CN105842991A - 一种光刻胶喷涂装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种光刻胶喷涂装置,包括涂胶头,所述涂胶头在入口中部内置一个用于缓冲光刻胶的腔体;所述腔体内置有一个用于调节光刻胶流量的旋转卡槽;所述涂胶头在所述腔体的下部出口与喷嘴之间设置有多条出胶支路。通过加宽光刻胶流通的通道以缓冲大量的光刻胶,并且,通过内置旋转卡槽实现光刻胶的出口量的调节并排出出口处的空气。本发明提供的旋转卡槽为扇形柱状装置,光刻胶的压力使得卡槽扇形缺口向下旋转一定角度,使得大量光刻胶获得缓冲后才流到出口,从而可以得到流量控制的效果,通过改变输送光刻胶的泵的压力可以改变涂胶的膜厚,并且可以通过设置多条出胶支路确保喷涂出胶的均匀性。
Description
技术领域
本发明涉及半导体工艺技术领域,尤其涉及一种光刻胶喷涂装置。
背景技术
涂胶是黄光制程中一道重要的步骤。涂胶是把光刻胶按照一定的工艺参数涂到玻璃基板上面,然后再对玻璃基板进行后续的曝光和显影。现有的涂胶方式主要包括Slit Coater(狭缝涂胶)和Spin Coater(旋转涂胶)。其中,在狭缝涂胶时,Nozzle(涂胶头)会位于Roller(滚轴)上方。参看图1,是现有技术提供的一种光刻胶喷涂装置的剖面结构示意图。光刻胶在外部泵压作用下注入喷涂装置中唯一的注入通道,并流至喷涂出口/喷嘴处。通过Nozzle滴出光刻胶,而Roller转动并带走一部分光刻胶,使得Nozzle上存在一些光刻胶均匀地残留在Nozzle的前端,准备好做涂胶动作。
在传统的涂胶头的设计中,存在有气泡无法完全排出和膜厚均匀性的问题。其主要原因是:首先,采用单一通道注入光刻胶时,由于光刻胶的出胶量的不同,导致出胶口膜厚变化。具体地,当涂胶头前端残留胶量较多时,会造成涂胶初始边膜厚度变厚;而涂胶头前端残留胶量较少时厚度变薄。参看图2和图3,分别是涂胶头前端残留胶量较多或较少时,玻璃基板上涂覆的光刻胶膜厚度状态示意图。
此外,当涂胶头设置不当时,将会使得出胶口出现真空,从而使得空气有可能进入涂胶头并形成气泡,影响涂胶效果。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是,提供一种光刻胶喷涂装置,可以改善现有的狭缝涂胶头出现的气泡和膜厚均一性问题。
为解决以上技术问题,本发明实施例提供一种光刻胶喷涂装置,包括涂胶头,所述涂胶头在入口中部内置一个用于缓冲光刻胶的腔体;
所述腔体内置有一个用于调节光刻胶流量的旋转卡槽;所述涂胶头在所述腔体的下部出口与喷嘴之间设置有多条出胶支路。
进一步地,所述旋转卡槽上设置有弹簧控制装置,用于根据涌入的光刻胶的压力大小,控制所述旋转卡槽在预设范围内旋转。
优选地,所述旋转卡槽上镂空有多个孔洞,用于流通光刻胶和排出光刻胶中的内部气泡。
优选地,所述旋转卡槽为扇形柱状装置,且所述旋转卡槽的扇形缺口根据光刻胶的压力变化,向下旋转至所述腔体的下部出口。
进一步地,所述旋转卡槽横向设置在所述腔体内。
进一步地,每条所述出胶支路的内径相同,且每条所述出胶支路的一端汇集在喷嘴处,另一端均匀分布在所述腔体的下部出口。
进一步地,所述腔体的两侧设有排气孔。
本发明实施例提供的光刻胶喷涂装置,在现有狭缝涂胶头的基础上加宽了中间的通道,以缓冲大量的光刻胶;并且,通过在中部腔体内置旋转卡槽,通过旋钮转动卡槽实现光刻胶的出口量的调节;当喷嘴出口处有气泡时候,可以旋转卡槽,搅动加快出口处的光刻胶量,从而排出出口处的空气。中部腔体和旋转卡槽上设有多个孔洞或排气孔,用于流通光刻胶的同时作为排气通道,以排出光刻胶内部气泡。旋转卡槽中间镂空的多个孔洞可以使得光刻胶顺利地充盈整个加宽腔体,而且可以通过卡槽的旋转控制光刻胶在出口处的流量。优选地,本发明提供的旋转卡槽为扇形柱状装置,并可在旋转卡槽一侧增设弹簧控制装置调控卡槽的旋转范围,使得只有当光刻胶流至涂胶喷嘴Nozzle处的流量较大时,光刻胶的压力使得卡槽扇形缺口向下旋转一定角度,使得大量光刻胶获得缓冲后才流到出口,从而可以得到流量控制的效果。并且,中部腔体出口处的多条出胶支路确保喷涂出胶的均匀性,无论到达喷嘴的光刻胶量的多少,喷嘴出胶口量都不会有较大的膜厚浮动,并且,通过改变输送光刻胶的泵的压力可以改变涂胶的膜厚。
附图说明
图1是现有技术提供的一种光刻胶喷涂装置的剖面结构示意图。
图2是涂胶头前端残留胶量较多时玻璃基板上涂覆的光刻胶膜厚度状态示意图。
图3是涂胶头前端残留胶量较少时玻璃基板上涂覆的光刻胶膜厚度状态示意图。
图4是本发明提供的光刻胶喷涂装置的一个实施例的结构示意图。
图5是本发明提供的面向旋转卡槽的扇形缺口的结构示意图。
图6是本发明提供的背向旋转卡槽的扇形缺口的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
参见图4,是本发明提供的光刻胶喷涂装置的一个实施例的结构示意图。
在本实施例中,所述的光刻胶喷涂装置包括涂胶头100,其中,所述涂胶头100在入口中部内置一个用于缓冲光刻胶的腔体101;所述腔体101内置有一个用于调节光刻胶流量的旋转卡槽1011;所述涂胶头100在所述腔体101的下部出口1012与喷嘴102之间设置有多条出胶支路103(图4中示出了三条出胶支路)。
具体实施时,进一步地,所述旋转卡槽1011上设置有弹簧控制装置104,用于根据涌入的光刻胶的压力大小,控制所述旋转卡槽1011在预设范围内旋转。优选地,通过在弹簧控制装置104中设置旋钮附加旋转弹簧,使得仅当光刻胶流到喷嘴处的流量较大时,光刻胶的压力使得旋转卡槽1011的缺口处向下旋转一定角度(优选0°~60°),缺口地方接近腔体101的出口1012,使得大量光刻胶获得缓冲后流到喷嘴,从而可以得到流量控制的效果。
具体地,所述旋转卡槽1011上镂空有多个孔洞,用于流通光刻胶和排出光刻胶中的内部气泡。优选地,所述旋转卡槽1011为扇形柱状装置,且所述旋转卡槽1011的扇形缺口根据光刻胶的压力变化,向下旋转至所述腔体101的下部出口1012。
参看图5和图6,是本发明提供的旋转卡槽的一种实施例的结构示意图。其中,图5是面向旋转卡槽的扇形缺口的结构示意图;图6是背向旋转卡槽的扇形缺口的结构示意图。具体实施时,所述旋转卡槽1011横向设置在所述腔体101内,并且,旋转卡槽1011根据泵压作用下注入的光刻胶的压力大小进行旋转。改变输送光刻胶的泵的压力可以改变涂胶的覆膜厚度。特别地,卡槽1011旋转的最大强度不能使得扇形缺口完全对准出口1012,以有效控制光刻胶流量。
在本实施例中,优选地,每条所述出胶支路103的内径相同,且每条所述出胶支路103的一端汇集在喷嘴102处,另一端均匀分布在所述腔体101的下部出口1012。在本实施例中,所述腔体101的两侧设有排气孔,在流通光刻胶的同时排出光刻胶内部气泡。
本发明实施例提供的光刻胶喷涂装置,在现有狭缝涂胶头的基础上增设腔体101加宽了中间的通道,以缓冲大量的光刻胶;并且,通过在中部腔体101内置旋转卡槽1011,通过旋钮转动卡槽1011实现光刻胶的出口量的调节;当喷嘴102出口处有气泡时候,可以旋转卡槽1011,搅动加快出口处的光刻胶量,从而排出出口处的空气。
旋转卡槽1011上设有多个孔洞或排气孔,用于流通光刻胶的同时作为排气通道,以排出光刻胶内部气泡。旋转卡槽1011中间镂空的多个孔洞可以使得光刻胶顺利地充盈整个加宽腔体101,而且可以通过卡槽1011的旋转控制光刻胶在出口处的流量。优选地,本发明提供的旋转卡槽1011为扇形柱状装置,并可在旋转卡槽一侧增设弹簧控制装置103调控卡槽的旋转范围,使得仅当光刻胶流至涂胶喷嘴102处的流量较大时,光刻胶的压力使得卡槽1011扇形缺口向下旋转一定角度,使得大量光刻胶获得缓冲后才流到出口1012,从而可以得到流量控制的效果,并且,薄膜(thinner)液清洗刀头不会出现气泡情况,需清洗时拆出用thinner液清洗即可。
进一步地,中部腔体101出口处1012的多条出胶支路确保喷涂出胶的均匀性,无论到达喷嘴102的光刻胶量的多少,喷嘴出胶口量都不会有较大的膜厚浮动,即,克服了传统喷涂头在前端残留胶量多时造成涂胶初始边膜厚变厚,量少时则覆膜变薄的技术问题。并且,通过改变输送光刻胶的泵的压力可以改变涂胶的膜厚。
以上所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。
Claims (7)
1.一种光刻胶喷涂装置,包括涂胶头,其特征在于,所述涂胶头在入口中部内置一个用于缓冲光刻胶的腔体;
所述腔体内置有一个用于调节光刻胶流量的旋转卡槽;所述涂胶头在所述腔体的下部出口与喷嘴之间设置有多条出胶支路。
2.如权利要求1所述的光刻胶喷涂装置,其特征在于,所述旋转卡槽上设置有弹簧控制装置,用于根据涌入的光刻胶的压力大小,控制所述旋转卡槽在预设范围内旋转。
3.如权利要求1所述的光刻胶喷涂装置,其特征在于,所述旋转卡槽上镂空有多个孔洞,用于流通光刻胶和排出光刻胶中的内部气泡。
4.如权利要求3所述的光刻胶喷涂装置,其特征在于,所述旋转卡槽为扇形柱状装置,且所述旋转卡槽的扇形缺口根据光刻胶的压力变化,向下旋转至所述腔体的下部出口。
5.如权利要求4所述的光刻胶喷涂装置,其特征在于,所述旋转卡槽横向设置在所述腔体内。
6.如权利要求1所述的光刻胶喷涂装置,其特征在于,每条所述出胶支路的内径相同,且每条所述出胶支路的一端汇集在喷嘴处,另一端均匀分布在所述腔体的下部出口。
7.如权利要求1所述的光刻胶喷涂装置,其特征在于,所述腔体的两侧设有排气孔。
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