TWM499261U - 塗佈模具 - Google Patents

Description

塗佈模具

本新型創作是有關於一種塗佈模具，且特別是有關於一種具有良好操作視窗的塗佈模具。

近年來，電子產品材料逐漸往多層化及多功能化的趨勢發展。而目前塗佈膜層的方式仍以單層塗佈製程為主。透過單層塗佈製程，若要製作兩膜層以上的結構，必須連續進行兩次以上放捲塗佈一層塗料並烘乾後收捲的步驟，藉此雖然製程操作簡單，但整體良率損耗大，且因需要塗佈、乾燥兩次以上，不但製程時間增加，烘乾所造成的能源消耗也提高。有鑑於此，具有良好操作視窗及再現性的多層塗佈製程成為本領域中的一個發展重點。

本新型創作提供一種塗佈模具，其適用於同時塗佈兩層或三層塗佈液的多層塗佈製程，且會具有良好的操作視窗及再現性。

本新型創作的塗佈模具包括上模板、下模板以及第一夾板，其中第一夾板配置於上模板與下模板之間。其中，以上模板的模唇、下模板的模唇及第一夾板的模唇中的一者為基準，上模板的模唇、下模板的模唇及第一夾板的模唇中的其他者中的至少一者相對於該基準偏移一偏移量。

在本新型創作的一實施方式中，以上述的下模板的模唇為基準，上模板的模唇及第一夾板的模唇中的至少一者相對於該基準偏移一偏移量。

在本新型創作的一實施方式中，上述的偏移量為5μm至1000μm。

在本新型創作的一實施方式中，上述的上模板、下模板及第一夾板之間構成兩個流道。

在本新型創作的一實施方式中，上述的塗佈模具更包括第二夾板，配置於上模板與第一夾板之間。

在本新型創作的一實施方式中，以上述的上模板的模唇、下模板的模唇、第一夾板的模唇及第二夾板的模唇中的一者為基準，上模板的模唇、下模板的模唇、第一夾板的模唇及第二夾板的模唇中的其他者中的至少一者相對於該基準偏移一偏移量，其中所述偏移量為5μm至1000μm。

在本新型創作的一實施方式中，以上述的下模板的模唇為基準，上模板的模唇、第一夾板的模唇及第二夾板的模唇中的至少一者相對於該基準偏移一偏移量，其中所述偏移量為5μm至 1000μm。

在本新型創作的一實施方式中，上述的上模板、下模板、第一夾板及第二夾板之間構成三個流道。

基於上述，透過本新型創作的塗佈模具中的模唇具有一偏移量，而使得在進行塗佈製程時，所塗佈的流體能夠具有良好的流場穩定性，藉此不但塗佈模具具有良好的操作視窗及再現性，且相較於習知單層塗佈技術，製程良率得以提升及製程時間得以降低。

為讓本新型創作的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

10、20‧‧‧塗佈系統

12、22‧‧‧供液裝置

13、23‧‧‧平台

14‧‧‧控制單元

16、26‧‧‧移動單元

18、28‧‧‧基材

100、200、300、400、500、600‧‧‧塗佈模具

102、202‧‧‧上模板

104、204‧‧‧下模板

106、206‧‧‧第一夾板

112、116B、212、216B、218B‧‧‧下表面

116A、114、214、216A、218A‧‧‧上表面

120、122、320、322、324‧‧‧流道

131、231‧‧‧上模模唇

132、232‧‧‧上模模肩

133、233‧‧‧下模模唇

134、234‧‧‧下模模肩

135、235、237‧‧‧模唇

208‧‧‧第二夾板

D、P‧‧‧偏移量

D1、D2、D1’、D2’‧‧‧距離

PL、PL’‧‧‧基準表面

圖1是本新型創作的一實施方式的塗佈模具應用於一塗佈系統的示意圖。

圖2是本新型創作的一實施方式的塗佈模具應用於另一塗佈系統的示意圖。

圖3是本新型創作的一實施方式的塗佈模具的示意圖。

圖4是圖3的塗佈模具的局部示意圖。

圖5是本新型創作的另一實施方式的塗佈模具的局部放大示意圖。

圖6是本新型創作的另一實施方式的塗佈模具的局部放大示 意圖。

圖7是本新型創作的另一實施方式的塗佈模具的示意圖。

圖8是圖7的塗佈模具的局部示意圖。

圖9是本新型創作的另一實施方式的塗佈模具的局部放大示意圖。

圖10是本新型創作的另一實施方式的塗佈模具的局部放大示意圖。

圖1是本新型創作的一實施方式的塗佈模具應用於一塗佈系統的示意圖。請參照圖1，塗佈模具100適於連接至塗佈系統10，以將塗佈液(未繪示)塗佈至基材18上。具體而言，塗佈模組100連接供液裝置12，以使塗佈液從供液裝置12進入塗佈模具100的內部。塗佈模組100連接控制單元14，以使塗佈模組100藉由移動單元16而相對於基材18在二維方向上移動。基材18固定於平台13上。

另一方面，圖2是本新型創作的一實施方式的塗佈模具應用於另一塗佈系統的示意圖。請參照圖2，塗佈模具100適於連接至塗佈系統20，以將塗佈液(未繪示)塗佈至基材28上。具體而言，塗佈模組100連接供液裝置22，以使塗佈液從供液裝置22進入塗佈模具100的內部。基材28固定於配置在平台23上的移動單元26上，以使基材28相對於塗佈模具100而在二維方向上 移動。當然，根據塗佈系統10、20的應用，其還可能包括其他移動單元、其他控制單元、擷取單元等元件。也就是說，本新型創作所能應用的塗佈系統的架構並不以圖1、圖2中所繪者為限。

更進一步而言，透過塗佈系統10、20，塗佈模具100能夠同時將兩層塗佈液塗佈至基材18、28上。在下文中，將參照圖3、圖4對塗佈模具100進行詳細地描述。

圖3是本新型創作的一實施方式的塗佈模具的示意圖。圖4是圖3的塗佈模具的局部示意圖。請參照圖3，塗佈模具100包括上模板102、下模板104以及第一夾板106，其中第一夾板106配置於上模板102與下模板104之間。詳細而言，上模板102的下表面112對應於第一夾板106的上表面116A且兩者之間具有流道120，下模板104的上表面114對應於第一夾板106的下表面116B且兩者之間具有流道122。如此一來，在進行塗佈製程時，兩種塗佈液可分別經由流道120及流道122流出塗佈模具100，並在塗佈模具100外部接觸後形成一具有雙層塗佈液的流體。

上模板102還包括位於其側邊的一斜面所形成的上模模肩132以及位於上模模肩132與下表面112相鄰邊線的上模模唇131，下模板104還包括位於其側邊的一斜面所形成的下模模肩134以及位於下模模肩134與上表面114相鄰邊線的下模模唇133，第一夾板106還包括位於上表面116A與下表面116B相鄰邊線的模唇135。另外，上模模唇131、下模模唇133以及模唇135彼此相平行。

進一步而言，在本實施方式中，以下模模唇133為基準，上模模唇131及第一夾板106的模唇135相對於該基準皆向內偏移一偏移量D，其中偏移量D為5μm至1000μm。從另一觀點而言，請參照圖4，相對於一平行於上模模唇131、下模模唇133以及模唇135的基準表面PL，作為基準的下模模唇133與所述基準表面PL之間具有一距離D1，而向內偏移一偏移量D的上模模唇131及模唇135與所述基準表面PL之間的各自具有一距離D2，其中距離D1小於距離D2。

另外，雖然在本實施方式中，上模模唇131及第一夾板106的模唇135相對於下模模唇133向內偏移的偏移量D是相同的，但本新型創作並不限於此。在其他實施方式中，上模模唇131及第一夾板106的模唇135相對於下模模唇133可具有不相同的偏移量。

值得說明的是，在塗佈模具100中，上模模唇131及第一夾板106的模唇135相對於下模模唇133向內偏移，藉此使用塗佈模具100進行塗佈製程時，經由流道120及流道122流出而形成的具有雙層塗佈液的流體能夠具有良好的流場穩定性。如此一來，透過使用塗佈模具100進行塗佈製程，不但塗佈模具100具有良好的操作視窗及再現性，且相較於習知單層塗佈技術，製程良率得以提升及製程時間得以降低。

另外，在圖3中，上模模唇131及第一夾板106的模唇135相對於下模模唇133皆向內偏移一偏移量D，但本新型創作並 不限於此。在其他實施方式中，相對於下模模唇，也可以只有上模模唇或只有第一夾板的模唇向內偏移。在下文中，將參照圖5及圖6對其他實施方式的塗佈模具進行詳細地描述。

圖5是本新型創作的另一實施方式的塗佈模具的局部放大示意圖。請同時參照圖5及圖3，圖5的塗佈模具200與上述圖3的塗佈模具100相似，因此與圖3相同的元件以相同的符號表示，且以下就兩者相異之處做說明，相同之處就不再重覆贅述。

圖5的塗佈模具200與圖3的塗佈模具100的差異僅在於：在圖5的塗佈模具200中，以下模模唇133為基準，只有上模模唇131相對於該基準向內偏移一偏移量D，而在圖3的塗佈模具100中，以下模模唇133為基準，上模模唇131及第一夾板106的模唇135相對於該基準皆向內偏移一偏移量D。

值得說明的是，與圖3的實施方式相類似，在本實施方式中，透過上模模唇131相對於下模模唇133向內偏移，使得在使用塗佈模具200進行塗佈製程時，經由流道120及流道122流出而形成的具有雙層塗佈液的流體能夠具有良好的流場穩定性。如此一來，透過使用塗佈模具200進行塗佈製程，不但塗佈模具200具有良好的操作視窗及再現性，且相較於習知單層塗佈技術，製程良率得以提升及製程時間得以降低。

圖6是本新型創作的另一實施方式的塗佈模具的局部放大示意圖。請同時參照圖6及圖3，圖5的塗佈模具300與上述圖3的塗佈模具100相似，因此與圖3相同的元件以相同的符號表 示，且以下就兩者相異之處做說明，相同之處就不再重覆贅述。

圖6的塗佈模具300與圖3的塗佈模具100的差異僅在於：在圖6的塗佈模具300中，以下模模唇133為基準，只有第一夾板106的模唇135相對於該基準向內偏移一偏移量D，而在圖3的塗佈模具100中，以下模模唇133為基準，上模模唇131及第一夾板106的模唇135相對於該基準皆向內偏移一偏移量D。

值得說明的是，與圖3的實施方式相類似，在本實施方式中，透過第一夾板106的模唇135相對於下模模唇133向內偏移，使得在使用塗佈模具300進行塗佈製程時，經由流道120及流道122流出而形成的具有雙層塗佈液的流體能夠具有良好的流場穩定性。如此一來，透過使用塗佈模具300進行塗佈製程，不但塗佈模具300具有良好的操作視窗及再現性，且相較於習知單層塗佈技術，製程良率得以提升及製程時間得以降低。

另外，在圖3至圖6中，上模板102、下模板104以及第一夾板106之間具有兩個流道(即流道120及流道122)，藉以透過塗佈系統10、20，塗佈模具100、200、300能夠同時將兩層塗佈液塗佈至基材18、28上，但本新型創作並不限於此。在其他實施方式中，透過塗佈系統10、20，塗佈模具也能夠同時將三層塗佈液塗佈至基材18、28上。在下文中，將參照圖7至圖10對其他實施方式的塗佈模具進行詳細地描述。

圖7是本新型創作的另一實施方式的塗佈模具的示意圖。圖8是圖7的塗佈模具的局部示意圖。請參照圖7，塗佈模具 400包括上模板202、下模板204、第一夾板206以及第二夾板208，其中第一夾板206配置於上模板202與下模板204之間且第二夾板208配置於上模板202與第一夾板206之間。

詳細而言，上模板202的下表面212對應於第二夾板208的上表面218A且兩者之間具有流道320，下模板204的上表面214對應於第一夾板206的下表面216B且兩者之間具有流道322，第二夾板208的下表面218B對應於第一夾板206的上表面216A且兩者之間具有流道324。如此一來，在進行塗佈製程時，三種塗佈液可分別經由流道320、流道322及流道324流出塗佈模具400,並在塗佈模具400外部接觸後形成一具有三層塗佈液的流體。

上模板202還包括位於其側邊的一斜面所形成的上模模肩232以及位於上模模肩232與下表面212相鄰邊線的上模模唇231，下模板204還包括位於其側邊的一斜面所形成的下模模肩234以及位於下模模肩234與上表面214相鄰邊線的下模模唇233，第一夾板206還包括位於上表面216A與下表面216B相鄰邊線的模唇235，第二夾板208還包括位於上表面218A與下表面218B相鄰邊線的模唇237。另外，上模模唇231、下模模唇233、模唇235及模唇237彼此相平行。

進一步而言，在本實施方式中，以下模模唇233為基準，第一夾板206的模唇235以及第二夾板208的模唇237相對於該基準皆向內偏移一偏移量P，其中偏移量P為5μm至1000μm。從另一觀點而言，請參照圖8，相對於一平行於上模模唇231、下 模模唇233、模唇235及模唇237的基準表面PL’，作為基準的下模模唇233與所述基準表面PL’之間具有一距離D1’，而向內偏移一偏移量P的模唇235及模唇237與所述基準表面PL’之間的各自具有一距離D2’，其中距離D1’小於距離D2’。

另外，雖然在本實施方式中，第一夾板206的模唇235以及第二夾板208的模唇237相對於下模模唇233向內偏移的偏移量P是相同的，但本新型創作並不限於此。在其他實施方式中，第一夾板206的模唇235以及第二夾板208的模唇237相對於下模模唇233可具有不相同的偏移量。

值得說明的是，在塗佈模具400中，第一夾板206的模唇235以及第二夾板208的模唇237相對於下模模唇233向內偏移，藉此使用塗佈模具400進行塗佈製程時，經由流道320、流道322及流道324流出而形成的具有三層塗佈液的流體能夠具有良好的流場穩定性。如此一來，透過使用塗佈模具400進行塗佈製程，不但塗佈模具400具有良好的操作視窗及再現性，且相較於習知單層塗佈技術，製程良率得以提升及製程時間得以降低。

圖9是本新型創作的另一實施方式的塗佈模具的局部放大示意圖。請同時參照圖9及圖7，圖9的塗佈模具500與上述圖7的塗佈模具400相似，因此與圖7相同的元件以相同的符號表示，且以下就兩者相異之處做說明，相同之處就不再重覆贅述。

圖9的塗佈模具500與圖7的塗佈模具400的差異僅在於：在圖9的塗佈模具500中，以下模模唇233為基準，上模模 唇231、第一夾板206的模唇235以及第二夾板208的模唇237相對於該基準皆向內偏移一偏移量P，而在圖7的塗佈模具400中，以下模模唇233為基準，上模模唇231相對於該基準並沒有向內偏移。

值得說明的是，與圖7的實施方式相類似，在本實施方式中，透過上模模唇231、第一夾板206的模唇235以及第二夾板208的模唇237相對於下模模唇233皆向內偏移，使得在使用塗佈模具500進行塗佈製程時，經由流道320、流道322及流道324流出而形成的具有三層塗佈液的流體能夠具有良好的流場穩定性。如此一來，透過使用塗佈模具500進行塗佈製程，不但塗佈模具500具有良好的操作視窗及再現性，且相較於習知單層塗佈技術，製程良率得以提升及製程時間得以降低。

另外，雖然在本實施方式中，上模模唇231、第一夾板206的模唇235以及第二夾板208的模唇237相對於下模模唇233向內偏移的偏移量P皆相同，但本新型創作並不限於此。在其他實施方式中，上模模唇231、第一夾板206的模唇235以及第二夾板208的模唇237相對於下模模唇233可具有不相同的偏移量。

圖10是本新型創作的另一實施方式的塗佈模具的局部放大示意圖。請同時參照圖10及圖7，圖10的塗佈模具600與上述圖7的塗佈模具400相似，因此與圖7相同的元件以相同的符號表示，且以下就兩者相異之處做說明，相同之處就不再重覆贅述。

圖10的塗佈模具600與圖7的塗佈模具400的差異僅在 於：在圖10的塗佈模具600中，以下模模唇233為基準，相對於該基準向內偏移一偏移量P的是上模模唇231以及第二夾板208的模唇237，而在圖7的塗佈模具400中，以下模模唇233為基準，相對於該基準向內偏移一偏移量P的是第一夾板206的模唇235以及第二夾板208的模唇237。

值得說明的是，與圖7的實施方式相類似，在本實施方式中，透過上模模唇231以及第二夾板208的模唇237相對於下模模唇233皆向內偏移，使得在使用塗佈模具600進行塗佈製程時，經由流道320、流道322及流道324流出而形成的具有三層塗佈液的流體能夠具有良好的流場穩定性。如此一來，透過使用塗佈模具600進行塗佈製程，不但塗佈模具600具有良好的操作視窗及再現性，且相較於習知單層塗佈技術，製程良率得以提升及製程時間得以降低。

另外，雖然在本實施方式中，上模模唇231以及第二夾板208的模唇237相對於下模模唇233向內偏移的偏移量P是相同的，但本新型創作並不限於此。在其他實施方式中，上模模唇231以及第二夾板208的模唇237相對於下模模唇233可具有不相同的偏移量。

另外，本新型創作之上模板202、下模板204、第一夾板206以及第二夾板208之間具有三個流道(即流道320、流道322及流道324)的塗佈模具並不以圖7、圖9、圖10中所繪者為限。詳細而言，在以下模模唇233為基準的實施方式中，只要上模模 唇231、第一夾板206的模唇235以及第二夾板208的模唇237中的至少一者相對於該基準向內偏移即落入本新型創作的範疇內。更詳細而言，相對於下模模唇233，上模模唇231、第一夾板206的模唇235以及第二夾板208的模唇237中的至少一者向內偏移可組合出七種塗佈模具，而圖7的塗佈模具400、圖9的塗佈模具500及圖10的塗佈模具600僅為其中的三種組合。另外，根據上述關於塗佈模具400、500、600的描述，所屬領域中具有通常知識者應可理解其他四種塗佈模具的構型，以及其他四種塗佈模具亦可以連接至塗佈系統10、20以同時將具有良好流動穩定性的三層塗佈液塗佈至基材18、28上。

綜上所述，本新型創作的塗佈模具透過上模模唇以及第一夾板的模唇中的至少一者或是上模模唇、第一夾板的模唇以及第二夾板的模唇中的至少一者相對於下模模唇向內偏移，而使得在進行塗佈製程時，所塗佈的流體能夠具有良好的流場穩定性，藉此不但塗佈模具具有良好的操作視窗及再現性，且相較於習知單層塗佈技術，製程良率得以提升及製程時間得以降低。

雖然本新型創作已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本新型創作，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本新型創作的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本新型創作的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

100‧‧‧塗佈模具

102‧‧‧上模板

104‧‧‧下模板

106‧‧‧第一夾板

112、116B‧‧‧下表面

116A、114‧‧‧上表面

120、122‧‧‧流道

131‧‧‧上模模唇

132‧‧‧上模模肩

133‧‧‧下模模唇

134‧‧‧下模模肩

135‧‧‧模唇

D‧‧‧偏移量

Claims (9)

1. 一種塗佈模具，包括：一上模板；一下模板；以及一第一夾板，配置於該上模板與該下模板之間，其中以該上模板的模唇、該下模板的模唇及該第一夾板的模唇中的一者為基準，該上模板的模唇、該下模板的模唇及該第一夾板的模唇中的其他者中的至少一者相對於該基準偏移一偏移量。
2. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈模具，其中以該下模板的模唇為基準，該上模板的模唇及該第一夾板的模唇中的至少一者相對於該基準偏移該偏移量。
3. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈模具，其中該偏移量為5μm至1000μm。
4. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈模具，其中在該上模板、該下模板及該第一夾板之間具有兩個流道。
5. 如申請專利範圍第1項所述的塗佈模具，更包括一第二夾板，配置於該上模板與該第一夾板之間。
6. 如申請專利範圍第5項所述的塗佈模具，其中以該上模板的模唇、該下模板的模唇、該第一夾板的模唇及該第二夾板的模唇中的一者為基準，該上模板的模唇、該下模板的模唇、該第一夾板的模唇及該第二夾板的模唇中的其他者中的至少一者相對於該基準偏移該偏移量。
7. 如申請專利範圍第6項所述的塗佈模具，其中以該下模板的模唇為基準，該上模板的模唇、該第一夾板的模唇及該第二夾板的模唇中的至少一者相對於該基準偏移該偏移量。
8. 如申請專利範圍第6項所述的塗佈模具，其中該偏移量為5μm至1000μm。
9. 如申請專利範圍第5項所述的塗佈模具，其中在該上模板、該下模板、該第一夾板及該第二夾板之間具有三個流道。