CN108064316A - 蒸镀机对位系统及蒸镀机对位系统选取方法 - Google Patents

蒸镀机对位系统及蒸镀机对位系统选取方法 Download PDF

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Abstract

一种蒸镀机对位系统(100)及蒸镀机对位系统选取方法。通过蒸镀机对位系统(100)及蒸镀机对位系统选取方法，可以在蒸镀过程中更为精准的控制基板(10)的对位操作，使得所述基板(10)与掩模板(20)更为精准的对位，进一步还可提高包含所述基板(10)的OLED面板的品质。

Description

蒸镀机对位系统及蒸镀机对位系统选取方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种蒸镀机对位系统及蒸镀机对位系统选取方法。
背景技术
有机电致发光技术(Organic Light Emitting Diode,OLED)中，需要将基板与掩模板进行对位，以将电致发光材料蒸镀到基板上的确定位置，实现OLED显示屏有较好的电致发光效果。但是，柔性有机电致发光显示器中柔性基板的光线透过率较低，且对不同波长的光线的透过率有较大的差异，导致在将该柔性基板与掩膜板对位时容易出现对位偏差。
发明内容
本发明提供一种蒸镀机对位系统及蒸镀机对位系统选取方法，用以使基板与掩模板之间实现较好的对位效果。
提供一种蒸镀机对位系统，用于将一基板与一掩膜板进行对位。所述蒸镀机对位系统包括掩膜板、机台、光源、CCD摄像系统及移动控制系统；所述掩模板承载并固定于所述机台上，所述基板支撑于所述掩模板上，所述光源与所述CCD摄像系统位于所述基板远离所述掩膜板的一侧，所述CCD摄像系统用于获取所述基板与所述掩膜板的位置信息，所述移动控制系统用于根据所述控制信息带动所述基板移动以与所述掩膜板进行对位，所述光源发出光线的最大波长与所述CCD摄像系统的最大吸收波波长中至少其一不低于所述基板的最大透光波长。
其中，所述光源发出光线的最大波长与所述CCD摄像系统的最大吸收波波长均不低于所述基板的最大透光波长。
其中，所述基板包括第一对位标记，所述掩膜板包括第二对位标记，所述CCD摄像系统通过获取所述第一对位标记与所述第二对位标记的位置来确定所述基板与所述掩膜板的位置信息。
其中，所述掩模板靠近所述光源的一侧设置有定位板，所述定位板上设有所述第二对位标记。
其中，所述CCD摄像系统包括CCD摄像机与处理单元，所述CCD摄像机用于摄取所述第一对位标记与第二对位标记的位置信息，所述处理单元用于分析所述第一对位标记与第二对位标记的位置的差别。
其中，所述移动控制系统包括移动部及控制单元，所述移动部用于承接并固定所述基板，所述处理单元将所述第一对位标记与第二对位标记的位置的差别发送至所述控制单元，所述控制单元通过所述差别控制所述移动部移动以实现所述基板与所述掩膜板的对位。
其中，所述基板为柔性基板。
其中，所述基板进行对位时，所述基板上还层叠有透明刚性基板。
本发明还提供一种蒸镀机对位系统选取方法，用于选取适合蒸镀一基板的蒸镀机，所述蒸镀机对位系统选取方法包括如下步骤：
测试所述基板进行光线透过率；
获取所述基板光线透过率最高时的最大透过波长；以及
根据所述得到的基板的最大透光波长选择包含能够发出的光线中最大波长不低于所述基板的最大透光波长的光源以及最大吸收波波长不低于所述基板的最大透光波长的光源的CCD摄像系统的蒸镀机对位系统。
其中，通过一透过率检测仪获取所述基板的透过率曲线图。
本发明提供的所述基板对位方法，通过对所述基板的最高透过率的波长进行分析，并根据所述基板的最高透过率的波长选择与所述与之相对应的光源及CCD摄像系统，从而尽量准确的获取所述对位标记的图像及位置信息，使所述基板与所述掩模板之间实现良好的对位效果，同时，可以降低对于基板透过率的要求。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明的蒸镀机对位系统的结构示意图；
图2是本发明的蒸镀机对位系统选取方法的流程图；
具体实施方式
下面将结合本发明实施方式中的附图，对本发明实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述。
请参阅图1，本发明所述蒸镀机对位系统100，包括基板10、掩模板20、CCD摄像系统30、移动控制系统40、光源(图中未示出)及机台(图中未示出)。所述CCD摄像系统30包括CCD摄像机31及与所述CCD摄像机31相连的处理单元32。所述移动控制系统40包括移动部41及与所述移动部41相连的控制单元42。所述控制单元42与所述CCD摄像系统30电连接。所述CCD摄像系统30及所述光源均位于所述基板10上方。所述掩模板20承载并固定于所述机台上。所述基板10支撑于所述掩模板20上。所述移动部41可带动所述基板10移动与所述掩模板20进行对位。可以理解的是，在其他实施例中，也可以通过固定所述基板10，移动或旋转所述掩模板20，以实现所述基板10与所述掩模板20的对位。
所述基板10为需要进行电致发光材料蒸镀的基板。本发明中，所述基板10为柔性基板，如PET基板、COP基板等。所述柔性基板对光线的透过性较普通透明刚性基板(如玻璃基板)较低，且对于不同波长的光线的透过率不同。所述基板10上设有多个第一对位标记11。本实施例中，所述第一对位标记10为一小块具有规则形状的金属膜层，能够对照射到所述第一对位标记10上的光线进行反射。在本实施例中，所述基板10上设有四个所述第一对标位11，所述四个第一对标位11分别位于所述基板10的四个角上。所述四个所述第一对标位11的连线的对称中心与所述基板10的对称中心重合。所述第一对位标记11具有规则形状。具体地，所述第一对位标记11是具有一个对称中心的形状，如圆形、方形、三角形等。所述基板10包括有效区及无效区，所述无效区为不需要进行蒸镀的位置，所述第一对位标记11位于所述无效区内，使对位操作对蒸镀操作不产生影响。当所述基板10进行对位时，在所述基板10上还层叠有一透明刚性基板12，用在于保证柔性的所述基板10能够保持平整，从而防止所述基板10不平整所导致的对位偏差或蒸镀位置偏差等问题出现，并且使所述基板10可方便地被固定及移动等操作，实现更好的对位。
所述掩模板20上层叠有定位板21。定位成功时，所述定位板21与所述基板10相贴合。所述定位板21上设有多个第二对位标记23，所述第二对位标记23为具有规则形状的开孔。所述第二对位标记23的开孔大小略大于所述第一对位标记11的大小。所述掩模板21上与所述第二对位标记23相对的位置开设有开口24，且所述开口24略大于所述第二对位标记23的开孔大小。由于所述第二定位标23的开孔的精度较所述掩模板21上的所述开口24的精度高，因此，在所述掩模板21上设置所述定位板22，能够提高定位的精确程度。
所述第二对位标记23的开孔的形状、数量与所述第一对位标记11的形状相同，为圆形、方形、三角形等规则的形状，且具有一个对称中心。所述第一对位标记11设于所述基板10上面向所述掩模板20的一侧，且所述第二对位标记23的开孔的大小略大于所述第一对位标记11的大小。当所述基板10与所述掩模板20对位成功时，所述基板10上的多个所述第一对位标记11与所述对位板21的多个所述第二对位标记23一一对应，且所述第一对位标记11与所述第二对位标记23的对称中心重合或所述第一对位标记11及所述第二对位标记23的边缘均能够被CCD摄像系统清晰识别，而没有重叠覆盖的部分。
所述CCD摄像系统30包括CCD摄像机31及与所述CCD摄像机31相连的处理单元32。所述CCD摄像机31位于所述掩膜板20的正上方。所述CCD摄像机31通过拍摄的方式获取所述第一对位标记11及所述第二对位标记23的图像信息，并将所述第一对位标记11的位置信息与所述第二对位标记23的图像信息转化为数据信息发送至所述处理单元32。本实施例中，所述第一对位标记11及所述第二对位标记23的图像信息的获取机理为：在所述基板10远离所述掩膜板20的一侧通过一光源(图中未示出)照射所述基板10，所述光源发出的光线穿过所述基板10并照射到所述第一对位标记11及所述层叠于掩模板20上的所述对位板21上。由于所述第一对位标记11为金属膜层，因此能够部分反射所述光线；而所述第二对位标记23为开孔，且其大小大于所述第一对位标记11，因此，所述第二对位标记23的光线会穿过所述开孔，从而不会进行光线反射；而照射到所述掩对位板21上除所述第二对位标记23外其它位置的光线会受到所述对位板21的漫反射作用。最终，所述第一对位标记11、所述第二对位标记23及除所述第二对位标记23外的所述对位板21的其它位置反射回去的光线再次穿过所述基板10，并被所述CCD摄像机31所接收。通过光线照射位置不同而反射得到的不同光强，得到所述第一对位标记11及所述第二对位标记23的图像信息。所述处理单元32接收所述数据信息并分析得到所述第一对位标记11的对称中心的位置信息及所述第二对位标记23的对称中心的位置信息，计算所述第一对位标记11的对称中心及所述第二对位标记23的对称中心在横向(X)、纵向(Y)及旋转角度(θ)的差别，并将其发送给所述移动控制系统40。
所述移动控制系统40包括移动部41及与所述移动部41相连的控制单元42。所述移动部41可包括承接臂(图中未示出)及与所述承接臂电连接并驱动所述承接臂进行移动或旋转操作的驱动电机(图中未示出)。所述承接臂用于承接并固定所述基板10，所述驱动电机用于驱动所述承接臂并移动所述基板10以实现所述基板10与所述掩模板20的对位。所述控制单元42与所述CCD摄像系统30的所述处理单元32进行电连接，从而实现所述控制单元42电连接所述CCD摄像系统30。
进行对位操作时，所述移动部41的所述承接臂承接并固定住传输装置传输来的所述基板10，此时所述基板10与所述对位板21有一定距离。通过所述CCD摄像机31对所述基板10上的所述第一对位标记11及所述对位板21上的第二对位标记23进行图像采集，并将所得到的信息发送至所述处理单元32。所述处理单元32将得到的所述信息进行处理并发送至所述控制单元42。所述控制单元42接收所述处理单元32分析计算所得的所述第一对位标记11的对称中心及所述所述第二对位标记23的对称中心在横向(X)、纵向(Y)及旋转角度(θ)的差别的数据信息，并根据所述数据信息控制所述移动部41的所述电动机驱动所述承接臂在横向(X)、纵向(Y)及旋转角度(θ)上进行平移或旋转操作，从而使固定于所述移动部41的所述承接臂上的所述基板10与固定在位于所述移动部41下方的所述固定机台上的所述掩模框组件20进行成功对位，对位成功后控制所述承接臂放下所述基板10，使所述基板10与所述对位板21贴合，即可进行下一步蒸镀操作。
本发明实施例中，所述光源为LED灯，所述LED灯位于所述移动部41的上方，用于为所述蒸镀机对位系统100进行补光，从而使反射并被所述CCD摄像机31接收得到的光强更强，从而获得更为准确的所述第一对位标记11及所述第二对位标记23的位置信息，从而实现所述基板10及所述掩模板20更精准的对位。
进一步的，所述光源发出光线的最大波长与所述CCD摄像系统30的最大吸收波波长均不低于所述基板10的最大透光波长。通过上述方式，所述光源发出光线的最大波长不低于所述基板10的最大透光波长，可以使所述光源发出的光线尽可能多地透过所述基板10，同时使反射回去的光线能够尽可能多的穿过所述基板10而被所述CCD摄像系统30接收。并且，所述CCD摄像系统30的最大吸收波波长不低于所述基板10的最大透光波长，可以使所述CCD摄像系统30尽可能多的吸收光线，从而使所述CCD摄像系统30获得的所述图像信息尽可能的精确。可以理解的是，当所述光源发出光线的最大波长或所述CCD摄像系统30的最大吸收波波长低于所述基板10的最大透光波长时，尽可能选择与所述基板10的最大透光波长接近的光源与CCD摄像系统30，以实现尽可能的精确的图像信息。
本发明中，所述光源发出光线的最大波长及所述CCD摄像系统30的最大吸收波波长均高于所述基板10的最大透光波长，使得所述CCD摄像系统30获取得到的所述基板10上的所述第一对位标记11与所述掩模板20上的所述第二对位标记23的图像及位置信息更为明显，从而可以更为精准的控制所述基板10的对位操作，使得所述基板10与所述掩模板21更为精准的对位，进而提高了包含所述基板10的OLED面板的品质。
本发明还提供一种获得具有精准对位效果的所述的蒸镀机对位系统100的方法。请参阅图2，所述基板对位方法包括如下步骤：
步骤S1，对所述基板10进行光线透过率的测试，获取所述基板10的透过率曲线图。所述透过率曲线可通过一透过率检测仪获取。具体实现方式为，将所述基板10放入所述透过率检测仪中，通过向所述基板10一侧照射不同波长的光线，由于所述基板10对于不同波长的光线的透过率不同，在所述基板10的另一侧测得的透过所述基板的光线的光强不同，如此可得到所述基板10对于不同波长的光线的透过率。通过不同波长的光线对应的光线透过率拟合得出所述基板10的透过率曲线图。
步骤S2，分析所述透过率曲线图，得出所述透过率曲线图中所述基板10透过率最高时光线的透光波长。通过分析得到的所述透过率曲线图，判断得出所述透过率曲线中的透过率达到峰值是对应的波长，即为所述基板10的最大透光波长。
步骤S3，根据所述得到的基板10的最大透光波长，选择能够发出的光线中最大波长不低于所述基板10的最大透光波长的光源，以及选择最大吸收波波长不低于所述基板10的最大透光波长的光源的CCD摄像系统。可以理解的是，当不存在能够发出的光线中最大波长不低于所述基板10的最大透光波长的光源时，尽可能选择能够发出的光线中最大波长与所述基板10的最大透光波长接近的光源，当不存在最大吸收波波长不低于所述基板10的最大透光波长的光源的CCD摄像系统时，尽可能选择最大吸收波波长与所述基板10的最大透光波长接近的CCD摄像系统。包含能够发出的光线中最大波长不低于所述基板10的最大透光波长的光源及最大吸收波波长不低于所述基板10的最大透光波长的光源的CCD摄像系统的蒸镀机对位系统即为本发明中具有良好对位效果的蒸镀机对位系统100。
综上所述，本发明中通过先对需要进行对位的所述基板10的透过率进行分析，获得所述基板10的最大透过率的波长。并根据所述最大透过率的波长选择相应的所述光源及所述CCD摄像系统30，从而实现所述基板10与所述掩模板20的精准定位。当所述基板10为柔性基板时，减小所述基板10光线透过率降低对基板定位带来的影响，并且可以降低对需要进行对位的所述基板10的透过率的要求。
以上所述是本发明的优选实施例，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种蒸镀机对位系统，用于将一基板与一掩膜板进行对位，其特征在于，所述蒸镀机对位系统包括掩膜板、机台、光源、CCD摄像系统及移动控制系统；所述掩模板承载并固定于所述机台上，所述基板支撑于所述掩模板上，所述光源与所述CCD摄像系统位于所述基板远离所述掩膜板的一侧，所述CCD摄像系统用于获取所述基板与所述掩膜板的位置信息，所述移动控制系统用于根据所述控制信息带动所述基板移动以与所述掩膜板进行对位，所述光源发出光线的最大波长与所述CCD摄像系统的最大吸收波波长中至少其一不低于所述基板的最大透光波长。
2.如权利要求1所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，所述光源发出光线的最大波长与所述CCD摄像系统的最大吸收波波长均不低于所述基板的最大透光波长。
3.如权利要求1所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，所述基板包括第一对位标记，所述掩膜板包括第二对位标记，所述CCD摄像系统通过获取所述第一对位标记与所述第二对位标记的位置来确定所述基板与所述掩膜板的位置信息。
4.如权利要求3所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，所述掩模板靠近所述光源的一侧设置有定位板，所述定位板上设有所述第二对位标记。
5.如权利要求3所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，所述CCD摄像系统包括CCD摄像机与处理单元，所述CCD摄像机用于摄取所述第一对位标记与第二对位标记的位置信息，所述处理单元用于分析所述第一对位标记与第二对位标记的位置的差别。
6.如权利要求5所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，所述移动控制系统包括移动部及控制单元，所述移动部用于承接并固定所述基板，所述处理单元将所述第一对位标记与第二对位标记的位置的差别发送至所述控制单元，所述控制单元通过所述差别控制所述移动部移动以实现所述基板与所述掩膜板的对位。
7.如权利要求1所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，所述基板为柔性基板。
8.如权利要求7所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，所述基板进行对位时，所述基板上还层叠有透明刚性基板。
9.一种蒸镀机对位系统选取方法，用于选取适合蒸镀一基板的蒸镀机，其特征在于，所述蒸镀机对位系统选取方法包括：
测试所述基板进行光线透过率；
获取所述基板光线透过率最高时的最大透过波长；以及
根据所述得到的基板的最大透光波长选择包含能够发出的光线中最大波长不低于所述基板的最大透光波长的光源以及最大吸收波波长不低于所述基板的最大透光波长的光源的CCD摄像系统的蒸镀机对位系统。
10.如权利要求9所述的蒸镀机对位系统选取方法，其特征在于，测试所述基板进行光线透过率的方法包括：
通过一透过率检测仪获取所述基板的透过率曲线图。
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