CN108083846A - 高纯石墨制品高结合力釉质涂层及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种高纯石墨制品釉质涂层及其制备方法,包括以下步骤:将石墨制品表面抛光处理,粗糙度Ra≤1.6um;将抛光后的基材用乙醇清洗,吹干;对吹干后的基材表面做热腐蚀处理,然后使用等离子喷涂Al2O3或者SiO2,控制喷涂厚度大于40um,小于100um;在Al2O3或者SiO2上喷涂釉料,进行高温烧制,形成釉层。本发明的石墨制品的釉质涂层结合力高,表面致密耐磨、硬度高,釉面光滑细腻无开裂,5min内从40℃升至700℃,保温20min,然后降温至40℃,继续在5min内升至700℃,保温20min,如此循环10次,未出现涂层裂纹。
Description
技术领域
本发明涉及石墨制品涂层制备方法,具体是一种高纯石墨制品高结合力釉质涂层的制备方法。
背景技术
高纯石墨具有很好的热传导性,用于烤盘,可以使得食物烤制更均匀,烤制效果更好。石墨不能直接与食物接触,现有石墨烤盘工作面通常喷涂一层特氟龙材料,特氟龙材料属于塑料,优点是涂覆方便,成本低,可以直接与食品接触,有一定的耐温性能。然而涂层很软,不耐磨,清洗不方便。
石墨烤盘对基体材料和涂层的要求是:石墨基体材料要具备高的导热率和热均匀度;涂层与基体的结合要牢固,具有较好的抗热震性能;涂层硬度高、耐磨和可以与食品直接接触;涂层致密光滑,与食物具有不沾性质。
高纯石墨表面涂覆非金属的釉料涂层可以具备以上的特性。高纯石墨与釉料在高温下是不浸润的,意味着釉料无法直接通过传统工艺涂覆。现有工艺中,在制备石墨的过程中掺杂了一定比例的氧化铝材料,改性石墨表面,与釉料或者其它涂层材料具有浸润性。然而,掺杂的同时也会降低石墨材料的性能,例如导热性就会大幅度降低;此外,工艺复杂,必须要根据涂层材料的性能制备特殊的石墨材料,成本高昂;石墨中氧化铝或者其它材料的参入量比例不大,表面残留大量石墨,涂层的强度也不高。
发明内容
为解决上述问题,本发明提供了一种高结合力的石墨釉质涂层的制备方法。
本发明的高纯石墨制品的釉质涂层的制备方法,包括以下步骤:
(1)、将石墨制品表面抛光;
(2)、将抛光后的石墨制品用乙醇清洗,并用压缩空气吹干;
(3)、对吹干的产品进行热腐蚀处理;
(4)、对热腐蚀后的产品表面进行等离子喷涂Al2O3层或者SiO2层;
(5)、对等离子喷涂后的产品表面喷涂釉料,然后在700℃~1300℃的温度下进行烧制,保温30~40min后自然冷却至室温。
与现有技术相比,本发明的优点是:本发明不需要改变石墨材料的性能,表面涂层工艺更加简单方便,制得的涂层的强度牢固、可靠。
附图说明
图1是高纯石墨经过处理得到的高结合力耐磨涂层示意图。
具体实施方式
为了更清楚的说明实施例或现有技术中的技术方案,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述,但本发明的保护范围不限于下述的实施例。
本发明的石墨制品高结合力釉质涂层制备方法,包括以下步骤:
(1)、将石墨制品表面抛光;
(2)、将抛光后的石墨制品用乙醇清洗,并用压缩空气吹干;
(3)、对吹干的产品进行热腐蚀处理;
(4)、对热腐蚀后的产品表面进行等离子喷涂Al2O3或者SiO2;
(5)、对等离子喷头后的产品表面喷涂釉料,然后在700℃~1300℃的温度下进行烧制,保温30min后自然冷却至室温;
所述石墨制品为高纯石墨,杂质含量低于100ppm。高纯石墨相比较普通石墨具有更好的致密度、强度、抗氧化性能、导热性和热均匀度。表1为石墨氧化气氛失重数据比较,具体实验条件为800℃,通流动空气,保温2h。
表1失重比较
分析上面数据,杂质含量不大于100PPM时,石墨的失重趋向于稳定,而低纯度的石墨材料,失重很大,高温下性能不稳定。
所述抛光处理后石墨制品表面粗糙度Ra≤1.6um。
所述热腐蚀处理后凹坑深度最大10um~15um,且形状为小半球形。为了提高过渡层的连接强度,在石墨制品表面引入了小的凹坑,可以采用物理或者化学的方法引入,高温热腐蚀是比较方便的方法。将石墨制品埋入高纯石墨粉中,裸露腐蚀表面,工艺为:流动氢气流量为5~20slqm,氮气为30~50slqm,氩气为30~50slqm,温度为1480℃,处理时间为2~6h。
过渡层Al2O3或者SiO2的纯度大于99.9%,为了保证喷涂效果,原料经过处理,尺寸为40~60um。等离子喷涂工艺参数为:等离子气体氩气流量45~55slpm,等离子气体氢气流量5~10slqm,电流600~680A,功率45~50kW,送粉载气氩气流量4~5slpm,送粉速率25~35g/min,喷涂距离100~120mm,喷涂厚度为40um~100um。过渡层连接高纯石墨基体和表面的釉质层,过渡层必须要与液态釉料浸润,由于氧化铝和氧化硅是釉料的主相,高温时都与釉料浸润、融合,可以与釉质层形成很高的结合强度。其中,氧化铝是过渡层的最佳选择。根据表2,在反复的热冲击下,氧化铝与石墨的结合最稳定,原因是氧化铝的热膨胀系数与高纯石墨更接近,而二氧化硅膨胀系数约为石墨的5~10倍。
表2的条件是:石墨基体杂质含量不大于30PPM,氧化铝和二氧化硅涂层厚度为50um,釉质层厚度为0.15mm。
热冲击实验条件:在空气环境中,3min内从40℃升至700℃,保温20min,然后降温至40℃,继续3min内升至700℃,保温20min,如此循环。
表2不同涂层结构热冲击实验结果
等离子喷涂可以在相对较低的成本下获得性能优异的涂层,涂层致密度可以达到95%以上,等离子喷涂的厚度是很重要的一个参数。太薄无法完全覆盖石墨表面,太厚容易产生缺陷,降低表面涂层的热震性能。通过实验,当热喷涂厚度大于l00um时,无论是氧化铝还是二氧化硅作为过渡层,10次热震实验都出现了失效(表3)
表3的实验条件是:石墨基体杂质含量不大于30PPM,釉质层厚度为0.15mm,过渡层厚度不同。700℃热震实验次数为10次。
表3不同厚度热喷涂涂层热震实验结果
本发明所述釉层由以下材料按照重量百分比配制:
40%~70%的SiO2;15%~36%的Al2O3;0%~4%的ZrO2;0%~15%的CaO;0%~2.5%的Fe2O3;0%~2%的TiO2;0%~2%的MgO;0%~10%的NaO2;0%~10%的KO2。配制好的材料经过机械混匀,置于旋转窑内进行熔块炼制,在1300~1500℃下充分熔融后保温2h,之后将熔融体迅速进行水淬,然后加入一定量球和水在球磨机中磨成釉浆,釉浆过250目筛然后烘干;在烘干的釉料粉中加入其质量比例为55%~65%的水进行搅拌,控制釉浆容重在1.5g/cm3-1.9g/cm3,再进行喷枪喷涂。
在700℃~1300℃下进行烧结,保温30min后自然冷却至室温制成所述釉层。
实施例
石墨制品高结合力耐磨涂层制备方法,该方法包括以下步骤:
(1)、将高纯石墨基材表面抛光,包括表面粗抛,然后抛光,处理后算术表面粗糙度Ra平均值为1.4um。
(2)、将抛光后的石墨基材用乙醇清洗5min,再用压缩空气吹干干;
(3)、对吹干的石墨基材工作表面进行热腐蚀处理,控制处理后凹坑形状为小半球,深度最大10um~15um。
(4)、对热腐蚀后的产品表面进行等离子喷涂Al2O3;Al2O3颗粒大小为50um~60um,等离子喷涂Al2O3工艺为:等离子气体氩气流量48slpm,等离子气体氢气流量6slqm,电流640A,功率48kW,送粉载气氩气流量4.5slpm,送粉速率30g/min,喷涂距离大约110mm,喷涂厚度为50um。
(5)、对等离子喷头后的产品表面喷涂釉质层,釉料组成为:68.2%SiO2,17.4%Al2O3,5.9%K2O,7.9%CaO和0.6%MgO。在1250℃的温度下进行烧结,保温30min后自然冷却至室温制成。
(6)、对制得的产品进行热震测试,在空气环境中,3min内从40℃升至700℃,保温20min,然后降温至40℃,继续在3min内升至700℃,保温20min,如此循环10次,未出现涂层裂纹。
Claims (10)
1.高纯石墨制品釉质涂层,包括中间过渡层和表面层,其特征在于,中间过渡层为Al2O3层或SiO2层;表面层为釉层。
2.如权利要求1所述的涂层,其特征在于,中间过渡层厚度为0.04~0.1mm,表面层厚度为0.3-0.9mm。
3.高纯石墨制品釉质涂层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)、将石墨制品表面抛光、清洗、干燥;
(2)、再进行热腐蚀处理;
(3)、对热腐蚀处理后的制品表面进行等离子喷涂Al2O3层或SiO2层;
(4)、最后再于制品表面喷涂釉料,然后在700℃~1300℃下进行烧制,保温30~40min后自然冷却至室温。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,抛光后的石墨制品表面粗糙度Ra≤1.6um。
5.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述的清洗采用乙醇,所述的干燥采用压缩空气吹干。
6.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,石墨制品为杂质含量少于100ppm的高纯石墨。
7.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,热腐蚀处理后的石墨制品产生的凹坑最大深度为10um~15um。
8.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,Al2O3层或SiO2层中的颗粒大小均为50um~60um,纯度不小于99.9%,Al2O3层或SiO2层的厚度为40um~100um。
9.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中,等离子喷涂工艺参数如下:等离子气体氩气流量45~55slpm,等离子气体氢气流量5~10slqm,电流600~680A,功率45~50kW,送粉载气氩气流量4~5slpm,送粉速率25~35g/min,喷涂距离100~120mm,喷涂厚度为40um~100um。
10.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,步骤(4)中,釉料按质量百分比计,包括以下组分:
40%~70%的SiO2
15%~36%的Al2O3
0%~4%的ZrO2
0%~15%的CaO
0%~2.5%的Fe2O3
0%~2%的TiO2
0%~2%的MgO
0%~10%的Na2O
0%~10%的K2O。
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