CN108196425A - 一种纳米压印衬底固化装置 - Google Patents
一种纳米压印衬底固化装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108196425A CN108196425A CN201810046179.2A CN201810046179A CN108196425A CN 108196425 A CN108196425 A CN 108196425A CN 201810046179 A CN201810046179 A CN 201810046179A CN 108196425 A CN108196425 A CN 108196425A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- nano impression
- solidification equipment
- light
- equipment according
- fixing groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 238000007711 solidification Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 230000008023 solidification Effects 0.000 title claims abstract description 21
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 17
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 11
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 5
- 210000002421 cell wall Anatomy 0.000 claims abstract description 4
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 3
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 7
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 230000036541 health Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000006193 liquid solution Substances 0.000 description 1
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004987 plasma desorption mass spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Abstract
一种纳米压印衬底固化装置，包括基座，所述基座上以矩形阵列方式开设有多个固定槽，所述的固定槽内设置有升降机构，所述的升降机构的升降部端部设置有衬底片，所述的衬底片上设置有压印胶层，相邻两个固定槽之间设置有分光装置，所述的固定槽的槽壁上设置有用于透光的透光部所述分光装置的底部设置有紫外线光源。本发明拥有固化时间短，固化效果好，且固化过程中紫外线不外射便于操作人员操作的优点。
Description
技术领域
本发明涉及纳米压印装置技术领域，具体涉及一种纳米压印衬底固化装置。
背景技术
纳米压印技术为首先在衬底上涂上一层薄层热塑形高分子材料。升温并达到此热塑性材料的玻璃化温度Tg之上。热塑性材料在高弹态下，黏度降低，流动性增强，随后将具有纳米尺度的模具压在上面，并施加适当的压力。热塑性材料会填充模具中的空腔，在此过程中，热塑性材料的厚度应较模具的空腔高度要大，从而避免模具与衬底的直接接触而造成损伤。模压过程结束后，温度降低使热塑性材料固化，因而能具有与模具的重合的图形。随后移去模具，并进行各相异性刻蚀去除残留的聚合物。接下来进行图形转移。图形转移可以采用刻蚀或者剥离的方法。刻蚀技术以热塑性材料为掩膜，对其下面的衬底进行各向异性刻蚀，从而得到相应的图形。剥离工艺先在表面镀一层金属，然后用有机溶剂溶解掉聚合物，随之热塑性材料上的金属也将被剥离，从而在衬底上有金属作为掩膜，随后再进行刻蚀得到图形。
现有技术中采用对紫外透明的石英玻璃或PDMS，光阻胶采用低粘度，光固化的单体溶液。先将低粘度的单体溶液滴在要压印的衬底上，结合微电子工艺，薄膜的淀积可以采用旋胶覆盖的方法，用很低的压力将模版压到晶圆上，使液态分散开并填充模版中的空腔。透过模具的紫外曝光促使压印区域的聚合物发生聚合和固化成型。最后刻蚀残留层和进行图形转移，得到高深宽比的结构。最后的脱模和图形转移过程同热压工艺类似。现有的紫外线固化技术存在多个缺点，首先固化时间较长，其次固化过程中需要在专用的紫外线固化室内进行，紫外线如果外泄对操作人员的健康产生影响，最后现有的普照式的紫外线固化方式不能保证每一个压印部分都能均匀固化，导致固化效果不佳。
发明内容
本发明的目的是提供一种纳米压印衬底固化装置，本发明提供一种能快速安全的进行紫外线固化的装置。
本发明的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种纳米压印衬底固化装置，包括基座，所述基座上以矩形阵列方式开设有多个固定槽，所述的固定槽内设置有升降机构，所述的升降机构的升降部端部设置有衬底片，所述的衬底片上设置有压印胶层，相邻两个固定槽之间设置有分光装置，所述的固定槽的槽壁上设置有用于透光的透光部所述分光装置的底部设置有紫外线光源。
作为本发明的优选，还包括反射盖板，所述反射盖板的下方设置有与所述固定槽配合的固定块。
作为本发明的优选，所述固定块的下侧表面设置有反光镀面，所述的反光镀面上设置有增反膜。
作为本发明的优选，所述的透光部为减反射玻璃，所述的透光部靠近所述固定槽的端口处部分设置有斜反射部。
作为本发明的优选，所述的透光部的顶部设置有反射挡块，所述反射挡块与所述透光部连接一侧侧面上设置有反射镀膜。
作为本发明的优选，所述的基座底部设置有底座，所述的紫外线光源固定在所述底座上。
作为本发明的优选，所述的分光装置从下至上依次包括固定罩、反光锥筒、分光棱柱。
作为本发明的优选，所述的分光棱柱由外至内依次为外棱柱、内棱柱、出光圆柱，所述的出光圆柱的端部设置有球形分光部。
作为本发明的优选，所述的外棱柱与所述的内棱柱均为六角棱柱。
作为本发明的优选，所述外棱柱与所述的内棱柱的棱角间的夹角为30°。
综上所述，本发明具有如下有益效果：
本发明拥有固化时间短，固化效果好，且固化过程中紫外线不外射便于操作人员操作的优点。
附图说明
图1是本发明的实施例的结构示意图；
图2是本发明的实施例的出光圆柱的结构示意图；
图3是本发明的实施例的分光棱柱俯视结构示意图；
图中：1-基座；2-固定槽；3-升降机构；4-衬底片；5-压印胶层；6-分光装置；7-透光部；8-紫外线光源；9-反射盖板；10-固定块；11-反光镀面；7-1-斜反射部；12-反射挡块；13-底座；6-1-固定罩；6-2-反光锥筒；6-3-分光棱柱；6-3-1-外棱柱；6-3-2-内棱柱；6-3-3-出光圆柱；6-3-3-1-球形分光部。
具体实施方式
以下结合附图对本发明作进一步详细说明。
如图1所示，本发明实施例包括基座1，基座1上以矩形阵列方式开设有多个固定槽2，固定槽2内设置有升降机构3，升降机构3为升降油缸，该结构必须为油缸以保证足够的支撑力，升降机构3的升降部端部设置有衬底片4，衬底片4上设置有压印胶层5，相邻两个固定槽2之间设置有分光装置6，固定槽2的槽壁上设置有用于透光的透光部7分光装置6的底部设置有紫外线光源8，紫外线光源8为紫外线LED。本实施例在压印完成后还包括在升降机构3降至最低高度后用于从上方封闭固定槽2的端口的反射盖板9，反射盖板9的下方设置有与固定槽2配合的固定块10。固定块10的下侧表面设置有反光镀面11，反光镀面11上设置有增反膜。透光部7为减反射玻璃，透光部7靠近固定槽2的端口处部分设置有用于将过的紫外线向下反射的斜反射部7-1。透光部7的顶部设置有反射挡块12，反射挡块12与透光部7连接一侧侧面上设置有反射镀膜。基座1底部设置有底座13，紫外线光源8固定在底座13上。
如图1、图2、图3所示，本发明实施例分光装置6从下至上依次包括用于固定紫外线光源8的灯头的固定罩6-1、用于将紫外线光源8的出光进行发散的反光锥筒6-2、用于将紫外线光线分光发散至周围相邻的固定槽2的透光部7上的分光棱柱6-3。分光棱柱6-3由外至内依次为外棱柱6-3-1、内棱柱6-3-2、出光圆柱6-3-3，出光圆柱6-3-3的端部设置有球形分光部6-3-3-1。外棱柱6-3-1与内棱柱6-3-2均为六角棱柱。外棱柱6-3-1与内棱柱6-3-2的棱角间的夹角为30°。
本具体实施例仅仅是对本发明的解释，其并不是对本发明的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本发明的权利要求范围内都受到专利法的保护。
Claims (10)
1.一种纳米压印衬底固化装置，其特征在于：包括基座(1)，所述基座(1)上以矩形阵列方式开设有多个固定槽(2)，所述的固定槽(2)内设置有升降机构(3)，所述的升降机构(3)的升降部端部设置有衬底片(4)，所述的衬底片(4)上设置有压印胶层(5)，相邻两个固定槽(2)之间设置有分光装置(6)，所述的固定槽(2)的槽壁上设置有用于透光的透光部(7)所述分光装置(6)的底部设置有紫外线光源(8)。
2.根据权利要求1所述的一种纳米压印衬底固化装置，其特征在于：还包括反射盖板(9)，所述反射盖板(9)的下方设置有与所述固定槽(2)配合的固定块(10)。
3.根据权利要求2所述的一种纳米压印衬底固化装置，其特征在于：所述固定块(10)的下侧表面设置有反光镀面(11)，所述的反光镀面(11)上设置有增反膜。
4.根据权利要求1所述的一种纳米压印衬底固化装置，其特征在于：所述的透光部(7)为减反射玻璃，所述的透光部(7)靠近所述固定槽(2)的端口处部分设置有斜反射部(7-1)。
5.根据权利要求4所述的一种纳米压印衬底固化装置，其特征在于：所述的透光部(7)的顶部设置有反射挡块(12)，所述反射挡块(12)与所述透光部(7)连接一侧侧面上设置有反射镀膜。
6.根据权利要求1所述的一种纳米压印衬底固化装置，其特征在于：所述的基座(1)底部设置有底座(13)，所述的紫外线光源(8)固定在所述底座(13)上。
7.根据权利要求1所述的一种纳米压印衬底固化装置，其特征在于：所述的分光装置(6)从下至上依次包括固定罩(6-1)、反光锥筒(6-2)、分光棱柱(6-3)。
8.根据权利要求7所述的一种纳米压印衬底固化装置，其特征在于：所述的分光棱柱(6-3)由外至内依次为外棱柱(6-3-1)、内棱柱(6-3-2)、出光圆柱(6-3-3)，所述的出光圆柱(6-3-3)的端部设置有球形分光部(6-3-3-1)。
9.根据权利要求8所述的一种纳米压印衬底固化装置，其特征在于：所述的外棱柱(6-3-1)与所述的内棱柱(6-3-2)均为六角棱柱。
10.根据权利要求9所述的一种纳米压印衬底固化装置，其特征在于：所述外棱柱(6-3-1)与所述的内棱柱(6-3-2)的棱角间的夹角为30°。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810046179.2A CN108196425B (zh) | 2018-01-17 | 2018-01-17 | 一种纳米压印衬底固化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201810046179.2A CN108196425B (zh) | 2018-01-17 | 2018-01-17 | 一种纳米压印衬底固化装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN108196425A true CN108196425A (zh) | 2018-06-22 |
| CN108196425B CN108196425B (zh) | 2020-05-19 |
Family
ID=62589996
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201810046179.2A Expired - Fee Related CN108196425B (zh) | 2018-01-17 | 2018-01-17 | 一种纳米压印衬底固化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN108196425B (zh) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN202003077U (zh) * | 2010-06-13 | 2011-10-05 | 南京德朔实业有限公司 | 棱柱透镜 |
| CN102540707A (zh) * | 2004-12-23 | 2012-07-04 | Asml荷兰有限公司 | 压印光刻 |
| CN104854511A (zh) * | 2013-02-07 | 2015-08-19 | Asml控股股份有限公司 | 光刻设备和方法 |
| CN204953276U (zh) * | 2015-08-26 | 2016-01-13 | 安徽锋德兴泰电子科技有限公司 | 一种uv固化炉 |
| CN105739247A (zh) * | 2016-02-25 | 2016-07-06 | 中国科学技术大学 | 一种纳米压印设备 |
-
2018
- 2018-01-17 CN CN201810046179.2A patent/CN108196425B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102540707A (zh) * | 2004-12-23 | 2012-07-04 | Asml荷兰有限公司 | 压印光刻 |
| CN202003077U (zh) * | 2010-06-13 | 2011-10-05 | 南京德朔实业有限公司 | 棱柱透镜 |
| CN104854511A (zh) * | 2013-02-07 | 2015-08-19 | Asml控股股份有限公司 | 光刻设备和方法 |
| CN204953276U (zh) * | 2015-08-26 | 2016-01-13 | 安徽锋德兴泰电子科技有限公司 | 一种uv固化炉 |
| CN105739247A (zh) * | 2016-02-25 | 2016-07-06 | 中国科学技术大学 | 一种纳米压印设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN108196425B (zh) | 2020-05-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7997890B2 (en) | Device and method for lithography | |
| Zhang et al. | Fabrication of hierarchical pillar arrays from thermoplastic and photosensitive SU‐8 | |
| CN101097400B (zh) | 软模具及其制造方法 | |
| US8562891B2 (en) | Process and apparatus for ultraviolet nano-imprint lithography | |
| CN1890604B (zh) | 大面积光刻的装置和方法 | |
| CN1916759B (zh) | 包括环烯烃共聚物的压印印模 | |
| CN102574327B (zh) | 压印用模具及其制造方法、压印装置和压印方法 | |
| CN101918896B (zh) | 用于模板的组合物和用所述组合物制备模板的方法 | |
| US20080055581A1 (en) | Devices and methods for pattern generation by ink lithography | |
| BRPI0923282B1 (pt) | método para a produção de materiais padronizados | |
| Xiong et al. | Chalcogenide microlens arrays fabricated using hot embossing with soft PDMS stamps | |
| Wu et al. | A gasbag-roller-assisted UV imprinting technique for fabrication of a microlens array on a PMMA substrate | |
| CN108196425A (zh) | 一种纳米压印衬底固化装置 | |
| Liu et al. | A novel soft-mold roller embossing method for the rapid fabrication of micro-blocks onto glass substrates | |
| CN100594137C (zh) | 图案形成方法和图案形成装置 | |
| TWI576658B (zh) | Copying die and its manufacturing method | |
| KR20090056131A (ko) | 박판형 기판 고정 장치 및 이를 이용한 박판형 기판의 나노패턴 제조 방법 | |
| JP2016051808A (ja) | 微細凹凸パターン付き基板の製造方法及びそれにより得られる微細凹凸パターン付き基板 | |
| JP2014210362A (ja) | オフセット印刷用ブランケットおよびその製造方法 | |
| KR102552116B1 (ko) | Uv 반사경화를 이용한 uv성형 인쇄시트 | |
| JP4858095B2 (ja) | 微小突起物の形成方法 | |
| JP2004157470A (ja) | 光導波路の製造方法 | |
| JP5034465B2 (ja) | 微小突起物の製造方法 | |
| KR20050102011A (ko) | 구조화된 표면을 포함하는 구조물 제조용 마스터 | |
| JP2007307782A (ja) | シート及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20200519 |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |