光刻胶吸取装置210连接的光刻胶储存装置220。
请参考图3,在步骤S330中,提供光刻胶至光刻胶储存装置。在一些实施方式中,如图2所示,光刻胶储存装置220连接光刻胶供应单元230,并由光刻胶供应单元230提供光刻胶(未绘示)至光刻胶储存装置220。
请参考图3,在步骤S340中,透过光刻胶吸取装置使位于光刻胶储存装置中的光刻胶流经光刻胶喷嘴而喷涂至待涂布的物件上,其中所述光刻胶储存装置以及所述光刻胶吸取装置連接所述光刻胶供给装置。在一些实施方式中,如图2所示,透过光刻胶吸取装置210,使光刻胶储存装置220中的光刻胶流经光刻胶吸取装置210、光刻胶供给装置200、光刻胶喷嘴100的主体流体沟道103c、第二流体沟道102c以及第一流体沟道101c而喷涂或涂射至待涂布的物件(未绘示)上。在一些实施例中,至待涂布的对象例如是具有或不具有各种形式的集成电路装置及/或组件的晶圆,本发明实施例不限于此。在一些实施例中,光刻胶喷嘴100的每次光刻胶喷涂量约为0.3毫升(c.c.)。
在上述的本发明实施例中,由于光刻胶喷嘴通过多个凹槽结构螺合于光刻胶供给装置的容置空间,因此光刻胶喷嘴可轻易地被设置于光刻胶供给装置上的同时,亦可轻易地从光刻胶供给装置上移除光刻胶喷嘴,以进行光刻胶喷嘴的替换,故有效地减少制造过程中的设备成本。此外,本发明实施例的光刻胶喷嘴有效抑制光刻胶结晶现象以及回吸气泡,而具有较好的涂布效果。
本发明实施例提供一种光刻胶喷嘴。光刻胶喷嘴包括尖端,其中尖端包括第一部分以及第二部分。第一部分具有第一流体沟道,以使第一部分具有圆锥状的中空结构,且第一部分具有第一内表面以及第一外表面。第二部分具有第二流体沟道,以使第二部分具有圆锥状的中空结构,且第二部分具有第二内表面以及第二外表面。第二部分连接第一部分,第一内表面与第二内表面相接且为共平面,以使第一流体沟道与第二流体沟道相连接,且第一外表面与第二外表面相接且在相接处具有夹角。
本发明实施例提供一种光刻胶喷嘴。光刻胶喷嘴包括尖端以及主体。尖端具有圆锥状的中空结构,其中尖端包括第一部分以及第二部分。第一部分具有第一内表面、第一外表面以及第一流体沟道。第二部分具有第二内表面、第二外表面以及第二流体沟道。第二流体沟道连接第一流体沟道,第一内表面与第二内表面为共平面,第一外表面与第二外表面之间具有夹角。主体具有连接第二流体沟道的主体流体沟道,其中第二流体沟道位于第一流体沟道与主体流体沟道之间。
本发明实施例一种光刻胶喷嘴的使用方式,包括以下步骤。提供光刻胶供给装置,其中光刻胶供给装置具有光刻胶喷嘴。上述光刻胶喷嘴包括尖端以及主体。尖端具有圆锥状的中空结构,其中尖端包括第一部分以及第二部分。第一部分具有第一内表面、第一外表面以及第一流体沟道。第二部分具有第二内表面、第二外表面以及第二流体沟道。第二流体沟道连接第一流体沟道,第一内表面与第二内表面为共平面,第一外表面与第二外表面之间具有夹角。主体具有连接第二流体沟道的主体流体沟道,其中第二流体沟道位于第一流体沟道与主体流体沟道之间。提供光刻胶储存装置以及光刻胶吸取装置,其中光刻胶储存装置以及光刻胶吸取装置連接光刻胶供给装置。提供光刻胶至光刻胶储存装置。透过光刻胶吸取装置使位于光刻胶储存装置中的光刻胶流经光刻胶喷嘴而喷涂至待涂布的物件上。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明实施例的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明实施例进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种光刻胶喷嘴,其特征在于,包括:
尖端,其中所述尖端包括:
第一部分,其中所述第一部分具有第一流体沟道,以使所述第一部分具有圆锥状的中空结构,且所述第一部分具有第一内表面以及第一外表面;以及
第二部分,其中所述第二部分具有第二流体沟道,以使所述第二部分具有圆锥状的中空结构,且所述第二部分具有第二内表面以及第二外表面,
其中所述第二部分连接所述第一部分,所述第一内表面与所述第二内表面相接且为共平面,以使所述第一流体沟道与所述第二流体沟道相连接,且所述第一外表面与所述第二外表面相接且在相接处具有夹角。
2.根据权利要求1所述的处光刻胶喷嘴,其特征在于,其中所述第一流体沟道不与所述第二流体沟道相接的一端为所述尖端的出口端,所述第二流体沟道不与所述第一流体沟道相接的一端为所述尖端的入口端,其中所述第一内表面与所述第一外表面彼此不平行,所述第一内表面与所述第一外表面之间具有第一厚度,且所述第一厚度从所述开口端往所述入口端逐渐增加。
3.根据权利要求1所述的处光刻胶喷嘴,其特征在于,其中所述第二内表面与所述第二外表面彼此平行,所述第一内表面与所述第一外表面之间具有第二厚度。
4.根据权利要求1所述的处光刻胶喷嘴,其特征在于,其中所述尖端具有圆锥状的中空结构。
5.一种光刻胶喷嘴,其特征在于,包括:
尖端,具有圆锥状的中空结构,其中所述尖端包括:
第一部分,其中所述第一部分具有第一内表面、第一外表面以及第一流体沟道;以及
第二部分,其中所述第二部分具有第二内表面、第二外表面以及第二流体沟道,其中所述第二流体沟道连接所述第一流体沟道,所述第一内表面与所述第二内表面为共平面,所述第一外表面与所述第二外表面之间具有夹角;以及
主体,具有连接所述第二流体沟道的主体流体沟道,其中所述第二流体沟道位于所述第一流体沟道与所述主体流体沟道之间。
6.根据权利要求5所述的处光刻胶喷嘴,其特征在于,其中所述第一流体沟道不与所述第二流体沟道相接的一端为所述尖端的出口端,所述第二流体沟道与所述主体流体沟道相接的一端为所述尖端的入口端,其中所述第一内表面与所述第一外表面彼此不平行,所述第一内表面与所述第一外表面之间具有第一厚度,且所述第一厚度从所述开口端往所述入口端逐渐增加。
7.根据权利要求5所述的处光刻胶喷嘴,其特征在于,其中所述第二内表面与所述第二外表面彼此平行,所述第一内表面与所述第一外表面之间具有第二厚度。
8.根据权利要求5所述的处光刻胶喷嘴,其特征在于,其中所述光刻胶喷嘴的材质包括聚四氟乙烯。
9.根据权利要求5所述的处光刻胶喷嘴,其特征在于,其中所述主体具有中空结构,且所述主体的外表面具有多个凹槽结构。
10.一种光刻胶喷嘴的使用方式,其特征在于,包括:
提供光刻胶供给装置,其中所述光刻胶供给装置具有光刻胶喷嘴,其中所述光刻胶喷嘴包括:
尖端,具有圆锥状的中空结构,其中所述尖端包括:
第一部分,其中所述第一部分具有第一内表面、第一外表面以及第一流体沟道;以及
第二部分,其中所述第二部分具有第二内表面、第二外表面以及第二流体沟道,其中所述第二流体沟道连接所述第一流体沟道,所述第一内表面与所述第二内表面为共平面,所述第一外表面与所述第二外表面之间具有夹角;以及
主体,具有连接所述第二流体沟道的主体流体沟道,其中所述第二流体沟道位于所述第一流体沟道与所述主体流体沟道之间;
提供光刻胶储存装置以及光刻胶吸取装置,其中所述光刻胶储存装置以及所述光刻胶吸取装置連接所述光刻胶供给装置;
提供光刻胶至所述光刻胶储存装置;以及
透过所述光刻胶吸取装置使位于所述光刻胶储存装置中的所述光刻胶流经所述光刻胶喷嘴而喷涂至待涂布的物件上。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201611137774.4A CN108227387B (zh) | 2016-12-12 | 2016-12-12 | 光刻胶喷嘴及其使用方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201611137774.4A CN108227387B (zh) | 2016-12-12 | 2016-12-12 | 光刻胶喷嘴及其使用方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108227387A true CN108227387A (zh) | 2018-06-29 |
CN108227387B CN108227387B (zh) | 2021-03-26 |
Family
ID=62637360
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201611137774.4A Active CN108227387B (zh) | 2016-12-12 | 2016-12-12 | 光刻胶喷嘴及其使用方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN108227387B (zh) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1949449A1 (de) * | 1969-10-01 | 1971-04-08 | Lechler Appbau Kg | Drallduese mit Drallkoerper fuer Vollkegel- und Hohlkegelzerstaeubung |
CN102540584A (zh) * | 2010-12-07 | 2012-07-04 | 塔工程有限公司 | 喷嘴头 |
CN102581275A (zh) * | 2011-12-31 | 2012-07-18 | 上海爱普生磁性器件有限公司 | 注射成形工艺用热喷嘴 |
CN105842991A (zh) * | 2016-03-22 | 2016-08-10 | 信利(惠州)智能显示有限公司 | 一种光刻胶喷涂装置 |
-
2016
- 2016-12-12 CN CN201611137774.4A patent/CN108227387B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1949449A1 (de) * | 1969-10-01 | 1971-04-08 | Lechler Appbau Kg | Drallduese mit Drallkoerper fuer Vollkegel- und Hohlkegelzerstaeubung |
CN102540584A (zh) * | 2010-12-07 | 2012-07-04 | 塔工程有限公司 | 喷嘴头 |
CN102581275A (zh) * | 2011-12-31 | 2012-07-18 | 上海爱普生磁性器件有限公司 | 注射成形工艺用热喷嘴 |
CN105842991A (zh) * | 2016-03-22 | 2016-08-10 | 信利(惠州)智能显示有限公司 | 一种光刻胶喷涂装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108227387B (zh) | 2021-03-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104415878B (zh) | 用于将流体施加到多个表面上的设备及方法 | |
US7481119B2 (en) | Micro-fluidic oscillator having a sudden expansion region at the nozzle outlet | |
TW201544186A (zh) | 塗佈裝置及塗佈方法 | |
KR20190140052A (ko) | 공기식 차폐 노즐 | |
US9890454B2 (en) | Atomic layer deposition apparatus | |
JP6162333B2 (ja) | 固相パウダーコーティング装置及びコーティング方法 | |
CN108227387A (zh) | 光刻胶喷嘴及其使用方法 | |
US20230264208A1 (en) | Nozzle assembly for use with liquid dispensing system | |
JP2008028351A (ja) | 微小部材整列組み立て方法および装置 | |
KR100965024B1 (ko) | 분말 도포 방법 및 장치 | |
TWI704419B (zh) | 光阻噴頭及其使用方法 | |
JP2014014790A (ja) | ペースト塗布装置 | |
TW201801797A (zh) | 黏液塗佈裝置與方法 | |
JP7224000B2 (ja) | 液剤供給装置及び液剤供給方法 | |
US9844789B2 (en) | Method of forming lubricative plated layer on viscous liquid feed nozzle and viscous liquid feed nozzle | |
US10799888B2 (en) | Discharge device | |
US10329079B2 (en) | Aerosol/solvent delivery nozzles | |
US20190366461A1 (en) | Applying apparatus and applying method | |
JP4888007B2 (ja) | ノズル、塗布装置、塗布方法およびフラットパネルディスプレイの製造方法 | |
CN108636732A (zh) | 缝隙点胶方法和流体涂布装置 | |
CN207287827U (zh) | 一种集管式混流体喷射装置 | |
TW202348313A (zh) | 內螺旋式噴嘴 | |
JP2005313046A (ja) | 薄膜形成装置 | |
TWM499261U (zh) | 塗佈模具 | |
JP2021062328A (ja) | 塗布方法及び塗布装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |