CN108227310A - 摩擦配向的方法及装置、液晶显示器件及基板 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种摩擦配向的方法及装置、液晶显示器件及基板。上述的摩擦配向的方法包括：将基板置于台板机构上；通过摩擦辊摩擦基板，同时检测摩擦辊摩擦基板时的压入量，得到摩擦辊位于基板的当前位置的压入量数值；其中，压入量数值的数目为多个，多个压入量数值一一对应于摩擦辊位于基板上的多个不同位置；分别将压入量数值与压入量平均值进行比较，以判定压入量数值与压入量平均值的偏差值是否超出预定值；以及根据控制信号调节台板机构的高度，以调节摩擦辊的压入量。摩擦辊在摩擦基板的过程中台板机构的高低可以实时调整，这样使摩擦机台的水平性对基板的摩擦配向的均匀性的影响较小，从而使基板的摩擦配向的均匀性较好。

Description

摩擦配向的方法及装置、液晶显示器件及基板

技术领域

本发明涉及液晶显示器件的制造的技术领域，特别是涉及一种摩擦配向的方法及装置、液晶显示器件及基板。

背景技术

配向工艺是液晶显示器件的制程中的一道十分关键的工艺。配向工艺包括摩擦配向工艺和光配向工艺。其中，摩擦配向工艺是伴随着液晶显示器件而产生的，也是比较早的配向工艺；光配向工艺是一种无接触的配向工艺。由于摩擦配向工艺具有配向成本低廉、稳定性好、可连续生产性和可靠性较好等特点，使得摩擦配向工艺在配向工艺中比较受到青睐，依然是液晶显示器件的配向工艺的主流，尤其是对于高世代线大尺寸的液晶显示器件，考虑到其配向的均匀性的问题，需采用摩擦配向工艺进行配向。

摩擦配向需采用一副包裹有棉绒、人造丝或尼龙等材料的摩擦布的摩擦辊子。摩擦配向的方法为按一定的方向和角度对配向膜进行摩擦处理以使其表面具有沿摩擦方向对液晶分子锚定的能力，而且液晶分子本身具有棒状结构，使得配向膜能很好地作用于棒状液晶分子，达到排列配向的目的。

对于大尺寸的基板，由于摩擦机台经长时间使用之后会产生肉眼无法观察的微小的差别和变形，摩擦配向受基板的摩擦均匀性及摩擦机台的水平性的影响较大，导致基板的摩擦配向的均匀性较差。

发明内容

基于此，有必要针对基板的摩擦配向的均匀性较差的问题，提供一种摩擦配向的方法及装置、液晶显示器件及基板。

一种摩擦配向的方法，包括：

将基板置于台板机构上；

通过摩擦辊摩擦所述基板，同时检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量，得到所述摩擦辊位于所述基板的当前位置的压入量数值；其中，所述压入量数值的数目为多个，多个所述压入量数值一一对应于所述摩擦辊位于所述基板上的多个不同位置；

分别将所述压入量数值与压入量平均值进行比较，以判定所述压入量数值与压入量平均值的偏差值是否超出预定值；若所述偏差值超出预定值，则输出控制信号；以及

根据所述控制信号调节所述台板机构的高度，以调节所述摩擦辊的压入量。

上述的摩擦配向的方法，首先将基板置于台板机构上；然后通过摩擦辊摩擦基板，同时检测摩擦辊摩擦基板时的压入量，得到摩擦辊位于基板的当前位置的压入量数值，即摩擦辊相对于基板摩擦运动以进行摩擦配向过程中，摩擦辊与基板之间存在多个不同位置，在摩擦辊相对于基板运动至任一位置均检测摩擦辊压入基板的压入量，得到多个不同位置对应的压入量数值，亦即是多个压入量数值一一对应于摩擦辊位于基板上的多个不同位置；然后分别将所述压入量数值与压入量平均值进行比较，以判定所述压入量数值与压入量平均值的偏差值是否超出预定值；若偏差值超出预定值，则输出控制信号；否则，不输出控制信号；最后根据控制信号调节台板机构的高度，以调节摩擦辊的压入量，使摩擦辊压入基板上的压入量与压入量平均值之间的偏差值小于预定值，即摩擦辊在摩擦基板的过程中台板机构的高低可以实时调整，这样使摩擦机台的水平性对基板的摩擦配向的均匀性的影响较小，提高了摩擦辊在摩擦基板过程中的摩擦的均匀性，从而使基板的摩擦配向的均匀性较好。

在其中一个实施例中，通过摩擦辊摩擦所述基板，同时检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量的步骤具体为：通过摩擦辊摩擦所述基板，同时通过测距仪检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量，通过测距仪实时检测摩擦辊的压入量，以得到摩擦辊的实时对应的压入量数值，可实现摩擦辊的压入量的高精度检测。

在其中一个实施例中，通过摩擦辊摩擦所述基板，同时测距仪检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量的步骤，还包括：同时通过离子发生器发出正负离子团，所述正负离子团用于中和所述摩擦辊与所述基板摩擦时产生的静电离子，避免摩擦配向的过程中出现静电造成基板的电气性能的不良的问题，提高了基板摩擦配向过程中可靠性，降低了基板的不良率。

在其中一个实施例中，在通过摩擦辊摩擦所述基板，同时通过测距仪检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量，同时通过离子发生器发出正负离子团之前，以及在将基板置于台板机构上之后，还包括步骤：于所述摩擦辊的滚动的前端安装所述测距仪。

在其中一个实施例中，所述压入量平均值为0.2mm～0.6mm，使基板经摩擦配向的质量较好。

一种摩擦配向的装置，所述装置包括台板机构、调节机构、摩擦辊、支撑架以及测距仪；所述台板机构用于承载并传送基板，使所述基板相对于所述摩擦辊运动，所述调节机构设置于所述台板机构上，所述调节机构用于调节所述台板机构的高度，以调节所述摩擦辊的压入量，所述摩擦辊转动连接于所述支撑架上，所述摩擦辊用于摩擦所述基板，所述测距仪设于所述支撑架上，且所述测距仪位于所述摩擦辊的滚动的前端，所述测距仪用于检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量并输出控制信号，所述测距仪与所述调节机构通信连接，所述调节机构根据所述控制信号调节所述台板机构的高度。

在其中一个实施例中，所述装置还包括缓冲机构，所述支撑架连接于所述缓冲机构上，所述缓冲机构用于调节所述支撑架的高度；当摩擦辊对基板进行摩擦配向时，缓冲机构驱动支撑架相对于基板向下运动，使摩擦辊压入基板，从而使摩擦辊与基板之间相对摩擦，以对基板进行摩擦配向；当基板摩擦配向完毕之后，缓冲机构驱动支撑架相对于基板向上运动，使摩擦辊离开基板，这样使摩擦辊相对于基板的位置可灵活调节，从而使摩擦配向的装置可以对任意厚度的基板进行摩擦配向，具有较好的实用性。

在其中一个实施例中，所述装置还包括离子发生器，所述离子发生器设置于所述支撑架上，且所述离子发生器位于所述摩擦辊的滚动的前端，所述离子发生器用于发出正负离子团，以中和所述摩擦辊与所述基板摩擦时产生的静电离子，避免摩擦配向的过程中出现静电造成基板的电气性能的不良的问题，提高了基板摩擦配向过程中可靠性，降低了基板的不良率。

一种基板，采用上述任一实施例所述的摩擦配向的装置进行摩擦配向加工。

一种液晶显示器件，所述液晶显示器件包括上述的基板。

上述的摩擦配向的装置、液晶显示器件及基板，台板机构承载并传送基板，使基板相对于摩擦辊运动，从而使基板与摩擦辊之间相对摩擦，以实现基板的摩擦配向；摩擦辊转动连接于支撑架上，摩擦辊摩擦基板，测距仪设于支撑架上，且位于摩擦辊滚动的前端，由于调节机构设置于台板机构上，且调节机构用于调节台板机构的高度，以调节摩擦辊的压入量，又由于测距仪检测摩擦辊摩擦基板时的压入量并输出控制信号，如根据摩擦辊的压入量与压入量平均值进行比较，以判断摩擦辊于当前位置的压入量与压入量平均值的偏差值是否超出预定值，若偏差值超出预定值，则输出调节台板机构的高低的控制信号；否则，不输出控制信号；调节机构根据控制信号调节台板机构的高度，即调节机构根据控制信号调节台板机构与摩擦辊对应位置的高低，使摩擦辊于当前位置的压入量得到调整，使摩擦辊压入基板上的压入量与压入量平均值之间的偏差值小于预定值，即摩擦辊在摩擦基板的过程中台板机构的高低可以实时调整，这样使摩擦机台的水平性对基板的摩擦配向的均匀性的影响较小，从而使基板的摩擦配向的均匀性较好。

附图说明

图1为一实施例的摩擦配向的方法的流程图；

图2为图1所示的摩擦配向的方法的另一流程图；

图3为图1所示的摩擦配向的方法的又一流程图；

图4为图1所示的摩擦配向的方法的又一流程图；

图5为图1所示的摩擦配向的方法的又一流程图；

图6为一实施例的摩擦配向的装置的示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对摩擦配向的方法及装置、液晶显示器件及基板进行更全面的描述。附图中给出了摩擦配向的方法及装置、液晶显示器件及基板的首选实施例。但是，摩擦配向的方法及装置、液晶显示器件及基板可以采用许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对摩擦配向的方法及装置、液晶显示器件及基板的公开内容更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在摩擦配向的方法及装置、液晶显示器件及基板的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

例如，一种摩擦配向的方法包括：例如，将基板置于台板机构上；例如，通过摩擦辊摩擦所述基板，同时检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量，得到所述摩擦辊位于所述基板的当前位置的压入量数值；其中，所述压入量数值的数目为多个，多个所述压入量数值一一对应于所述摩擦辊位于所述基板上的多个不同位置；例如，分别将所述压入量数值与压入量平均值进行比较，以判定所述压入量数值与压入量平均值的偏差值是否超出预定值；例如，若所述偏差值超出预定值，则输出控制信号；例如，根据所述控制信号调节所述台板机构的高度，以调节所述摩擦辊的压入量。例如，一种摩擦配向的方法包括：将基板置于台板机构上；通过摩擦辊摩擦所述基板，同时检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量，得到所述摩擦辊位于所述基板的当前位置的压入量数值；其中，所述压入量数值的数目为多个，多个所述压入量数值一一对应于所述摩擦辊位于所述基板上的多个不同位置；分别将所述压入量数值与压入量平均值进行比较，以判定所述压入量数值与压入量平均值的偏差值是否超出预定值；若所述偏差值超出预定值，则输出控制信号；以及根据所述控制信号调节所述台板机构的高度，以调节所述摩擦辊的压入量。

如图1所示，一实施例的摩擦配向的方法包括：

S101，将基板置于台板机构上。

S103，通过摩擦辊摩擦所述基板，同时检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量，得到所述摩擦辊位于所述基板的当前位置的压入量数值。例如，台板机构驱动基板相对于摩擦辊运动，即基板相对于摩擦辊运动，使基板与摩擦辊相对摩擦；在其他实施例中，台板机构上的基板可以保持静止，摩擦辊相对于台板机构运动，即摩擦辊相对于基板运动，使摩擦辊与基板相对摩擦。例如，摩擦辊呈圆柱状。基板位于摩擦辊的下方。

其中，所述压入量数值的数目为多个，多个所述压入量数值一一对应于所述摩擦辊位于所述基板上的多个不同位置。在本实施例中，每个压入量数值对应于当前位置的摩擦辊位于基板上的压入量。

同时参见图2，在其中一个实施例中，通过摩擦辊摩擦所述基板，同时检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量的步骤S103具体为：S103A，通过摩擦辊摩擦所述基板，同时通过测距仪检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量，即在摩擦辊摩擦基板的过程中同时通过测距仪实时检测摩擦辊于基板上的压入量；通过测距仪实时检测摩擦辊的压入量，以得到摩擦辊的实时对应的压入量数值，可实现摩擦辊的压入量的高精度检测。

在其中一个实施例中，在通过摩擦辊摩擦所述基板，同时通过测距仪检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量之前，以及在将基板置于台板机构上之后，还包括步骤：于所述摩擦辊的滚动的前端安装所述测距仪。例如，所述测距仪为激光测距仪，使测距仪的测量精度较高。在其他实施例中，所述测距仪还可以为超声波测距仪。

如图3所示，在其中一个实施例中，通过摩擦辊摩擦所述基板，同时测距仪检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量的步骤S103A，还包括：同时通过离子发生器发出正负离子团，即步骤S103具体为：S103A1，通过摩擦辊摩擦所述基板，同时测距仪检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量，同时通过离子发生器发出正负离子团；所述正负离子团用于中和所述摩擦辊与所述基板摩擦时产生的静电离子，避免摩擦配向的过程中出现静电造成基板的电气性能的不良的问题，提高了基板摩擦配向过程中可靠性，降低了基板的不良率。

如图4所示，在其中一个实施例中，在通过摩擦辊摩擦所述基板，同时通过测距仪检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量，同时通过离子发生器发出正负离子团之前，以及在将基板置于台板机构上之后，还包括步骤：S104A，于所述摩擦辊的滚动的前端安装所述测距仪。

如图5所示，例如，在通过摩擦辊摩擦所述基板，同时通过测距仪检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量，同时通过离子发生器发出正负离子团之前，以及在于所述摩擦辊的滚动的前端安装所述测距仪之后，还包括步骤：S104B，于所述摩擦辊的滚动的前端安装所述离子发生器。在本实施例中，于所述摩擦辊的滚动的前端安装所述离子发生器的步骤S104A在于所述摩擦辊的滚动的前端安装所述测距仪的步骤S104B之前。可以理解，在其他实施例中，步骤S104A与步骤S104B的顺序可以互换。

S105，分别将所述压入量数值与压入量平均值进行比较，以判定所述压入量数值与压入量平均值的偏差值是否超出预定值。若所述偏差值超出预定值，则输出控制信号；否则，不输出控制信号。

在其中一个实施例中，所述压入量平均值为0.2mm～0.6mm，使基板经摩擦配向的质量较好。例如，所述压入量平均值可以是本次摩擦配向的压入量平均值，也可以使多次的摩擦配向的压入量平均值，也可以是累积次数的摩擦配向的压入量平均值。在本实施例中，所述压入量平均值为本次摩擦配向的压入量平均值。

可以理解，每个所述压入量数值可以为摩擦辊的多个不同部位于基板上的当前位置的平均压入值，也可以为摩擦辊的中点或摩擦辊的其他区域于基板上的当前位置的压入量数值。例如，测距仪设置于支撑架的中间位置，测距仪位于支撑架的运行前端，且与摩擦辊的中点相对应，使测距仪能够实时测得摩擦辊的中点压入基板上的压入量，得到摩擦辊的中点于基板上的压入量数值。

例如，测距仪与控制器通信连接，且控制器与调节机构通信连接；调节机构用于调节台板机构的高低，即调节机构用于调节台板机构相对于摩擦辊的高低；控制器用于对测距仪输出的压入量与压入量平均值进行比较，即通过控制器对测距仪测得的压入量与压入量平均值进行作差，并通过二者的差值的大小调节台板机构的高低，使计算得到的压入量数值的准确度较高，使检测摩擦辊摩擦基板时的压入量的精确性较高。例如，根据摩擦辊的压入量与压入量平均值进行比较，以判断摩擦辊于当前位置的压入量与压入量平均值的偏差值是否超出预定值，若偏差值超出预定值，则输出调节台板机构的高低的控制信号；否则，不输出控制信号；具体地，控制器内储存着预定值，控制器用于对摩擦辊的压入量与压入量平均值进行作差计算得出偏差值，并判定偏差值是否大于预定值，如此判断摩擦辊于当前位置的压入量与压入量平均值的偏差值是否超出预定值，若偏差值超出预定值，则输出调节台板机构的高低的控制信号；否则，不输出控制信号。

可以理解，在其他实施例中，控制器可以省略。例如，测距仪用于与外界的工业计算机通信连接，且调节机构用于与所述工业计算机通信连接；所述工业计算机集成有控制软件，所述工业计算机对测距仪测得的压入量与压入量平均值进行作差，即计算摩擦辊于当前位置的压入量与压入量平均值的偏差值；测试时，仅需打开以运行控制软件即可。控制软件根据预设的预定值与偏差值进行比较，即判断摩擦辊于当前位置的压入量与压入量平均值的偏差值是否超出预定值，若偏差值超出预定值，则输出调节台板机构的高低的控制信号；否则，不输出控制信号。这样，操作者可以通过控制软件灵活设定预定值，使所设定的预定值满足当前基板的摩擦配向的要求，对于不同厚度的或不同摩擦配向要求的基板设定不同大小的预定值，提高了摩擦配向的方便性。

为了提高基板的摩擦配向的均匀性，例如，测距仪的数目可以是多个，多个测距仪间隔设置于支撑架上，多个测距仪均位于摩擦辊的运行前端，多个测距仪同时测试摩擦辊的多个不同部位压入基板的压入量，对多个压入量取平均值以输出当前位置的摩擦辊位于基板上的压入量，即摩擦辊于基板上的当前位置的平均压入值，使检测摩擦辊摩擦基板时的压入量的精确性较高，提高了摩擦辊摩擦基板的均匀性。

例如，多个测距仪均与控制器通信连接，且控制器与调节机构通信连接；调节机构用于调节台板机构的高低，即调节机构用于调节台板机构相对于摩擦辊的高低；控制器对多个测距仪测得的压入量进行计算，即控制器对多个测距仪测得的压入量求平均值并与压入量平均值进行比较，即控制器先对多个测距仪测得的压入量求平均值，然后将平均值与压入量平均值进行作差，使计算得到的平均压入值的准确度较高，使检测摩擦辊摩擦基板时的压入量的精确性较高。可以理解，在其他实施例中，控制器可以省略。例如，每个测距仪用于与外界的工业计算机通信连接，且调节机构用于与外界的工业计算机通信连接，所述工业计算机集成有控制软件，所述工业计算机对测距仪测得的压入量与压入量平均值进行作差，在摩擦配向的过程中，仅需打开控制软件即可。

S107，根据所述控制信号调节所述台板机构的高度，以调节所述摩擦辊的压入量。例如，台板机构包括台板本体和多个台板单元，多个所述台板单元并排设置，且每个台板单元相对于台板本体运动，多个台板单元与多个调节机构一一对应连接，多个调节机构均与测距仪通信连接，测距仪与控制器通信连接，且控制器与调节机构通信连接；测距仪实时测得摩擦辊压入基板上的压入量；调节机构用于调节台板单元的高低，即调节机构用于调节台板单元相对于摩擦辊的高低，亦即是调节机构调节摩擦辊所在的基板位置对应的台板单元的高低；具体到调节机构如何得知摩擦辊于基板的位置，如通过每个台板单元上设置压力传感器，使摩擦辊摩擦基板时同时对当前的台板单元进行了挤压，从而使相应的压力传感器发生感应信号并传递至控制器，控制器再根据感应信号得到相应的台板单元的位置，以对应调节台板单元的高低；控制器还用于对测距仪输出的压入量与压入量平均值进行比较，即通过控制器对测距仪测得的压入量与压入量平均值进行作差，并通过二者的差值的大小调节台板机构的高低，使计算得到的压入量数值的准确度较高，使检测摩擦辊摩擦基板时的压入量的精确性较高。具体地，控制器内储存着预定值，控制器用于对摩擦辊的压入量与压入量平均值进行作差计算得出偏差值，并判定偏差值是否大于预定值，如此判断摩擦辊于当前位置的压入量与压入量平均值的偏差值是否超出预定值，若偏差值超出预定值，则输出调节相应的台板单元的高低的控制信号；否则，不输出控制信号。

可以理解，在其他实施例中，控制器可以省略。例如，测距仪用于与外界的工业计算机通信连接，且调节机构用于与所述工业计算机通信连接；所述工业计算机集成有控制软件，所述工业计算机对测距仪测得的压入量与压入量平均值进行作差，即计算摩擦辊于当前位置的压入量与压入量平均值的偏差值；测试时，仅需打开以运行控制软件即可。控制软件根据预设的预定值与偏差值进行比较，即判断摩擦辊于当前位置的压入量与压入量平均值的偏差值是否超出预定值，若偏差值超出预定值，则输出调节台板机构的高低的控制信号；否则，不输出控制信号。这样，操作者可以通过控制软件灵活设定预定值，使所设定的预定值满足当前基板的摩擦配向的要求，对于不同厚度的或不同摩擦配向要求的基板设定不同大小的预定值，提高了摩擦配向的方便性。

上述的摩擦配向的方法，首先将基板置于台板机构上；然后通过摩擦辊摩擦基板，同时检测摩擦辊摩擦基板时的压入量，得到摩擦辊位于基板的当前位置的压入量数值，即摩擦辊相对于基板摩擦运动以进行摩擦配向过程中，摩擦辊与基板之间存在多个不同位置，在摩擦辊相对于基板运动至任一位置均检测摩擦辊压入基板的压入量，得到多个不同位置对应的压入量数值，亦即是多个压入量数值一一对应于摩擦辊位于基板上的多个不同位置；然后分别将所述压入量数值与压入量平均值进行比较，以判定所述压入量数值与压入量平均值的偏差值是否超出预定值；若偏差值超出预定值，则输出控制信号；否则，不输出控制信号；最后根据控制信号调节台板机构的高度，以调节摩擦辊的压入量，使摩擦辊压入基板上的压入量与压入量平均值之间的偏差值小于预定值，即摩擦辊在摩擦基板的过程中台板机构的高低可以实时调整，这样使摩擦机台的水平性对基板的摩擦配向的均匀性的影响较小，提高了摩擦辊在摩擦基板过程中的摩擦的均匀性，从而使基板的摩擦配向的均匀性较好。

再次参见图2，例如，摩擦配向的方法包括：S101，将基板置于台板机构上；S103A，通过摩擦辊摩擦所述基板，同时测距仪检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量，同时通过离子发生器发出正负离子团；所述正负离子团用于中和所述摩擦辊与所述基板摩擦时产生的静电离子，避免摩擦配向的过程中出现静电造成基板的电气性能的不良的问题，提高了基板摩擦配向过程中可靠性，降低了基板的不良率；S105，将所述压入量数值与压入量平均值进行比较，以判定所述压入量数值与压入量平均值的偏差值是否超出预定值。若所述偏差值超出预定值，则输出控制信号；否则，不输出控制信号；S107，根据所述控制信号调节所述台板机构的高度，以调节所述摩擦辊的压入量。

例如，所述压入量平均值为所述摩擦辊于所述基板的预定区域的压入量的平均值，所述基板的预定区域为所述摩擦辊沿滚动方向运动预定长度的位移对应的所述基板的区域。

摩擦配向时，首先将基板置于台板机构上；然后通过摩擦辊摩擦基板，同时检测摩擦辊摩擦基板时的压入量，同时通过离子发生器发出正负离子团，得到摩擦辊位于基板的当前位置的压入量数值，即摩擦辊相对于基板摩擦运动以进行摩擦配向过程中，摩擦辊与基板之间存在多个不同位置，在摩擦辊相对于基板运动至任一位置均检测摩擦辊压入基板的压入量，得到多个不同位置对应的压入量数值，亦即是多个压入量数值一一对应于摩擦辊位于基板上的多个不同位置；正负离子团用于中和所述摩擦辊与所述基板摩擦时产生的静电离子，避免摩擦配向的过程中出现静电造成基板的电气性能的不良的问题，提高了基板摩擦配向过程中可靠性，降低了基板的不良率；然后将所述压入量数值与压入量平均值进行比较，以判定所述压入量数值与压入量平均值的偏差值是否超出预定值；若偏差值超出预定值，则输出控制信号；否则，不输出控制信号；最后根据控制信号调节台板机构的高度，以调节摩擦辊的压入量，使摩擦辊压入基板上的压入量与压入量平均值之间的偏差值小于预定值，即摩擦辊在摩擦基板的过程中台板机构的高低可以实时调整，这样使摩擦机台的水平性对基板的摩擦配向的均匀性的影响较小，提高了摩擦辊在摩擦基板过程中的摩擦的均匀性，从而使基板的摩擦配向的均匀性较好。

如图6所示，本发明还提供一种摩擦配向的装置10。所述装置包括台板机构100、调节机构200、摩擦辊300、支撑架400以及测距仪500。

所述台板机构用于承载并传送基板，使所述基板相对于所述摩擦辊运动，即图6所示的箭头方向。所述调节机构设置于所述台板机构上，所述调节机构用于调节所述台板机构的高度，以调节所述摩擦辊的压入量。所述摩擦辊转动连接于所述支撑架上，所述摩擦辊用于摩擦所述基板。所述测距仪设于所述支撑架上，且所述测距仪位于所述摩擦辊的滚动的前端。所述测距仪用于检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量并输出控制信号。所述测距仪与所述调节机构通信连接，所述调节机构根据所述控制信号调节所述台板机构的高度。例如，所述摩擦辊包括摩擦辊本体和包裹层，所述包裹层包覆所述摩擦辊本体，所述摩擦辊本体转动连接于支撑架上；当摩擦辊本体相对于支撑架转动时，包裹层与基板相对摩擦，使摩擦辊对基板进行摩擦配向。又如，所述包裹层的材料为棉绒或人造丝或尼龙等，使包裹层具有一定的耐磨性能。例如，所述测距仪为激光测距仪，使测距仪的测量精度较高。在其他实施例中，所述测距仪还可以为超声波测距仪。例如，所述压入量平均值为0.2mm～0.6mm，使基板经摩擦配向的质量较好。

例如，所述装置还包括控制器800，控制器分别与所述测距仪和所述调节机构通信连接，控制器用于对测距仪输出的压入量与压入量平均值进行比较，即通过控制器对测距仪测得的压入量与压入量平均值进行作差，并通过二者的差值的大小输出控制信号；所述调节机构根据所述控制信号调节所述台板机构的高度，即所述调节机构根据所述控制信号调节所述台板机构的高低。可以理解，控制器可以省略，在其他实施例中，所述测距仪和所述调节机构均用于与外界的工业计算机通信连接，所述工业计算机集成有控制软件，所述工业计算机对测距仪测得的压入量与压入量平均值进行作差，即计算摩擦辊于当前位置的压入量与压入量平均值的偏差值；测试时，仅需打开以运行控制软件即可。控制软件根据预设的预定值与偏差值进行比较，即判断摩擦辊于当前位置的压入量与压入量平均值的偏差值是否超出预定值，若偏差值超出预定值，则输出调节台板机构的高低的控制信号；否则，不输出控制信号。这样，操作者可以通过控制软件灵活设定预定值，使所设定的预定值满足当前基板的摩擦配向的要求，对于不同厚度的或不同摩擦配向要求的基板设定不同大小的预定值，提高了摩擦配向的方便性。

例如，台板机构包括台板本体和多个台板单元，多个所述台板单元并排设置，且每个台板单元相对于台板本体运动，多个台板单元与多个调节机构一一对应连接，即每个台板单元与每个调节机构对应连接；多个调节机构均与测距仪通信连接，测距仪与控制器通信连接，且控制器与调节机构通信连接；测距仪实时测得摩擦辊压入基板上的压入量；调节机构用于调节台板单元的高低，即调节机构用于调节台板单元相对于摩擦辊的高低，亦即是调节机构调节摩擦辊所在的基板位置对应的台板单元的高低；例如，通过每个台板单元上设置压力传感器，使摩擦辊摩擦基板时同时对当前的台板单元进行了挤压，从而使相应的压力传感器发生感应信号并传递至控制器，控制器再根据感应信号得到相应的台板单元的位置，以对应调节台板单元的高低；控制器还用于对测距仪输出的压入量与压入量平均值进行比较，即通过控制器对测距仪测得的压入量与压入量平均值进行作差，并通过二者的差值的大小调节台板机构的高低，使计算得到的压入量数值的准确度较高，使检测摩擦辊摩擦基板时的压入量的精确性较高。又如，每个所述调节机构包括电磁阀和弹性组件，台板单元与弹性组件的一端连接，弹性组件的另一端与电磁阀连接，且电磁阀用于吸附台板单元，电磁阀与控制器通信连接，电磁阀根据控制器的控制信号调节磁场的大小，使台板单元相对于台板本体运动且二者之间具有一定的缓冲性，使台板单元与台板本体之间的相对运动较为平稳。又如，所述弹性组件为弹簧组件或弹性胶组件。

可以理解，在其他实施例中，控制器可以省略，电磁阀用于与工业计算机通信连接，且测距仪用于与工业计算机通信连接；所述工业计算机集成有控制软件，所述工业计算机对测距仪测得的压入量与压入量平均值进行作差，即计算摩擦辊于当前位置的压入量与压入量平均值的偏差值；测试时，仅需打开以运行控制软件即可。控制软件根据预设的预定值与偏差值进行比较，即判断摩擦辊于当前位置的压入量与压入量平均值的偏差值是否超出预定值，若偏差值超出预定值，则输出调节台板机构的高低的控制信号；否则，不输出控制信号。这样，操作者可以通过控制软件灵活设定预定值，使所设定的预定值满足当前基板的摩擦配向的要求，对于不同厚度的或不同摩擦配向要求的基板设定不同大小的预定值，提高了摩擦配向的方便性；电磁阀根据工业计算机的控制信号调节磁场的大小，使台板单元相对于台板本体运动且二者之间具有一定的缓冲性，使台板单元与台板本体之间的相对运动较为平稳。

在其中一个实施例中，所述装置还包括缓冲机构600，所述支撑架连接于所述缓冲机构上，所述缓冲机构用于调节所述支撑架的高度；当摩擦辊对基板进行摩擦配向时，缓冲机构驱动支撑架相对于基板向下运动，使摩擦辊压入基板，从而使摩擦辊与基板之间相对摩擦，以对基板进行摩擦配向；当基板摩擦配向完毕之后，缓冲机构驱动支撑架相对于基板向上运动，使摩擦辊离开基板，这样使摩擦辊相对于基板的位置可灵活调节，从而使摩擦配向的装置可以对任意厚度的基板进行摩擦配向，具有较好的实用性。例如，所述缓冲机构包括机架、升降组件和多个缓冲单元，机架分别与支撑架和升降组件的动力输出端连接；升降组件驱动机架运动，多个所述缓冲单元均与所述机架连接；当升降组件带动机架上下运动时，多个缓冲单元发生变形，每个缓冲单元会发生往复运动，起到缓冲作用，即每个缓冲单元带动机架上下运动，从而使支撑架带动摩擦辊上下运动，使摩擦辊平缓压入或离开基板。例如，每个缓冲单元为弹簧或弹性胶，使摩擦辊相对于基板上下运动过程中的平缓性较好。

在其中一个实施例中，所述装置还包括离子发生器700，所述离子发生器设置于所述支撑架上，且所述离子发生器位于所述摩擦辊的滚动的前端，所述离子发生器用于发出正负离子团，以中和所述摩擦辊与所述基板摩擦时产生的静电离子，避免摩擦配向的过程中出现静电造成基板的电气性能的不良的问题，提高了基板摩擦配向过程中可靠性，降低了基板的不良率。例如，所述装置还包括缓冲机构和离子发生器；所述支撑架连接于所述缓冲机构上，所述缓冲机构用于调节所述支撑架的高度；当摩擦辊对基板进行摩擦配向时，缓冲机构驱动支撑架相对于基板向下运动，使摩擦辊压入基板，从而使摩擦辊与基板之间相对摩擦，以对基板进行摩擦配向；当基板摩擦配向完毕之后，缓冲机构驱动支撑架相对于基板向上运动，使摩擦辊离开基板，这样使摩擦辊相对于基板的位置可灵活调节，从而使摩擦配向的装置可以对任意厚度的基板进行摩擦配向，具有较好的实用性；所述离子发生器设置于所述支撑架上，且所述离子发生器位于所述摩擦辊的滚动的前端，所述离子发生器用于发出正负离子团，以中和所述摩擦辊与所述基板摩擦时产生的静电离子，避免摩擦配向的过程中出现静电造成基板的电气性能的不良的问题，提高了基板摩擦配向过程中可靠性，降低了基板的不良率。例如，所述缓冲机构包括机架、升降组件和多个缓冲单元，机架分别与支撑架和升降组件的动力输出端连接；升降组件驱动机架运动，多个所述缓冲单元均与所述机架连接；当升降组件带动机架上下运动时，多个缓冲单元发生变形，每个缓冲单元会发生往复运动，起到缓冲作用，即每个缓冲单元带动机架上下运动，从而使支撑架带动摩擦辊上下运动，使摩擦辊平缓压入或离开基板。

本发明还提供一种基板。基板采用上述任一实施例所述的摩擦配向的装置进行摩擦配向加工。

本发明还提供一种液晶显示器件，所述液晶显示器件包括上述的基板。

上述的摩擦配向的装置、液晶显示器件及基板，台板机构承载并传送基板，使基板相对于摩擦辊运动，从而使基板与摩擦辊之间相对摩擦，以实现基板的摩擦配向；摩擦辊转动连接于支撑架上，摩擦辊摩擦基板，测距仪设于支撑架上，且位于摩擦辊滚动的前端，由于调节机构设置于台板机构上，且调节机构用于调节台板机构的高度，以调节摩擦辊的压入量，又由于测距仪检测摩擦辊摩擦基板时的压入量并输出控制信号，如根据摩擦辊的压入量与压入量平均值进行比较，以判断摩擦辊于当前位置的压入量与压入量平均值的偏差值是否超出预定值，若偏差值超出预定值，则输出调节台板机构的高低的控制信号；否则，不输出控制信号；调节机构根据控制信号调节台板机构的高度，即调节机构根据控制信号调节台板机构与摩擦辊对应位置的高低，使摩擦辊于当前位置的压入量得到调整，使摩擦辊压入基板上的压入量与压入量平均值之间的偏差值小于预定值，即摩擦辊在摩擦基板的过程中台板机构的高低可以实时调整，这样使摩擦机台的水平性对基板的摩擦配向的均匀性的影响较小，从而使基板的摩擦配向的均匀性较好。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种摩擦配向的方法，其特征在于，包括：

将基板置于台板机构上；

通过摩擦辊摩擦所述基板，同时检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量，得到所述摩擦辊位于所述基板的当前位置的压入量数值；其中，所述压入量数值的数目为多个，多个所述压入量数值一一对应于所述摩擦辊位于所述基板上的多个不同位置；

分别将所述压入量数值与压入量平均值进行比较，以判定所述压入量数值与压入量平均值的偏差值是否超出预定值；若所述偏差值超出预定值，则输出控制信号；以及

根据所述控制信号调节所述台板机构的高度，以调节所述摩擦辊的压入量。

2.根据权利要求1所述的摩擦配向的方法，其特征在于，通过摩擦辊摩擦所述基板，同时检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量的步骤具体为：通过摩擦辊摩擦所述基板，同时通过测距仪检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量。

3.根据权利要求2所述的摩擦配向的方法，其特征在于，通过摩擦辊摩擦所述基板，同时测距仪检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量的步骤，还包括：同时通过离子发生器发出正负离子团，所述正负离子团用于中和所述摩擦辊与所述基板摩擦时产生的静电离子。

4.根据权利要求2或3所述的摩擦配向的方法，其特征在于，在通过摩擦辊摩擦所述基板，同时通过测距仪检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量，同时通过离子发生器发出正负离子团之前，以及在将基板置于台板机构上之后，还包括步骤：于所述摩擦辊的滚动的前端安装所述测距仪。

5.根据权利要求1所述的摩擦配向的方法，其特征在于，所述压入量平均值为0.2mm～0.6mm。

6.一种摩擦配向的装置，其特征在于，所述装置包括台板机构、调节机构、摩擦辊、支撑架以及测距仪；所述台板机构用于承载并传送基板，使所述基板相对于所述摩擦辊运动，所述调节机构设置于所述台板机构上，所述调节机构用于调节所述台板机构的高度，以调节所述摩擦辊的压入量，所述摩擦辊转动连接于所述支撑架上，所述摩擦辊用于摩擦所述基板，所述测距仪设于所述支撑架上，且所述测距仪位于所述摩擦辊的滚动的前端，所述测距仪用于检测所述摩擦辊摩擦所述基板时的压入量并输出控制信号，所述测距仪与所述调节机构通信连接，所述调节机构根据所述控制信号调节所述台板机构的高度。

7.根据权利要求6所述的摩擦配向的装置，其特征在于，所述装置还包括缓冲机构，所述支撑架连接于所述缓冲机构上，所述缓冲机构用于调节所述支撑架的高度。

8.根据权利要求6所述的摩擦配向的装置，其特征在于，所述装置还包括离子发生器，所述离子发生器设置于所述支撑架上，且所述离子发生器位于所述摩擦辊的滚动的前端，所述离子发生器用于发出正负离子团，以中和所述摩擦辊与所述基板摩擦时产生的静电离子。

9.一种基板，其特征在于，采用权利要求6至8中任一项所述的摩擦配向的装置进行摩擦配向加工。

10.一种液晶显示器件，其特征在于，所述液晶显示器件包括权利要求9所述的基板。