CN108017646A - 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及其应用 - Google Patents

一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及其应用 Download PDF

Info

Publication number
CN108017646A
CN108017646A CN201610967419.3A CN201610967419A CN108017646A CN 108017646 A CN108017646 A CN 108017646A CN 201610967419 A CN201610967419 A CN 201610967419A CN 108017646 A CN108017646 A CN 108017646A
Authority
CN
China
Prior art keywords
compound
layer
derivative
boric acid
organic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201610967419.3A
Other languages
English (en)
Inventor
范洪涛
赵艳强
张伟
邵爽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beijing Eternal Material Technology Co Ltd
Guan Eternal Material Technology Co Ltd
Original Assignee
Beijing Eternal Material Technology Co Ltd
Guan Eternal Material Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing Eternal Material Technology Co Ltd, Guan Eternal Material Technology Co Ltd filed Critical Beijing Eternal Material Technology Co Ltd
Priority to CN201610967419.3A priority Critical patent/CN108017646A/zh
Publication of CN108017646A publication Critical patent/CN108017646A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D487/00Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00
    • C07D487/12Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, not provided for by groups C07D451/00 - C07D477/00 in which the condensed system contains three hetero rings
    • C07D487/16Peri-condensed systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D519/00Heterocyclic compounds containing more than one system of two or more relevant hetero rings condensed among themselves or condensed with a common carbocyclic ring system not provided for in groups C07D453/00 or C07D455/00
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F5/00Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
    • C07F5/02Boron compounds
    • C07F5/027Organoboranes and organoborohydrides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/06Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing organic luminescent materials
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/10OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/11OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/10OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/14Carrier transporting layers
    • H10K50/16Electron transporting layers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/60Organic compounds having low molecular weight
    • H10K85/631Amine compounds having at least two aryl rest on at least one amine-nitrogen atom, e.g. triphenylamine
    • H10K85/636Amine compounds having at least two aryl rest on at least one amine-nitrogen atom, e.g. triphenylamine comprising heteroaromatic hydrocarbons as substituents on the nitrogen atom
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/60Organic compounds having low molecular weight
    • H10K85/649Aromatic compounds comprising a hetero atom
    • H10K85/654Aromatic compounds comprising a hetero atom comprising only nitrogen as heteroatom
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/60Organic compounds having low molecular weight
    • H10K85/649Aromatic compounds comprising a hetero atom
    • H10K85/656Aromatic compounds comprising a hetero atom comprising two or more different heteroatoms per ring
    • H10K85/6565Oxadiazole compounds
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/60Organic compounds having low molecular weight
    • H10K85/649Aromatic compounds comprising a hetero atom
    • H10K85/657Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/60Organic compounds having low molecular weight
    • H10K85/649Aromatic compounds comprising a hetero atom
    • H10K85/657Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons
    • H10K85/6572Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons comprising only nitrogen in the heteroaromatic polycondensed ring system, e.g. phenanthroline or carbazole
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/60Organic compounds having low molecular weight
    • H10K85/649Aromatic compounds comprising a hetero atom
    • H10K85/657Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons
    • H10K85/6574Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons comprising only oxygen in the heteroaromatic polycondensed ring system, e.g. cumarine dyes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/60Organic compounds having low molecular weight
    • H10K85/649Aromatic compounds comprising a hetero atom
    • H10K85/657Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons
    • H10K85/6576Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons comprising only sulfur in the heteroaromatic polycondensed ring system, e.g. benzothiophene
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2211/00Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
    • C09K2211/10Non-macromolecular compounds
    • C09K2211/1018Heterocyclic compounds
    • C09K2211/1025Heterocyclic compounds characterised by ligands
    • C09K2211/1029Heterocyclic compounds characterised by ligands containing one nitrogen atom as the heteroatom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2211/00Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
    • C09K2211/10Non-macromolecular compounds
    • C09K2211/1018Heterocyclic compounds
    • C09K2211/1025Heterocyclic compounds characterised by ligands
    • C09K2211/1029Heterocyclic compounds characterised by ligands containing one nitrogen atom as the heteroatom
    • C09K2211/1033Heterocyclic compounds characterised by ligands containing one nitrogen atom as the heteroatom with oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2211/00Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
    • C09K2211/10Non-macromolecular compounds
    • C09K2211/1018Heterocyclic compounds
    • C09K2211/1025Heterocyclic compounds characterised by ligands
    • C09K2211/1029Heterocyclic compounds characterised by ligands containing one nitrogen atom as the heteroatom
    • C09K2211/1037Heterocyclic compounds characterised by ligands containing one nitrogen atom as the heteroatom with sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2211/00Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
    • C09K2211/10Non-macromolecular compounds
    • C09K2211/1018Heterocyclic compounds
    • C09K2211/1025Heterocyclic compounds characterised by ligands
    • C09K2211/1044Heterocyclic compounds characterised by ligands containing two nitrogen atoms as heteroatoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2211/00Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
    • C09K2211/10Non-macromolecular compounds
    • C09K2211/1018Heterocyclic compounds
    • C09K2211/1025Heterocyclic compounds characterised by ligands
    • C09K2211/1044Heterocyclic compounds characterised by ligands containing two nitrogen atoms as heteroatoms
    • C09K2211/1048Heterocyclic compounds characterised by ligands containing two nitrogen atoms as heteroatoms with oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2211/00Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
    • C09K2211/10Non-macromolecular compounds
    • C09K2211/1018Heterocyclic compounds
    • C09K2211/1025Heterocyclic compounds characterised by ligands
    • C09K2211/1059Heterocyclic compounds characterised by ligands containing three nitrogen atoms as heteroatoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2211/00Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
    • C09K2211/10Non-macromolecular compounds
    • C09K2211/1018Heterocyclic compounds
    • C09K2211/1025Heterocyclic compounds characterised by ligands
    • C09K2211/1088Heterocyclic compounds characterised by ligands containing oxygen as the only heteroatom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2211/00Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
    • C09K2211/10Non-macromolecular compounds
    • C09K2211/1018Heterocyclic compounds
    • C09K2211/1025Heterocyclic compounds characterised by ligands
    • C09K2211/1092Heterocyclic compounds characterised by ligands containing sulfur as the only heteroatom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2211/00Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
    • C09K2211/10Non-macromolecular compounds
    • C09K2211/1018Heterocyclic compounds
    • C09K2211/1025Heterocyclic compounds characterised by ligands
    • C09K2211/1096Heterocyclic compounds characterised by ligands containing other heteroatoms

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本发明涉及一种新型有机化合物,尤其涉及一种萘嵌间二氮杂苯衍生物,并进一步公开其用于制备有机电致发光器件的应用。本发明公开的一类萘嵌间二氮杂苯衍生物具有良好的载流子传输性,可在OLED器件中用作电子传输材料和磷光主体材料,器件测试数据显示,利用本发明所述衍生物用作有机电致发光器件中的电子传输材料,由于其具有很好的电子注入性、高迁移率并且具有高三线态能级,因而能够显著降低器件起亮和工作电压,并起到提高器件效率的作用;利用本发明所述衍生物用作有机电致发光器件中的磷光主体材料,由于其具有均衡的空穴和电子传输性能,以及具有合适的带隙有利于显著降低器件的起亮和工作电压并且具有高的三线态能级,有利于将激子能量有效的传递给磷光染料,起到提高器件效率的作用。

Description

一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及其应用
技术领域
本发明涉及一种新型有机化合物,尤其涉及一种萘嵌间二氮杂苯衍生物,并进一步公开其用于制备有机电致发光器件的应用。
背景技术
电致发光现象最早在20世纪三十年代被发现,最初的发光材料为ZnS粉末,并由此发展出了LED技术,现在广泛的应用在了节能光源上。而有机电致发光现象是1963年Pope等人最早发现的,他们发现蒽的单层晶体在100V以上电压的驱动下,可以发出微弱的蓝光。直到1987年柯达公司的邓青云博士等人将有机荧光染料以真空蒸镀方式制成双层器件,在驱动电压小于10V的电压下,外量子效率达到了1%,使得有机电致发光材料及器件具有了实用性的可能,从此大大推动了OLED材料及器件的研究。
有机电致发光显示器(以下简称OLED)具有自主发光、低电压直流驱动、全固化、视角宽、重量轻、组成和工艺简单等一系列的优点,与液晶显示器相比,有机电致发光显示器不需要背光源,视角大,功率低,其响应速度可达液晶显示器的1000倍,其制造成本却低于同等分辨率的液晶显示器,因此,有机电致发光器件具有广阔的应用前景。
随着OLED技术在照明和显示两大领域的不断推进,人们对于其高效有机材料的研究更加关注,一个效率好寿命长的有机电致发光器件通常是器件结构与各种有机材料的优化搭配的结果,而往往材料的作用更加显著,可以说材料的性能是OLED技术的根本。OLED领域中的有机材料主要包括:空穴注入材料、空穴传输材料、空穴阻挡材料、电子注入材料、电子传输材料,电子阻挡材料以及发光主体材料和发光客体(染料)等。
在电致发光器件中传统使用的电子传输材料是Alq3,但Alq3的电子迁移率比较低(大约在10-6cm2/Vs),影响了电致发光器件的电子传输性能。为了获得高性能的电子传输材料,要求材料具有高的电子迁移率,良好的成膜性,高热稳定性,以及合适的HOMO以及LUMO能级以匹配发光层主体材料能级,以实现良好的电子注入以及空穴阻挡功能。LG化学在CN101003508A中报道了一系列芘的衍生物,在电发光器件中用作电子传输和注入材料,提高了器件的发光效率。曹镛等人合成出FFF-Blm4(J.Am.Chem.Soc.;(Communication);2008;130(11);3282-3283)作为电子传输和注入层材料(与Ba/Al和单独用Al作为阴极相比较),大大地改善了器件的电子注入和传输,提高了电发光效率。柯达公司在美国专利(公开号US 2006/0204784和US 2007/0048545)中,提到混合电子传输层,采用一种低LUMO能级的材料与另一种低起亮电压的电子传输材料和其他材料如金属材料等掺杂而成。基于这种混合电子传输层的器件,使器件效率得以提高,但增加了器件制造工艺的复杂性,不利于降低OLED成本。
目前商业化红、绿光材料一般采用含重金属的磷光材料,为了充分的发挥磷光染料的高效率,作为磷光主体材料,需要具有高于相应磷光发光材料的三线态能级,以保证充分的能量转移给发光材料实现高的发光效率,同时需要与相邻电子及空穴传输层材料相匹配的能级以方便载流子的注入,同时还要有相对平衡的载流子传输能力。常用的磷光主体材料CBP(特开
2001-313178号公报),其具有良好的空穴传输性能,但是在电子传输性能方面却较差,导致载流子传输不均衡。而以TAZ作为主体材料(特开2002-352957号公报)则相反,其具有很好地电子传输能力,可是空穴传输能力较差,同样也不能实现均衡的载流子传输。因此开发具有相对较均衡的电子和空穴传输性能的材料,将会对磷光器件的效率有明显提升。
因此,如何克服现有有机电致发光化合物制成的器件工作电压高且电流密度及电流效率低的缺陷,开发具有均衡的载流子传输性能并避免在高亮度下的效率滚降的磷光主体材料,从而降低器件起亮和工作电压,提高器件效率,延长器件寿命,具有很重要的实际意义。
发明内容
为此,本发明所要解决的技术问题在于提供一种萘嵌间二氮杂苯化合物及其衍生物,并进一步提供了上述衍生物用于有机电致发光显示领域的应用,具体而言,所述衍生物在有机电致发光显示器中,用作磷光主体材料、电子传输材料之用。
为解决上述技术问题,本发明所述的萘嵌间二氮杂苯衍生物,其特征在于,具有如下通式(C)所示的结构:
其中,Ar1、Ar2彼此独立的选自卤素,取代或未取代的C1~C30烷基,取代或未取代的C3~C30环烷基,取代或未取代的C6~C30的芳基氨基或杂芳基氨基,取代或未取代的C6~C30芳基,取代或未取代的C2~C30杂芳基;
L1、L2彼此独立的选自单键,C6~C30的芳基氨基或杂芳基氨基,取代或未取代的C6~C30芳基,取代或未取代的C2~C30杂芳基;
所述杂芳基或所述杂芳基氨基中的杂原子为至少一个选自B、N、O、S、P、P(=O)、Si和Se的杂原子。
上优选的,所述取代或未取代的烷基选自C1-C10的烷基,并更优选自C1-C6的烷基;
所述取代或未取代的环烷基选自C3-C6的环烷基;
所述取代或未取代的芳基氨基或杂芳基氨基包括二芳基氨基、二(杂)芳基氨基、三芳基氨基或三(杂)芳基氨基;
所述取代或未取代的杂环烷基选自具有C3-C10个环骨架原子且包含至少一个所述杂原子的杂环烷基;
所述取代或未取代的芳基选自C6-C20的芳基;
所述取代或未取代的杂芳基选自C2-C20的杂芳基。
更优的,所述C1-C30的烷基包括甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、正己基、正辛基、异丁基或叔丁基;
所述C3-C30的环烷基包括环丙基、环丁基、环戊基和/或环己基;
所述C6-C30的芳基氨基或杂芳基氨基包括二苯氨基、苯基萘基氨基、4-三苯氨基、3-三苯氨基、4-[N-苯基-N-(二苯并呋喃-3-基)]苯基氨基或4-[N-苯基-N-(二苯并噻吩-3-基)]苯基氨基;
所述C2-C30杂环烷基包括四氢呋喃、吡咯烷和/或四氢噻吩;
所述C6-C30的芳基包括苯基、联苯基、三联苯基、萘基、蒽基、菲基、茚基、芴基及其衍生物、荧蒽基、三亚苯基、芘基、苝基、基和并四苯基;并且更优选地,所述联苯基选2-联苯基、3-联苯基和4-联苯基,所述三联苯基包括对-三联苯基-4-基、对-三联苯基-3-基、对-三联苯基-2-基、间-三联苯基-4-基、间-三联苯基-3-基和间-三联苯基-2-基;所述萘基为1-萘基和2-萘基所组成的组中;所述蒽基选自由1-蒽基、2-蒽基和9-蒽基所组成的组中;所述芴基选自由1-芴基、2-芴基、3-芴基、4-芴基和9-芴基所组成的组中;所述芴基衍生物选自由9,9’-二甲基芴,9,9’-螺二芴和苯并芴所组成的组中;
所述C2-C30的杂芳基包括噻唑、苯并噻唑、菲并咪唑、菲并苯并噻吩苯并咪唑、恶唑、恶二唑、三唑、吡啶、嘧啶、三嗪、恶硼杂环、喹啉、异喹啉、喹喔啉、喹唑啉、苯并恶唑、菲并恶唑、菲并噻唑、联吡啶、菲啶、菲罗啉、咪唑并吡啶、咪唑并嘧啶、吩恶嗪、吩噻嗪、二甲基二氢吖啶、1,2,5,10-四氢二苯并硼杂苯、10,10-二甲基-5,10-四氢二苯并硼杂苯、4-联苯酰基、呋喃基、噻吩基、吡咯基、苯并呋喃基、苯并噻吩基、异苯并呋喃基、吲哚基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、咔唑基及其衍生物、苯并间二氧杂环戊烯基;且所述咔唑基衍生物可以包括但不限于9-苯基咔唑、9-萘基咔唑苯并咔唑、二苯并咔唑、吲哚并咔唑、N-苯基吲哚并咔唑、苯并呋喃并咔唑中的至少一种。
最优的,所述衍生物选自如下C1-C105结构:
本发明还公开了所述的萘嵌间二氮杂苯衍生物用于制备有机电致发光器件的应用。
所述萘嵌间二氮杂苯衍生物用作电子传输材料和/或磷光主体材料。
本发明还公开了一种有机电致发光器件,包括基板,以及依次形成在所述基板上的阳极层、有机发光功能层和阴极层;
所述有机发光功能层包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层以及电子传输层;
所述电子传输层的电子传输材料包括至少一种所述的萘嵌间二氮杂苯衍生物材料。
本发明还公开了一种有机电致发光器件,包括基板,以及依次形成在所述基板上的阳极层、有机发光功能层和阴极层;
所述有机发光功能层包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层以及电子传输层;
所述有机发光层的磷光主体材料包括至少一种所述的萘嵌间二氮杂苯衍生物材料。
本发明还公开了一种有机电致发光器件,包括基板,以及依次形成在所述基板上的阳极层、有机发光功能层和阴极层;
所述有机发光功能层包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层以及电子传输层;
所述电子传输层的电子传输材料包括至少一种所述的萘嵌间二氮杂苯衍生物材料;以及,
所述有机发光层的磷光主体材料包括至少一种所述的萘嵌间二氮杂苯衍生物材料。
本发明所述衍生物材料的分子体系基于的含氮环结构,具有高的三线态能级,而且羰基的存在使得分子具有较高的电子亲和力,另外母体结构具有平面性,其共轭性很好,通过高斯量化计算结果显示,母体分子的HOMO能级和LUMO能级的电子云均匀地分布在整个骨架上,因而具有非常优异的载流子传输性(其母体结构的三线态能级约为2.75eV)。并且通过选择具有特定电子性质的基团,能够显著的改善材料的HOMO能级以及LUMO能级,使其具有不同的载流子传输性,从而实现不同的功能层用途,分别可以实现用作电子传输层材料和磷光主体材料的目的(母体分子的HOMO能级以及LUMO能级分子轨道的电子云分布图参见附图1-2)。另外不同结构以及大小的取代基也可以起到调节材料分子的分子量以及对称性,能够进一步的改善材料的载流子传输性以及成膜稳定性。
本发明公开的一类萘嵌间二氮杂苯衍生物,所述化合物良好的载流子传输性,本发明所述衍生物可用作OLED器件中的电子传输材料和磷光主体材料,器件测试数据显示,利用本发明所述衍生物用作有机电致发光器件中的电子传输材料,由于其具有很好的电子注入性、传输性,具有高三线态能级及高迁移率,因而能够显著降低器件起亮和工作电压,并起到提高器件效率的作用。
另外本发明所述具有给电子性取代基的化合物可以用作OLED器件中的磷光主体材料,由于材料本身所具有的均衡而且高的双极性载流子传输性能,能够有效的降低器件在高亮度下的效率滚降,并起到延长器件工作寿命的效果。
附图说明
为了使本发明的内容更容易被清楚的理解,下面根据本发明的具体实施例并结合附图,对本发明作进一步详细的说明,其中
图1为本发明化合物的母体分子的HOMO能级分子轨道的电子云分布图;
图2为本发明化合物的母体分子的LUMO能级分子轨道的电子云分布图。
具体实施方式
下文参照以下实施例详细描述了本发明的有机电致发光化合物及其制备方法以及包含所述化合物的发光器件的制备方法和发光性质。
本发明中所用的各种化学药品如石油醚、乙酸乙酯、正己烷、甲苯、乙酸、二氯甲烷、DMF、4-氯萘-1,8-二胺、4-溴-2-碘硝基苯、叔丁醇钠、三(二亚苄基丙酮)二钯、四三苯基膦钯、三叔丁基膦甲苯溶液、醋酸钯、正丁基锂、亚硝酸异戊酯、锌粉、硫酸钠等可在国内化工产品市场买到。
主要中间体的合成
合成实施例1.中间体M1的合成:
向3升三口瓶中加入4-氯萘-1,8-二胺(60.7g,0.316mol)和500ml二氯甲烷,室温下滴加N,N'-羰基二咪唑(56.4g,0.348mol)和1200ml二氯甲烷的混合溶液。加完后,室温反应2小时后抽滤,用二氯甲烷淋洗滤饼,得到化合物M1(60.8g,87.9%)。
合成实施例2.中间体M2的合成:
将中间体M1(21.8g,0.1mol)、4-溴-2-碘硝基苯(65.6g,0.2mol)、叔丁醇钠(28.5g,0.3mol)、三(二亚苄基丙酮)二钯(0.92g,0.001mol)、10%的三叔丁基膦甲苯溶液(6.06g,0.003mol)和甲苯(368ml)混合,在回流条件下搅拌24小时,反应结束后,冷却至室温,加入500ml纯水,用乙酸乙酯萃取有机层,有机相无水硫酸钠干燥后旋干,然后进行柱分离(洗脱液:二氯甲烷/正己烷),得到化合物M2(45.7g,74.0%)。
合成实施例3.中间体M3的合成:
将中间体M2(61.9g,0.1mol)、580ml乙醇,铁粉(4.3g,1mol),290ml饱和氯化铵水溶液,升温回流反应5h,点板监控反应完成,过滤,用乙酸乙酯淋洗滤饼,滤液分液后,有机相旋干,得到中间体M3(52.0g,收率93.0%)
合成实施例4.中间体M4的合成:
将中间体M3(5.6g,10mmol),溶于16ml乙酸中,加入1g铜粉,搅拌降温至5-10℃,用乙酸(8ml)溶解亚硝酸异戊酯(3.9g,33mmol),缓慢滴加至体系中,滴加完毕后室温搅拌,点板监控至反应完全,分液,有机相用碳酸钠水溶液洗涤一遍,用无水硫酸钠干燥,旋干后进行柱层析(洗脱液:二氯甲烷/石油醚),得到产品中间体M4(3.5g,收率65.9%)。
合成实施例5.化合物C1的合成:
氮气保护下,将中间体M4(4.90g,10mmol)、9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸(7.92g,22mmol)、Pd(PPh3)4(0.23g,0.2mmol)、碳酸钾(6.9g,50mmol)、THF(80mL)和蒸馏水(20mL)混合,然后在回流下搅拌反应2小时。反应完成后,降至室温,抽滤,滤饼依次用水和甲苯淋洗,然后用二甲苯重结晶,烘干后得到中间体M4-1(9.1g,92.1%)。
氮气保护下,将中间体M4-1(9.95g,10mmol)、苯硼酸(1.46g,12mmol)、Pd(PPh3)4(0.12g,0.1mmol)、磷酸钾(10.6g,50mmol)、DMF(100mL),然后在130℃下搅拌反应24小时。反应完成后,降至室温,倒入100ml水中,抽滤,滤饼依次用水和乙醇淋洗,然后用二甲苯重结晶,烘干后得到化合物C1(8.59g,82.8%)。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ8.78(dd,J=7.5,2.0Hz,2H),8.38(dd,J=11.4,1.5Hz,2H),8.29(d,J=7.5Hz,1H),8.22(d,J=7.5Hz,1H),8.15(td,J=7.8,7.1,2.1Hz,2H),8.08(d,J=7.5Hz,1H),8.02(d,J=7.5Hz,1H),7.97–7.88(m,2H),7.88(dd,J=7.2,2.0Hz,2H),7.88–7.72(m,10H),7.75–7.47(m,11H),7.50–7.38(m,7H),7.37–7.29(m,1H),7.15(dd,J=7.5,1.6Hz,1H),6.93(d,J=7.5Hz,1H),6.48(d,J=7.5Hz,1H),5.09(dd,J=7.5,1.5Hz,1H).
元素分析:C,91.48;H,4.28;N,2.70
合成实施例6.化合物C4、C5的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸置换为等当量相应的芳基硼酸。
合成实施例7.化合物C29的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸置换为等当量的(8-(二苯并[b,d]呋喃-2-基)异喹啉-4-基)硼酸,反应完成后,得到化合物C297.18g,收率72.2%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.78(s,1H),9.66(s,1H),9.60(dd,J=7.6,1.5Hz,1H),8.89(dd,J=7.7,2.0Hz,2H),8.78(s,1H),8.63(t,J=7.5Hz,1H),8.50–8.36(m,3H),8.26(dd,J=7.4,1.6Hz,1H),8.20(dd,J=7.4,1.5Hz,1H),8.14(d,J=1.4Hz,1H),8.00(d,J=7.5Hz,1H),7.96–7.75(m,8H),7.58–7.51(m,3H),7.51–7.39(m,5H),7.42–7.29(m,3H),7.23(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),7.16(dd,J=7.5,1.5Hz,2H),6.50(d,J=7.5Hz,1H).
元素分析:C,85.70;H,3.85;N,5.63
合成实施例8.化合物C41、C57的合成:
采用与化合物C29相同的合成方法,不同在于,将(8-(二苯并[b,d]呋喃-2-基)异喹啉-4-基)硼酸置换为等当量相应的芳基硼酸。
合成实施例9.化合物C2的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸置换为等当量的菲并[9,10-d]噻唑-2-基硼酸,将苯硼酸置换为等当量的2-萘硼酸,反应完成后,得到化合物C2 8.00g,收率86.5%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.93(d,J=1.4Hz,1H),9.35(dd,J=7.5,1.4Hz,1H),9.27(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),9.04(dd,J=7.4,1.5Hz,1H),8.92–8.79(m,4H),8.71–8.58(m,3H),8.57–8.51(m,1H),8.40–8.29(m,2H),8.02(dd,J=7.4,5.6Hz,2H),7.93(dd,J=7.4,1.4Hz,1H),7.85(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),7.80–7.64(m,7H),7.61–7.43(m,5H),7.27(dd,J=7.5,1.5Hz,1H).
元素分析:C,81.80;H,3.49;N,6.06;S,6.93
合成实施例10.化合物C8、C26的合成:
采用与化合物C2相同的合成方法,不同在于,将菲并[9,10-d]噻唑-2-基硼酸置换为等当量相应的芳基硼酸。
合成实施例11.化合物C42的合成:
采用与化合物C2相同的合成方法,不同在于,将菲并[9,10-d]噻唑-2-基硼酸置换为等当量的(1,10-菲咯啉-4-基)硼酸,反应完成后,得到化合物C426.27g,收率76.9%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.35(dd,J=7.5,1.4Hz,1H),9.18(d,J=7.5Hz,1H),9.16–9.07(m,3H),9.02(dt,J=7.3,1.6Hz,1H),8.82(d,J=7.5Hz,2H),8.67(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),8.61(d,J=1.5Hz,1H),8.58–8.49(m,3H),8.19(dd,J=7.4,1.4Hz,1H),8.05(dd,J=24.4,7.4Hz,3H),7.87–7.55(m,8H),7.58–7.49(m,1H),7.52–7.42(m,2H),7.25(d,J=7.5Hz,1H),7.14(dd,J=7.4,1.6Hz,1H).
元素分析:C,84.01;H,3.71;N,10.31
合成实施例12.化合物C3的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸置换为等当量的苯并[b]菲并[9,10-d]噻吩-12-基硼酸,将苯硼酸置换为等当量的4-联苯硼酸,反应完成后,得到化合物C3 8.93g,收率85.1%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.85(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),9.34(dd,J=7.3,1.5Hz,1H),9.08(dd,J=7.3,1.5Hz,2H),8.97(d,J=7.6Hz,2H),8.87(ddd,J=16.8,6.5,2.5Hz,2H),8.64(dd,J=7.4,1.5Hz,1H),8.56–8.40(m,6H),8.23(d,J=1.4Hz,1H),8.20–8.11(m,2H),8.05–7.89(m,3H),7.74–7.56(m,12H),7.44(t,J=7.4Hz,2H),7.37–7.29(m,1H),7.13(d,J=7.3Hz,1H),6.62(d,J=7.5Hz,1H).
元素分析:C,85.85;H,3.84;N,2.67;S,6.11
合成实施例13.化合物C28、C45的合成:
采用与化合物C3相同的合成方法,不同在于,将苯并[b]菲并[9,10-d]噻吩-12-基硼酸置换为等当量相应的芳基硼酸。
合成实施例14.化合物C20的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸置换为等当量的(6-(10H-吩噻嗪-10-基)萘-2-基)硼酸,将苯硼酸置换为等当量的4-甲基苯硼酸,反应完成后,得到化合物C20 8.54g,收率79.9%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.43(d,J=7.5Hz,1H),8.71(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),8.55(td,J=7.5,2.0Hz,1H),8.45(td,J=7.5,2.0Hz,1H),8.33(dd,J=7.5,1.4Hz,1H),8.22(dd,J=6.4,1.6Hz,2H),8.16–8.02(m,6H),7.88(d,J=1.4Hz,1H),7.86–7.78(m,2H),7.75(dt,J=7.5,2.2Hz,2H),7.75–7.60(m,3H),7.51(ddd,J=7.5,4.5,1.5Hz,3H),7.34(dd,J=7.5,1.3Hz,1H),7.30–7.18(m,4H),7.22–7.14(m,2H),7.01(d,J=1.4Hz,1H),6.89(d,J=1.5Hz,1H),6.78(dd,J=7.5,1.7Hz,1H),6.59(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),2.33(d,J=1.6Hz,2H).
元素分析:C,83.12;H,4.15;N,5.24;S,6.00
合成实施例13.化合物C22的合成:
采用与化合物C20相同的合成方法,不同在于,将(6-(10H-吩噻嗪-10-基)萘-2-基)硼酸置换为等当量相应的芳基硼酸。
合成实施例14.化合物C6的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸置换为等当量的(9-苯基-9H-咔唑-3-基)硼酸,将苯硼酸置换为等当量的菲并[9,10-d]噻唑-2-基硼酸,反应完成后,得到化合物C6 7.19g,收率68.6%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.33(dd,J=7.5,1.4Hz,1H),9.21(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),8.60(dd,J=7.5,2.0Hz,2H),8.53(s,1H),8.56–8.45(m,2H),8.45–8.35(m,3H),8.30(d,J=1.4Hz,1H),8.20(dd,J=7.3,1.6Hz,1H),8.12–7.97(m,4H),7.92(dd,J=7.4,1.6Hz,1H),7.87–7.80(m,3H),7.68(td,J=7.5,1.6Hz,2H),7.60(s,3H),7.64–7.53(m,3H),7.43(dd,J=8.2,6.7Hz,2H),7.35–7.22(m,6H),7.15(d,J=7.5Hz,1H),7.01(dd,J=7.5,1.5Hz,1H).
元素分析:C,84.79;H,3.94;N,6.68;S,3.06
合成实施例15.化合物C7、C9、C10的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸和苯硼酸分别置换为等当量相应的芳基硼酸。
合成实施例16.化合物C12的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸置换为等当量的(5-(二苯并[b,d]噻吩-2-基)萘-1-基)硼酸,将苯硼酸置换为等当量的(1,10-菲咯啉-3-基)硼酸,反应完成后,得到化合物C12 7.83g,收率69.5%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.42(dd,J=7.4,1.5Hz,1H),9.13(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),8.77(dd,J=7.6,1.4Hz,1H),8.71–8.64(m,3H),8.54(d,J=7.6Hz,2H),8.54–8.44(m,2H),8.37(d,J=1.5Hz,1H),8.27(dd,J=7.5,1.4Hz,1H),8.23–7.91(m,13H),7.88(dd,J=7.4,1.5Hz,1H),7.77(td,J=7.5,1.6Hz,1H),7.68(t,J=7.5Hz,1H),7.58(dd,J=7.5,1.4Hz,1H),7.43(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),7.35–7.24(m,3H),7.17(ddd,J=7.5,4.6,3.0Hz,2H),7.08(d,J=7.5Hz,1H),6.64(d,J=7.5Hz,1H).
元素分析:C,84.17;H,3.76;N,4.97;S,5.69
合成实施例17.化合物C13、C14、C15的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸和苯硼酸分别置换为等当量相应的芳基硼酸。
合成实施例18.化合物C16的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸置换为等当量的1-萘硼酸,将苯硼酸置换为等当量的吡喃-2-基硼酸,反应完成后,得到化合物C167.15g,收率91.1%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.69(dd,J=7.5,1.4Hz,1H),9.45–9.37(m,2H),9.07(dd,J=7.5,1.4Hz,1H),8.53–8.43(m,2H),8.38–8.27(m,2H),8.28–8.16(m,7H),8.14–8.00(m,8H),7.92(d,J=7.5Hz,1H),7.83(t,J=7.5Hz,1H),7.67(d,J=1.5Hz,1H),7.59(s,1H),7.34(td,J=7.5,1.6Hz,2H),7.06(d,J=7.5Hz,1H),6.89(dd,J=7.5,2.3Hz,2H).
元素分析:C,90.28;H,4.11;N,3.57
合成实施例19.化合物C17、C18、C19的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸和苯硼酸分别置换为等当量相应的芳基硼酸。
合成实施例20.化合物C23的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸置换为等当量的(8-(苯并[d]恶唑-2-基)-6,6,12,12-四甲基-6,12-二氢茚并[1,2-b]芴-2-基)硼酸,反应完成后,得到化合物C23 9.69g,收率77.0%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.68(s,1H),9.47(d,J=1.6Hz,1H),9.00(s,1H),8.96–8.85(m,2H),8.75(dd,J=7.4,1.9Hz,3H),8.57(d,J=7.5Hz,1H),8.51(d,J=7.5Hz,1H),8.42(d,J=7.5Hz,1H),8.33(d,J=1.5Hz,1H),8.20–8.07(m,3H),8.02(dd,J=14.2,8.0Hz,3H),7.95–7.87(m,3H),7.76(dd,J=7.5,1.4Hz,1H),7.68–7.58(m,5H),7.53(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),7.46–7.25(m,8H),2.23(s,3H),2.14(s,3H),1.95(d,J=3.8Hz,6H),1.80–1.74(m,12H).
元素分析:C,86.78;H,4.96;N,4.45
合成实施例21.化合物C24、C27、C30的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸和苯硼酸分别置换为等当量相应的芳基硼酸。
合成实施例22.化合物C32的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸置换为等当量的[2,2'-联吡啶]-5-基硼酸,将苯硼酸置换为等当量的(4-(萘-2-基)苯基)硼酸,反应完成后,得到化合物C32 6.84g,收率81.2%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.23(d,J=1.3Hz,1H),9.07(d,J=1.2Hz,1H),8.97(d,J=1.4Hz,1H),8.75(d,J=7.4Hz,1H),8.64–8.58(m,3H),8.57–8.40(m,7H),8.25–8.14(m,3H),8.04(ddd,J=15.4,8.4,1.4Hz,2H),7.85–7.74(m,3H),7.67(d,J=7.5Hz,1H),7.61–7.44(m,4H),7.24(d,J=1.4Hz,1H),6.96–6.87(m,3H).
元素分析:C,84.07;H,4.07;N,9.97
合成实施例23.化合物C40、C43、C47的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸和苯硼酸分别置换为等当量相应的芳基硼酸。
合成实施例24.化合物C48的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸置换为等当量的(3-(9,9-甲基吖啶-10(9H)-基)苯基)硼酸,将苯硼酸置换为等当量的(3-(9,9-甲基吖啶-10(9H)-基)苯基)硼酸,反应完成后,得到化合物C48 7.87g,收率69.8%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.71(dd,J=7.3,2.0Hz,1H),9.53–9.48(m,2H),9.04–8.98(m,2H),8.64–8.58(m,2H),8.11(td,J=7.2,2.4Hz,2H),7.72–7.65(m,2H),7.62(td,J=7.3,2.2Hz,2H),7.62–7.57(m,2H),7.60–7.47(m,4H),7.51–7.37(m,8H),7.35(dtd,J=14.3,7.0,5.2Hz,4H),7.29–7.20(m,4H),7.12(td,J=7.5,2.0Hz,1H),7.01(dddd,J=9.1,7.3,4.9,2.0Hz,4H),6.78(dt,J=7.3,2.1Hz,1H),6.68–6.56(m,3H),1.92(s,3H),1.82(d,J=8.8Hz,6H),1.75(s,3H).
元素分析:C,88.43;H,5.19;N,4.97
合成实施例25.化合物C49、C50的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸和苯硼酸分别置换为等当量相应的芳基硼酸。
合成实施例26.化合物C51的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸置换为等当量的二苯并[b,d]噻吩-2-基硼酸,将苯硼酸置换为等当量的荧蒽-3-基硼酸,反应完成后,得到化合物C51 7.67g,收率85.5%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.50(s,1H),9.09(d,J=1.5Hz,1H),8.85–8.77(m,2H),8.60–8.47(m,6H),8.46–8.38(m,2H),8.26(d,J=7.5Hz,1H),8.20(d,J=7.4Hz,1H),8.17–8.09(m,2H),8.04(ddd,J=7.5,5.8,1.6Hz,2H),7.95(dd,J=7.5,1.3Hz,2H),7.92–7.82(m,2H),7.78–7.70(m,2H),7.59(tdd,J=7.5,2.6,1.5Hz,2H),7.48(d,J=7.5Hz,1H),7.35–7.26(m,3H),7.00(dd,J=7.5,1.5Hz,1H).
元素分析:C,84.35;H,3.60;N,3.12;S,7.15
合成实施例27.化合物C52、C53的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸和苯硼酸分别置换为等当量相应的芳基硼酸。
合成实施例28.化合物C60的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸置换为等当量的苯硼酸,将苯硼酸置换为等当量的(3-(联苯-2-基)苯基)硼酸,反应完成后,得到化合物C60 7.19g,收率91.4%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.94(d,J=1.5Hz,1H),9.05(d,J=7.5Hz,1H),8.85(d,J=1.6Hz,1H),8.79(dd,J=7.5,1.7Hz,1H),8.73(d,J=7.5Hz,1H),8.58(t,J=2.0Hz,1H),8.46(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),8.40(s,1H),8.33(dd,J=7.5,1.6Hz,2H),7.93(dt,J=7.3,2.1Hz,1H),7.87(dt,J=7.5,2.0Hz,1H),7.82–7.56(m,12H),7.55–7.40(m,6H),7.37–7.27(m,3H),6.90(dd,J=7.5,1.5Hz,1H).
元素分析:C,90.05;H,4.35;N,3.56
合成实施例29.化合物C61、C62、C104的合成:
采用与化合物C1相同的合成方法,不同在于,将9,9'-螺二[9H-芴]-2-硼酸和苯硼酸分别置换为等当量相应的芳基硼酸。
合成实施例30.化合物C58的合成:
氮气保护下,将中间体M4(4.90g,10mmol)、2-萘硼酸(6.88g,40mmol)、Pd(PPh3)4(0.36g,0.3mmol)、磷酸钾(12.7g,60mmol)、DMF(100mL),然后在130℃下搅拌反应24小时。反应完成后,降至室温,倒入100ml水中,抽滤,滤饼依次用水和乙醇淋洗,然后用二甲苯重结晶,烘干后得到化合物C58(4.88g,68.7%)。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.08–8.98(m,2H),8.73(t,J=1.7Hz,1H),8.48(dt,J=7.5,1.6Hz,1H),8.41–8.34(m,2H),8.31(s,1H),8.11(d,J=7.5Hz,1H),8.07(dd,J=7.5,1.4Hz,2H),8.06–7.97(m,7H),7.99–7.88(m,3H),7.87–7.78(m,2H),7.71–7.65(m,1H),7.54(dtd,J=31.0,7.6,1.6Hz,6H),7.42(d,J=1.3Hz,1H),6.98(dd,J=7.5,1.5Hz,1H).
元素分析:C,89.55;H,4.25;N,3.94
合成实施例31.化合物C54的合成:
采用与化合物C58相同的合成方法,不同在于,将2-萘硼酸置换为等当量的(4-(吡啶-3-基)苯基)硼酸,反应完成后,得到化合物C54 4.32g,收率54.6%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.05–8.96(m,2H),8.73(d,J=1.2Hz,3H),8.63(dd,J=4.9,1.2Hz,3H),8.42(d,J=7.5Hz,1H),8.35(d,J=7.6Hz,1H),8.26(s,1H),8.22–8.17(m,2H),8.03(d,J=7.6Hz,2H),7.97(d,J=7.6Hz,2H),7.94–7.84(m,2H),7.81(ddd,J=8.0,2.4,1.2Hz,5H),7.77–7.66(m,4H),7.41–7.35(m,4H),6.94(dd,J=7.5,1.5Hz,1H).
元素分析:C,84.94;H,4.20;N,8.84
合成实施例32.化合物C55、C59的合成:
采用与化合物C58相同的合成方法,不同在于,将2-萘硼酸置换为等当量相应的芳基硼酸。
合成实施例33.化合物C56的合成:
在氮气保护下,将中间体M4(7.08g,13.5mmol)、异丙醇频哪醇硼酸酯(5.75g,31mmol)和THF(100ml)混合,液氮降至-78℃,滴加正丁基锂(12.4ml,31mmol,2.5M/L),加完后保温1.5小时。加入100ml饱和氯化铵水溶液淬灭反应,分液,有机相用无水硫酸钠干燥后旋干。用石油醚结晶,得到中间体M4-2 6.19g,烘干待用,收率74.0%。
氮气保护下,将锌粉(1.63g,25mmol)和THF(30ml)混合,加入2滴1,2-二溴乙烷,引发后,开始滴加2,2'-(丙烷-2,2-二基)双(溴苯)(3.54g,10mmol)和THF(50ml)的混合物,油浴加热维持回流状态,滴加完后回流反应2小时,用冰浴降温至0度。将上面得到的中间体M4-1溶于100mlTHF,滴加到此溶液中,反应3小时后,抽滤,滤饼用THF淋洗,滤液旋干,柱层析(洗脱液:二氯甲烷/石油醚),得到中间体M4-4 2.4g,收率31.8%。
氮气保护下,将中间体M4-3(7.75g,10mmol)、苯硼酸(1.46g,12mmol)、Pd(PPh3)4(0.12g,0.1mmol)、磷酸钾(10.6g,50mmol)、DMF(100mL),然后在130℃下搅拌反应24小时。反应完成后,降至室温,倒入100ml水中,抽滤,滤饼依次用水和乙醇淋洗,然后用二甲苯重结晶,烘干后得到化合物C56(7.82g,94.2%)。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ8.95(d,J=7.5Hz,1H),8.80(d,J=7.5Hz,1H),8.27(d,J=7.5Hz,1H),8.17(s,1H),8.10(dd,J=5.9,1.5Hz,2H),7.84(d,J=7.5Hz,1H),7.74(dd,J=7.0,2.0Hz,6H),7.64(dt,J=7.5,2.0Hz,2H),7.45(dd,J=4.5,2.4Hz,2H),7.46–7.31(m,13H),2.33(d,J=1.6Hz,2H),1.70(t,J=1.4Hz,12H).
元素分析:C,86.76;H,5.34;B,2.60;N,3.37
合成实施例34.化合物C63的合成:
氮气保护下,将中间体M4(5.25g,10mmol)、咔唑(3.67g,22mmol)、叔丁醇钠(4.8g,50mmol)、三(二亚苄基丙酮)二钯(0.18g,0.2mmol)、10%的三叔丁基膦甲苯溶液(1.2g,0.6mmol)和甲苯(100毫升)混合,在回流条件下搅拌24小时,反应结束后,冷却至室温,加入200毫升纯水,用乙酸乙酯萃取有机层,有机相无水硫酸钠干燥后旋干,然后进行柱分离(洗脱液:二氯甲烷/石油醚),得到中间体M4-7(4.36g,62.5%)。
氮气保护下,将中间体M4-7(6.97g,10mmol)、双联频哪醇硼酸酯(3.05g,12mmol)、乙酸钾(2.94g,30mmol)、醋酸钯(0.06g,0.3mmol)和DMF(50毫升)混合,在120度下搅拌24小时,反应结束后,冷却至室温,加入100毫升纯水,抽滤,滤饼用二氯甲烷和石油醚重结晶,得到中间体M4-8(4.97g,63.0%)。
氮气保护下,将锌粉(1.63g,25mmol)和THF(30ml)混合,加入2滴1,2-二溴乙烷,引发后,开始滴加2,2'-(丙烷-2,2-二基)双(溴苯)(3.54g,10mmol)和THF(50ml)的混合物,油浴加热维持回流状态,滴加完后回流反应2小时,用冰浴降温至0度。将上面得到的中间体M4-8(7.89g,10mmol)溶于100mlTHF,滴加到此溶液中,反应4小时后,抽滤,滤饼用THF淋洗,滤液旋干,柱层析(洗脱液:二氯甲烷/石油醚),得到化合物C63 3.64g,收率42.1%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.35(d,J=7.5Hz,1H),8.73(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),8.52–8.45(m,3H),8.37(dtd,J=20.2,7.0,6.6,1.7Hz,3H),8.18(dd,J=7.4,1.6Hz,1H),8.04(d,J=7.5Hz,1H),7.97(d,J=7.5Hz,1H),7.88–7.78(m,3H),7.81–7.70(m,3H),7.56–7.42(m,5H),7.43(dt,J=4.9,1.7Hz,3H),7.44–7.32(m,6H),7.02(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),1.75(d,J=5.1Hz,6H).
元素分析:C,85.91;H,4.53;B,1.25;N,6.46
合成实施例35.化合物C64的合成:
氮气保护下,将中间体M4(5.25g,10mmol)、(萘-1-基)胺(5.92g,22mmol)、叔丁醇钠(4.8g,50mmol)、三(二亚苄基丙酮)二钯(0.18g,0.2mmol)、10%的三叔丁基膦甲苯溶液(1.2g,0.6mmol)和甲苯(100毫升)混合,在回流条件下搅拌24小时,反应结束后,冷却至室温,加入200毫升纯水,用乙酸乙酯萃取有机层,有机相无水硫酸钠干燥后旋干,然后进行柱分离(洗脱液:二氯甲烷/正己烷),得到中间体M4-5(7.83g,87.1%)。
氮气保护下,将中间体M4-5(9.01g,10mmol)、苯硼酸(1.46g,12mmol)、Pd(PPh3)4(0.12g,0.1mmol)、磷酸钾(10.6g,50mmol)、DMF(100mL),然后在130℃下搅拌反应24小时。反应完成后,降至室温,倒入100ml水中,抽滤,滤饼依次用水和乙醇淋洗,然后用二甲苯重结晶,烘干后得到化合物C64(8.12g,86.1%)。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ8.88(dd,J=7.7,2.0Hz,2H),8.57–8.46(m,2H),8.38–8.25(m,2H),8.16–8.06(m,3H),7.98–7.88(m,2H),7.89–7.74(m,4H),7.77–7.59(m,8H),7.62–7.55(m,2H),7.55–7.38(m,10H),7.37–7.29(m,3H),6.99(d,J=7.5Hz,1H),6.79(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),6.44–6.37(m,2H).
元素分析:C,87.87;H,4.49;N,5.94
合成实施例36.化合物C65、C66、C70的合成:
采用与化合物C64相同的合成方法,不同在于,将(萘-1-基)胺和苯硼酸分别置换为等当量相应的芳胺和芳基硼酸。
合成实施例37.化合物C71的合成:
采用与化合物C64相同的合成方法,不同在于,将(萘-1-基)胺置换为等当量的4-环己基-N-(对甲苯基)苯胺,将苯硼酸置换为等当量的4-吡啶硼酸,反应完成后,得到化合物C71 6.65g,收率71.1%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ8.67(d,J=4.9Hz,2H),8.50(d,J=7.5Hz,1H),8.22–8.16(m,3H),7.63(d,J=1.4Hz,1H),7.31(d,J=7.4Hz,1H),7.28–7.09(m,13H),7.06(d,J=7.5Hz,1H),7.02–6.92(m,5H),6.30(d,J=1.4Hz,1H),6.13(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),2.54(td,J=12.7,2.9Hz,2H),2.33(d,J=1.5Hz,4H),2.29–2.09(m,3H),1.77(qd,J=6.0,4.6,2.9Hz,8H),1.64–1.50(m,4H),1.41–1.32(m,2H),1.35(s,2H).
元素分析:C,84.67;H,6.14;N,7.48
合成实施例38.化合物C72、C74的合成:
采用与化合物C64相同的合成方法,不同在于,将(萘-1-基)胺和苯硼酸分别置换为等当量相应的芳胺和芳基硼酸。
合成实施例39.化合物C75的合成:
采用与化合物C64相同的合成方法,不同在于,将(萘-1-基)胺置换为等当量的N-(萘-2-基)-9-苯基-9H-咔唑-3-胺,将苯硼酸置换为等当量的[1,1'-联苯]-3-基硼酸,反应完成后,得到化合物C75 10.71g,收率85.7%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.25(dd,J=7.4,1.0Hz,2H),8.54–8.45(m,2H),8.32–8.24(m,2H),8.18(ddd,J=6.8,4.9,1.4Hz,2H),8.11(dd,J=7.4,1.5Hz,1H),8.08–7.92(m,8H),7.81(dd,J=7.5,1.6Hz,1H),7.76–7.66(m,2H),7.66–7.56(m,9H),7.51–7.40(m,5H),7.38–7.20(m,11H),6.91–6.79(m,3H),6.76(dd,J=7.5,1.6Hz,2H),6.40(dd,J=7.5,1.4Hz,1H).
元素分析:C,87.48;H,4.52;N,6.73
合成实施例40.化合物C76、C77、C78的合成:
采用与化合物C64相同的合成方法,不同在于,将(萘-1-基)胺和苯硼酸分别置换为等当量相应的芳胺和芳基硼酸。
合成实施例41.化合物C83的合成:
采用与化合物C64相同的合成方法,不同在于,将(萘-1-基)胺置换为等当量的N-(3-(5-苯基吡啶-3-基)苯基)菲-1-胺,将苯硼酸置换为等当量的(3,5-二甲基苯基)硼酸,反应完成后,得到化合物C83 8.30g,收率65.1%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.25–9.18(m,2H),9.09(t,J=2.0Hz,1H),9.01–8.93(m,2H),8.86(ddd,J=16.8,7.4,1.8Hz,4H),8.66–8.58(m,3H),8.49–8.37(m,4H),8.15(d,J=7.5Hz,1H),7.90(dt,J=7.4,1.5Hz,2H),7.80(dt,J=7.4,2.1Hz,1H),7.72–7.58(m,5H),7.57–7.49(m,3H),7.47–7.29(m,9H),7.15(dt,J=16.4,7.5Hz,2H),6.86(ddt,J=9.6,7.5,2.0Hz,2H),6.81–6.73(m,2H),6.72–6.65(m,2H),6.50(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),1.33(d,J=1.2Hz,6H).
元素分析:C,87.44;H,4.73;N,6.58
合成实施例42.化合物C84、C85、C86的合成:
采用与化合物C64相同的合成方法,不同在于,将(萘-1-基)胺和苯硼酸分别置换为等当量相应的芳胺和芳基硼酸。
合成实施例43.化合物C87的合成:
采用与化合物C64相同的合成方法,不同在于,将(萘-1-基)胺置换为等当量的二苯胺,将苯硼酸置换为等当量的(5-苯基吡啶-3-基)硼酸,反应完成后,得到化合物C875.00g,收率61.0%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.40(d,J=1.4Hz,1H),9.25(d,J=1.2Hz,1H),9.18(d,J=1.2Hz,1H),8.73(d,J=7.5Hz,1H),8.43(s,1H),8.18–8.10(m,2H),7.79(d,J=1.3Hz,1H),7.70(d,J=7.5Hz,1H),7.44–7.29(m,3H),7.24(t,J=7.5Hz,8H),7.13–7.04(m,9H),7.00(tt,J=7.3,2.0Hz,4H),6.73(d,J=1.4Hz,1H),6.33(dd,J=7.5,1.5Hz,1H).
元素分析:C,84.96;H,4.55;N,8.54
合成实施例44.化合物C88、C89的合成:
采用与化合物C64相同的合成方法,不同在于,将(萘-1-基)胺和苯硼酸分别置换为等当量相应的芳胺和芳基硼酸。
合成实施例45.化合物C90的合成:
采用与化合物C64相同的合成方法,不同在于,将(萘-1-基)胺置换为等当量的(3-(吡啶-4-基)苯基)胺,将苯硼酸置换为等当量的二苯并[b,d]呋喃-3-基硼酸,反应完成后,得到化合物C90 6.70g,收率58.7%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.62(d,J=1.4Hz,1H),8.98(d,J=5.1Hz,2H),8.90(d,J=5.1Hz,2H),8.71–8.61(m,9H),8.49(ddd,J=19.7,7.5,1.6Hz,2H),8.19(d,J=7.5Hz,1H),7.94(t,J=2.0Hz,1H),7.86(t,J=2.0Hz,1H),7.74(d,J=5.3Hz,2H),7.66–7.49(m,8H),7.52–7.40(m,8H),7.40–7.27(m,4H),7.17(dt,J=7.5,2.0Hz,1H),7.10(d,J=1.5Hz,1H),7.02(d,J=7.5Hz,1H),6.77(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),6.57(d,J=7.4Hz,1H),6.46(d,J=1.4Hz,1H),6.15(dd,J=7.5,1.5Hz,1H).
元素分析:C,83.14;H,4.24;N,9.82
合成实施例46.化合物C91、C93的合成:
采用与化合物C64相同的合成方法,不同在于,将(萘-1-基)胺和苯硼酸分别置换为等当量相应的芳胺和芳基硼酸。
合成实施例47.化合物C94的合成:
采用与化合物C64相同的合成方法,不同在于,将(萘-1-基)胺置换为等当量的5-苯基-5,10-二氢吩嗪,将苯硼酸置换为等当量的4-甲基苯硼酸,反应完成后,得到化合物C94 5.07g,收率54.2%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.21(dd,J=7.6,1.9Hz,2H),8.92–8.87(m,2H),8.48(d,J=7.5Hz,1H),8.22(d,J=1.4Hz,1H),7.85–7.79(m,2H),7.69(td,J=7.5,2.0Hz,1H),7.63–7.58(m,2H),7.53(dd,J=7.5,2.1Hz,1H),7.48–7.39(m,3H),7.28–7.17(m,8H),7.06–6.96(m,6H),6.93(d,J=7.5Hz,1H),6.79(dtt,J=20.3,7.5,2.0Hz,4H),6.47(dd,J=7.5,1.7Hz,2H),2.33(d,J=1.6Hz,2H).
元素分析:C,84.77;H,4.53;N,8.99
合成实施例48.化合物C95、C96的合成:
采用与化合物C64相同的合成方法,不同在于,将(萘-1-基)胺和苯硼酸分别置换为等当量相应的芳胺和芳基硼酸。
合成实施例49.化合物C97的合成:
采用与化合物C64相同的合成方法,不同在于,将(萘-1-基)胺置换为等当量的5-苯基-5,7-二氢吲哚并[2,3-b]咔唑,将苯硼酸置换为等当量的3-甲基苯硼酸,反应完成后,得到化合物C97 7.03g,收率64.9%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.53(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),9.34(s,1H),8.92–8.86(m,2H),8.83–8.67(m,4H),8.55–8.45(m,4H),8.49–8.35(m,2H),8.30–8.22(m,1H),8.21–8.14(m,4H),7.89(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),7.85–7.75(m,2H),7.70–7.58(m,5H),7.61–7.51(m,4H),7.45(td,J=7.4,1.6Hz,1H),7.35–7.20(m,7H),6.89(d,J=1.3Hz,1H),6.72(d,J=7.5Hz,1H),2.50(s,2H).
元素分析:C,86.48;H,4.28;N,7.76
合成实施例50.化合物C98、C99、C100的合成:
采用与化合物C64相同的合成方法,不同在于,将(萘-1-基)胺和苯硼酸分别置换为等当量相应的芳胺和芳基硼酸。
合成实施例51.化合物C67的合成:
氮气保护下,将中间体M4(4.90g,10mmol)、4-联苯硼酸(4.36g,22mmol)、Pd(PPh3)4(0.23g,0.2mmol)、碳酸钾(6.9g,50mmol)、THF(80mL)和蒸馏水(20mL)混合,然后在回流下搅拌反应2小时。反应完成后,降至室温,抽滤,滤饼依次用水和甲苯淋洗,然后用二甲苯重结晶,烘干后得到中间体M4-6(5.92g,88.2%)。
氮气保护下,将中间体M4-6(6.71g,10mmol)、9,9-二甲基-N-(萘-1-基)-9H-芴-2-胺(4.02g,12mmol)、叔丁醇钠(2.4g,25mmol)、三(二亚苄基丙酮)二钯(0.09g,0.1mmol)、10%的三叔丁基膦甲苯溶液(0.6g,0.3mmol)和甲苯(100毫升)混合,在回流条件下搅拌24小时,反应结束后,冷却至室温,加入200毫升纯水,用乙酸乙酯萃取有机层,有机相无水硫酸钠干燥后旋干,然后进行柱分离(洗脱液:二氯甲烷/正己烷),得到化合物C67(6.96g,71.8%)。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.56–9.46(m,3H),9.20(d,J=7.5Hz,1H),8.68(d,J=7.5Hz,2H),8.46(dd,J=7.4,1.5Hz,1H),8.27(d,J=1.5Hz,1H),8.10–7.94(m,5H),7.84–7.68(m,6H),7.69–7.61(m,3H),7.62–7.52(m,6H),7.44(dd,J=8.2,6.8Hz,5H),7.33(ddq,J=7.0,5.3,1.9Hz,3H),7.26(s,1H),7.20(d,J=7.5Hz,1H),7.10(d,J=1.5Hz,1H),6.94(d,J=7.5Hz,1H),6.89(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),2.35(s,3H),2.25(s,3H).
元素分析:C,89.14;H,4.88;N,4.33
合成实施例52.化合物C68、C69的合成:
采用与化合物C67相同的合成方法,不同在于,将4-联苯硼酸和9,9-二甲基-N-(萘-1-基)-9H-芴-2-胺分别置换为等当量相应的芳基硼酸和芳胺。
合成实施例53.化合物C73的合成:
采用与化合物C67相同的合成方法,不同在于,将4-联苯硼酸置换为等当量的1-萘硼酸,将9,9-二甲基-N-(萘-1-基)-9H-芴-2-胺置换为等当量的N-([1,1':3',1“-三联苯]-3-基)二苯并[b,d]噻吩-3-胺,反应完成后,得到化合物C73 5.99g,收率59.3%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.72(dd,J=7.5,1.4Hz,1H),8.93(d,J=1.4Hz,1H),8.86(d,J=1.4Hz,1H),8.76(dt,J=7.5,2.0Hz,1H),8.63(dd,J=7.4,1.4Hz,1H),8.53(td,J=7.5,1.6Hz,1H),8.45–8.33(m,2H),8.33–8.25(m,2H),8.21–8.14(m,2H),8.08–7.99(m,2H),7.98–7.87(m,5H),7.83–7.71(m,2H),7.71–7.64(m,2H),7.62–7.48(m,7H),7.48–7.40(m,4H),7.38–7.27(m,5H),7.07(d,J=7.5Hz,1H),6.89(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),6.81(dd,J=7.5,1.5Hz,1H).
元素分析:C,86.79;H,4.29;N,4.16;S,3.17.
合成实施例54.化合物C103、C105的合成:
采用与化合物C67相同的合成方法,不同在于,将4-联苯硼酸和9,9-二甲基-N-(萘-1-基)-9H-芴-2-胺分别置换为等当量相应的芳基硼酸和芳胺。
合成实施例55.化合物C101的合成:
氮气保护下,将中间体M4(4.90g,10mmol)、咔唑(5.85g,35mmol)、叔丁醇钠(5.7g,60mmol)、三(二亚苄基丙酮)二钯(0.27g,0.3mmol)、10%的三叔丁基膦甲苯溶液(1.8g,0.9mmol)和甲苯(100毫升)混合,在回流条件下搅拌24小时,反应结束后,冷却至室温,加入200毫升纯水,用乙酸乙酯萃取有机层,有机相无水硫酸钠干燥后旋干,然后进行柱分离(洗脱液:二氯甲烷/正己烷),得到化合物C101(5.77g,69.7%)。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.40(d,J=1.4Hz,1H),9.04(dd,J=10.9,7.5Hz,2H),8.79(s,1H),8.55(ddd,J=17.7,7.5,1.5Hz,2H),8.47–8.32(m,6H),8.31(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),8.25(dd,J=7.4,1.6Hz,1H),8.19(dd,J=7.4,1.6Hz,1H),8.11(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),8.08–7.97(m,2H),7.98–7.90(m,2H),7.92–7.84(m,1H),7.67(td,J=7.4,1.6Hz,1H),7.51(td,J=7.5,1.6Hz,1H),7.48–7.32(m,9H),7.03(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),4.51(dd,J=7.5,1.5Hz,1H).
元素分析:C,85.59;H,4.02;N,8.46
合成实施例56.化合物C102的合成:
采用与化合物C67相同的合成方法,不同在于,将咔唑置换为等当量的二苯胺。
合成实施例57.化合物C11的合成:
氮气保护下,将中间体M4(4.90g,10mmol)、(6-苯基萘-2-基)硼酸(5.46g,22mmol)、Pd(PPh3)4(0.23g,0.2mmol)、碳酸钾(6.9g,50mmol)、THF(80mL)和蒸馏水(20mL)混合,然后在回流下搅拌反应3小时。反应完成后,降至室温,抽滤,滤饼依次用水和甲苯淋洗,然后用二甲苯重结晶,烘干后得到中间体M4-7(6.82g,88.5%)。
氮气保护下,将锌粉(0.85g,13mmol)和THF(20ml)混合,加入2滴1,2-二溴乙烷,引发后,开始滴加2-溴喹啉(2.08g,10mmol)和THF(30ml)的混合物,油浴加热维持回流状态,滴加完后回流反应2小时。加入中间体M4-7(7.71g,10mmol)和Pd(PPh3)4(0.23g,0.2mmol),回流反应24小时。反应完成后,降至室温,抽滤,滤液旋干,然后用二甲苯重结晶,烘干后得到化合物C11(3.42g,39.6%)。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.49(dd,J=7.3,1.5Hz,1H),9.42(dd,J=7.5,1.4Hz,1H),8.82(dd,J=7.5,1.4Hz,1H),8.76(d,J=7.5Hz,1H),8.65(d,J=1.5Hz,1H),8.59(dd,J=7.4,1.5Hz,1H),8.50(dd,J=6.7,1.4Hz,2H),8.40(d,J=7.4Hz,1H),8.16(d,J=1.4Hz,1H),8.11–7.98(m,4H),8.00–7.88(m,4H),7.83(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),7.80–7.69(m,3H),7.62–7.51(m,5H),7.44(t,J=7.4Hz,4H),7.37–7.26(m,4H),7.08(d,J=7.5Hz,1H).
元素分析:C,88.97;H,4.32;N,4.86
合成实施例58.化合物C21、C34、C37的合成:
采用与化合物C11相同的合成方法,不同在于,将(6-苯基萘-2-基)硼酸和2-溴喹啉置换为等当量相应的芳基硼酸和卤代物。
合成实施例59.化合物C38的合成:
采用与化合物C11相同的合成方法,不同在于,将(6-苯基萘-2-基)硼酸置换为等当量的二苯并[b,d]噻吩-3-基硼酸,将2-溴喹啉置换为等当量的6-溴菲啶,反应完成后,得到化合物C38 3.59g,收率41.1%。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.55(d,J=1.4Hz,1H),9.38(d,J=7.5Hz,1H),9.27(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),9.15(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),8.88–8.80(m,2H),8.49(dd,J=7.5,1.4Hz,1H),8.47–8.27(m,8H),8.15(ddd,J=14.9,7.5,1.4Hz,2H),8.03(dd,J=7.5,1.4Hz,1H),7.90–7.80(m,4H),7.74(tdd,J=7.5,2.9,1.5Hz,2H),7.68(td,J=7.4,1.6Hz,1H),7.58(td,J=7.5,1.5Hz,1H),7.36(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),7.35–7.25(m,3H),6.97(d,J=7.5Hz,1H).
元素分析:C,82.45;H,3.57;N,4.81;S,7.34
合成实施例60.化合物C39、C46的合成:
采用与化合物C11相同的合成方法,不同在于,将(6-苯基萘-2-基)硼酸和2-溴喹啉分别置换为等当量相应的芳基硼酸和卤代物。
合成实施例61.化合物C25的合成:
氮气保护下,将锌粉(1.37g,21mmol)和THF(30ml)混合,加入2滴1,2-二溴乙烷,引发后,开始滴加2-溴-5-(9,9-二甲基-9H-芴-2-基)吡啶(7.35g,21mmol)和THF(50ml)的混合物,油浴加热维持回流状态,滴加完后回流反应2小时。中间体M4(5.25g,10mmol)、Pd(PPh3)4(0.23g,0.2mmol)和THF(100mL)混合,然后在回流下滴加到上述反应液里反应4小时。反应完成后,降至室温,抽滤,滤液旋干,然后用二甲苯重结晶,烘干后得到中间体M4-8(3.35g,35.4%)。
氮气保护下,将中间体M4-8(9.05g,10mmol)、苯硼酸(1.46g,12mmol)、Pd(PPh3)4(0.12g,0.1mmol)、磷酸钾(10.6g,50mmol)、DMF(100mL),然后在130℃下搅拌反应24小时。反应完成后,降至室温,倒入100ml水中,抽滤,滤饼依次用水和乙醇淋洗,然后用二甲苯重结晶,烘干后得到化合物C25(7.63g,80.6%)。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.17(dd,J=2.4,1.4Hz,2H),9.10(d,J=1.2Hz,1H),8.64–8.54(m,2H),8.50(dd,J=7.7,2.0Hz,2H),8.29(d,J=7.9Hz,1H),8.20(d,J=1.6Hz,1H),8.17–8.04(m,4H),8.03–7.94(m,3H),7.92–7.78(m,5H),7.74(td,J=7.5,1.5Hz,1H),7.65–7.50(m,3H),7.48–7.29(m,6H),1.99(d,J=3.1Hz,6H),1.72(s,6H).
元素分析:C,87.50;H,4.90;N,5.92
合成实施例62.化合物C31、C33、C35、C36、C44的合成:
采用与化合物C25相同的合成方法,不同在于,将2-溴-5-(9,9-二甲基-9H-芴-2-基)吡啶和苯硼酸分别置换为等当量相应的卤代物和芳基硼酸。
合成实施例63.化合物C79的合成:
氮气保护下,将中间体M4(5.25g,10mmol)、N-([1,1'-联苯]-2-基)二苯并[b,d]呋喃-2-胺(7.37g,22mmol)、叔丁醇钠(4.8g,50mmol)、三(二亚苄基丙酮)二钯(0.18g,0.2mmol)、10%的三叔丁基膦甲苯溶液(1.2g,0.6mmol)和甲苯(100毫升)混合,在回流条件下搅拌24小时,反应结束后,冷却至室温,加入200毫升纯水,用乙酸乙酯萃取有机层,有机相无水硫酸钠干燥后旋干,然后进行柱分离(洗脱液:二氯甲烷/石油醚),得到中间体M4-9(7.50g,72.6%)。
氮气保护下,将锌粉(0.85g,13mmol)和THF(20ml)混合,加入2滴1,2-二溴乙烷,引发后,开始滴加2-溴喹唑啉(2.09g,10mmol)和THF(30ml)的混合物,油浴加热维持回流状态,滴加完后回流反应2小时。将中间体M4-9(10.33g,10mmol)和Pd(PPh3)4(0.12g,0.1mmol)加入上述体系,然后在回流下搅拌反应24小时。反应完成后,降至室温,抽滤,滤饼用THF淋洗,然后用二甲苯重结晶,烘干后得到化合物C79(4.87g,43.2%)。
1H NMR(500MHz,Chloroform-d)δ9.58(dd,J=7.5,1.5Hz,1H),8.40(dt,J=7.6,1.6Hz,1H),8.27–8.08(m,6H),7.91(td,J=7.4,1.6Hz,1H),7.82–7.59(m,8H),7.54(dd,J=7.5,1.5Hz,2H),7.48–7.23(m,21H),6.92(dd,J=7.5,1.4Hz,1H),6.82–6.74(m,2H).
元素分析:C,84.17;H,4.11;N,7.46
合成实施例62.化合物C80、C81、C82、C92的合成:
采用与化合物C79相同的合成方法,不同在于,将N-([1,1'-联苯]-2-基)二苯并[b,d]呋喃-2-胺和2-溴喹唑啉分别置换为等当量相应的芳胺和芳基卤代物。
器件应用例
本发明对比例中有机电致发光器件的结构为:ITO/2-TNATA(10nm)/NPB(80nm)/EML(30nm)/ETL1(30nm)/LiF(1nm)/Al。空穴注入材料采用2-TNATA;空穴传输材料使用三芳胺类材料NPB;发光层材料使用红磷光染料(piq)2Ir(acac),搭配红光主体CBP;电子传输层选用商品化的电子传输材料ETL1。各功能层材料分子结构如下:
器件实施例1.本发明的化合物作为电子传输材料
将涂布了ITO(150nm)透明导电层的玻璃板在商用清洗剂中超声处理,在去离子水中冲洗,在丙酮∶乙醇混合溶剂(体积比1∶1)中超声除油,在洁净环境下烘烤至完全除去水份,用紫外光和臭氧清洗,并用Satella(ULVAC)的低能阳离子束轰击表面;
把上述带有阳极的玻璃基片置于真空腔内,抽真空至1×10-5~9×10-3Pa,在上述阳极层膜上真空蒸镀化合物2-TNATA,形成厚度为60nm的空穴注入层;在空穴注入层之上真空蒸镀化合物NPB,形成厚度为20nm的空穴传输层,蒸镀速率为0.1nm/s;
在上述空穴传输层上形成电致发光层,具体操作为:将作为发光层主体的CBP[4,4'-N,N'-二咔唑-联苯]放置在真空气相沉积设备的小室中,将作为掺杂剂的(piq)2Ir(acac)[二-(1-苯基异喹啉基)乙酰丙酮铱(III)]放置在真空气相沉积设备的另一室中,以不同的速率同时蒸发两种材料,(piq)2Ir(acac)的浓度为5%,蒸镀总膜厚为30nm;
在发光层之上真空蒸镀本发明化合物C2形成厚膜为20nm的电子传输层,其蒸镀速率为0.1nm/s;
在电子传输层上真空蒸镀0.5nm的LiF作为电子注入层和厚度为150nm的Al层作为器件的阴极。
器件实施例2.本发明化合物作为电子传输材料
采用与实施例1相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C2替换为化合物C8。
器件实施例3.本发明化合物作为电子传输材料
采用与实施例1相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C2替换为化合物C10。
器件实施例4.本发明化合物作为电子传输材料
采用与实施例1相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C2替换为化合物C11。
器件实施例5.本发明化合物作为电子传输材料
采用与实施例1相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C2替换为化合物C13。
器件实施例6.本发明化合物作为电子传输材料
采用与实施例1相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C2替换为化合物C25。
器件实施例7.本发明化合物作为电子传输材料
采用与实施例1相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C2替换为化合物C30。
器件实施例8.本发明化合物作为电子传输材料
采用与实施例1相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C2替换为化合物C34。
器件实施例9.本发明化合物作为电子传输材料
采用与实施例1相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C2替换为化合物C36。
器件实施例10.本发明化合物作为电子传输材料
采用与实施例1相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C2替换为化合物C45。
器件实施例11.本发明化合物作为电子传输材料
采用与实施例1相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C2替换为化合物C46。
器件实施例12.本发明化合物作为电子传输材料
采用与实施例1相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C2替换为化合物C49。
器件实施例13.本发明化合物作为电子传输材料
采用与实施例1相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C2替换为化合物C53。
器件实施例14.本发明化合物作为电子传输材料
采用与实施例1相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C2替换为化合物C54。
器件实施例15.本发明化合物作为电子传输材料
采用与实施例1相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C2替换为化合物C56。
器件实施例16.本发明化合物作为磷光主体材料
采用与实施例1相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C2替换为化合物ETL1,将主体材料CBP替换为本发明化合物C5。
器件实施例17.本发明化合物作为磷光主体材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C5替换为化合物C6。
器件实施例18.本发明化合物作为磷光主体材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C5替换为化合物C12。
器件实施例19.本发明化合物作为磷光主体材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C5替换为化合物C15。
器件实施例20.本发明化合物作为磷光主体材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C5替换为化合物C18。
器件实施例21.本发明化合物作为磷光主体材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C5替换为化合物C37。
器件实施例22.本发明化合物作为磷光主体材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C5替换为化合物C39。
器件实施例23.本发明化合物作为磷光主体材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C5替换为化合物C40。
器件实施例24.本发明化合物作为磷光主体材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C5替换为化合物C43。
器件实施例25.本发明化合物作为磷光主体材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C5替换为化合物C51。
器件实施例26.本发明化合物作为磷光主体材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C5替换为化合物C60。
器件实施例27.本发明化合物作为磷光主体材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C5替换为化合物C63。
器件实施例28.本发明化合物作为磷光主体材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C5替换为化合物C81。
器件实施例29.本发明化合物作为磷光主体材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C5替换为化合物C100。
器件实施例30.选取本发明化合物作为同时作为电子传输材料以及磷光主体材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将电子传输材料ETL1替换为本发明化合物C45,将化合物C1替换为本发明化合物C41。
器件实施例31.选取本发明化合物作为同时作为电子传输材料以及磷光主体材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将电子传输材料ETL1替换为本发明化合物C51,将化合物C1替换为本发明化合物C43。
器件实施例32.选取本发明化合物作为同时作为电子传输材料以及磷光主体材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将电子传输材料ETL1替换为本发明化合物C59,将化合物C1替换为本发明化合物C58。
对比器件实施例1.使用CBP作为磷光主体材料,使用ETL1作为电子传输材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C1替换为化合物CBP。
对比器件实施例2.使用CBP作为磷光主体材料,使用ETL1作为电子传输材料,并增加一层薄CBP(5nm)激子阻挡层材料
采用与实施例16相同的方法制备得到有机电致发光器件,不同在于,将化合物C1替换为化合物CBP,并且在发光层与电子传输层之间蒸镀一层5nm后的CBP作为激子阻挡层。
在同样亮度下,测定各个应用例中制备得到的有机电致发光器件的电压、电流密度和电流效率,测定结果见下表2。
表2本发明化合物用作电子传输层材料器件的测定结果
表3本发明化合物用作磷光主体材料器件的测定结果
编号 ETL/PH 要求亮度cd/m2 电压V 电流效率Cd/A
器件实施例16 ETL1/C5 5000.00 4.9 9.4
器件实施例17 ETL1/C6 5000.00 4.8 9.5
器件实施例18 ETL1/C12 5000.00 4.7 9.6
器件实施例19 ETL1/C15 5000.00 4.8 9.5
器件实施例20 ETL1/C18 5000.00 4.7 9.3
器件实施例21 ETL1/C37 5000.00 4.8 9.4
器件实施例22 ETL1/C39 5000.00 4.9 9.5
器件实施例23 ETL1/C40 5000.00 5.0 9.6
器件实施例24 ETL1/C43 5000.00 4.7 9.7
器件实施例25 ETL1/C51 5000.00 4.9 9.6
器件实施例26 ETL1/C60 5000.00 4.8 9.6
器件实施例27 ETL1/C63 5000.00 5.0 9.5
器件实施例28 ETL1/C81 5000.00 4.9 9.6
器件实施例29 ETL1/C100 5000.00 4.8 9.5
对比实施例1 ETL1/CBP 5000.00 5.5 8.1
对比实施例2 CBP/ETL1 5000.00 5.6 8.9
表4本发明化合物同时用作电子传输材料和磷光主体材料器件的测定结果
编号 ETL/PH 要求亮度cd/m2 电压V 电流效率Cd/A
器件实施例30 C10/C5 5000.00 4.5 9.9
器件实施例31 C30/C43 5000.00 4.4 10.2
器件实施例32 C45/C51 5000.00 4.6 10.3
器件实施例33 C49/C63 5000.00 4.4 10.5
器件实施例34 C54/C81 5000.00 4.5 10.8
对比实施例1 ETL1/CBP 5000.00 5.5 8.1
对比实施例2 CBP/ETL1 5000.00 5.6 8.9
从表2的实验数据来看,与对比器件实施例1相比较,本发明的新型有机材料用于有机电致发光器件中的电子传输材料,相比较ETL1可以有效的降低起降电压,提高电流效率,是性能良好的电子传输材料。这与本发明材料具有较高的三线态能级有关,由于ETL1的三线态能级只有1.8eV,当ETL1直接与发光层相接时,由于红光染料激子的三线态能级较高(2.0eV),因而会发生从主体或者激子向ETL1发生能量传递而导致激子淬灭,引起发光效率降低。为验证这一结果,在对比器件实施例2中,当使用一层具有较高三线态能级的材料作为激子阻挡层时,可以看出能够提高器件的发光效率,而本发明化合物由于具有较高的三线态能级以及高的电子传输性能,可以进一步降低电压并提高发光效率,同时因而可以不使用激子阻挡层就能实现高的发光效率,这就起到了减少量产工艺复杂性的效果。
从表3中的数据可以看出,器件实施例16-29与对比器件实施例1,在有机电致发光器件结构中其他材料相同的情况下,本发明系列化合物代替对比器件实施例1和2中CBP作为红光主体材料。由于材料本身同时具有给电子基团和拉电子基团,使得材料具有很好的双载流子传输性能,能够有效的拓宽激子复合区域,使得三线态激子之间的淬灭显著降低,因而可以有效的提高发光效率,器件数据显示,采用本发明材料作为发光层主体材料能够降低器件工作电压和较高的电流效率显示了本发明中材料的优异的载流子传输平衡性以及能级匹配性。需要注意的时由于采用了具有较低三线态能级的电子传输材料,效率的提升幅度不是太大。
从表4中的数据可以看出,器件实施例30-34与对比器件实施例1相比,在有机电致发光器件结构中同时使用本发明中具有较高三线态能级的电子传输材料以及良好双载流子传输性能的主体材料,其他材料相同的情况下,非常显著的降低了工作电压并且显著提升了器件的发光效率。显示了本发明中材料的优异的载流子传输平衡性以及能级匹配性。
显然,上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例,而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种萘嵌间二氮杂苯衍生物,其特征在于,具有如下通式(C)所示的结构:
其中,Ar1、Ar2彼此独立的选自卤素,取代或未取代的C1-C30烷基,取代或未取代的C3-C30环烷基,取代或未取代的C2-C30杂环烷基,取代或未取代C6-C30的芳基氨基或杂芳基氨基,取代或未取代的C6-C30芳基,取代或未取代的C2-C30杂芳基;
L1、L2彼此独立的选自单键,取代或未取代C6-C30的芳基氨基或杂芳基氨基,取代或未取代的C6-C30芳基,取代或未取代的C2-C30杂芳基。
2.根据权利要求1所述的萘嵌间二氮杂苯衍生物,其特征在于,所述杂芳基或所述杂芳基氨基中的杂原子为至少一个选自B、N、O、S、P、P(=O)、Si和Se的杂原子。
3.根据权利要求1或2所述的萘嵌间二氮杂苯衍生物,其特征在于:
所述C1-C30的烷基选自C1-C10的烷基;
所述C3-C30的环烷基选自C3-C6的环烷基;
所述C6-C30的芳基氨基或杂芳基氨基包括二芳基氨基、二(杂)芳基氨基、三芳基氨基或三(杂)芳基氨基;
所述C2-C30的杂环烷基选自具有C3-C10个环骨架原子且包含至少一个所述杂原子的杂环烷基;
所述C6-C30的芳基选自C6-C20的芳基;
所述C2-C30的杂芳基选自C2-C20的杂芳基。
4.根据权利要求1-3任一项所述的萘嵌间二氮杂苯衍生物,其特征在于,
所述C1-C30的烷基包括甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、正己基、正辛基、异丁基或叔丁基;
所述C3-C30的环烷基包括环丙基、环丁基、环戊基和/或环己基;
所述C6-C30的芳基氨基或杂芳基氨基包括二苯氨基、苯基萘基氨基、4-三苯氨基、3-三苯氨基、4-[N-苯基-N-(二苯并呋喃-3-基)]苯基氨基或4-[N-苯基-N-(二苯并噻吩-3-基)]苯基氨基;
所述C2-C30杂环烷基包括四氢呋喃、吡咯烷和/或四氢噻吩;
所述C6-C30的芳基包括苯基、联苯基、三联苯基、萘基、蒽基、菲基、茚基、芴基及其衍生物、荧蒽基、三亚苯基、芘基、苝基、基和并四苯基;
所述C2-C30的杂芳基包括噻唑、苯并噻唑、菲并咪唑、菲并苯并噻吩苯并咪唑、恶唑、恶二唑、三唑、吡啶、嘧啶、三嗪、恶硼杂环、喹啉、异喹啉、喹喔啉、喹唑啉、苯并恶唑、菲并恶唑、菲并噻唑、联吡啶、菲啶、菲罗啉、咪唑并吡啶、咪唑并嘧啶、吩恶嗪、吩噻嗪、二甲基二氢吖啶、1,2,5,10-四氢二苯并硼杂苯、10,10-二甲基-5,10-四氢二苯并硼杂苯、4-联苯酰基、呋喃基、噻吩基、吡咯基、苯并呋喃基、苯并噻吩基、异苯并呋喃基、吲哚基、二苯并呋喃基、二苯并噻吩基、咔唑基及其衍生物、苯并间二氧杂环戊烯基。
5.根据权利要求1-4任一项所述的萘嵌间二氮杂苯衍生物,其特征在于,所述衍生物选自如下C1-C105所示结构:
6.权利要求1-5任一所述的萘嵌间二氮杂苯衍生物用于制备有机电致发光器件的应用。
7.根据权利要求6所述的应用,其特征在于,所述萘嵌间二氮杂苯衍生物用作电子传输材料和/或磷光主体材料。
8.一种有机电致发光器件,包括基板,以及依次形成在所述基板上的阳极层、有机发光功能层和阴极层;
所述有机发光功能层包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层以及电子传输层;其特征在于:
所述电子传输层的电子传输材料包括至少一种权利要求1-5任一所述的萘嵌间二氮杂苯衍生物材料。
9.一种有机电致发光器件,包括基板,以及依次形成在所述基板上的阳极层、有机发光功能层和阴极层;
所述有机发光功能层包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层以及电子传输层;其特征在于:
所述有机发光层的磷光主体材料包括至少一种权利要求1-5任一所述的萘嵌间二氮杂苯衍生物材料。
10.一种有机电致发光器件,包括基板,以及依次形成在所述基板上的阳极层、有机发光功能层和阴极层;
所述有机发光功能层包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层以及电子传输层;其特征在于:
所述电子传输层的电子传输材料包括至少一种权利要求1-5任一所述的萘嵌间二氮杂苯衍生物材料;以及,
所述有机发光层的磷光主体材料包括至少一种权利要求1-5任一所述的萘嵌间二氮杂苯衍生物材料。
CN201610967419.3A 2016-10-31 2016-10-31 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及其应用 Pending CN108017646A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610967419.3A CN108017646A (zh) 2016-10-31 2016-10-31 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及其应用

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610967419.3A CN108017646A (zh) 2016-10-31 2016-10-31 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及其应用

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN108017646A true CN108017646A (zh) 2018-05-11

Family

ID=62083508

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610967419.3A Pending CN108017646A (zh) 2016-10-31 2016-10-31 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及其应用

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108017646A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108017648A (zh) * 2016-10-31 2018-05-11 北京鼎材科技有限公司 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及其应用
CN108017647A (zh) * 2016-10-31 2018-05-11 北京鼎材科技有限公司 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及其应用
CN108017644A (zh) * 2016-10-31 2018-05-11 北京鼎材科技有限公司 一种含氮杂环衍生物及其应用

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107880049A (zh) * 2016-09-30 2018-04-06 北京鼎材科技有限公司 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及应用
CN108017644A (zh) * 2016-10-31 2018-05-11 北京鼎材科技有限公司 一种含氮杂环衍生物及其应用
CN108017648A (zh) * 2016-10-31 2018-05-11 北京鼎材科技有限公司 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及其应用
CN108276428A (zh) * 2017-01-06 2018-07-13 北京鼎材科技有限公司 萘嵌间二氮杂苯衍生物及应用
CN108341824A (zh) * 2017-01-24 2018-07-31 北京鼎材科技有限公司 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及应用
CN108341826A (zh) * 2017-01-24 2018-07-31 北京鼎材科技有限公司 萘嵌间二氮杂苯衍生物及其用途
CN108440543A (zh) * 2017-02-16 2018-08-24 北京鼎材科技有限公司 萘嵌间二氮杂苯衍生物

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107880049A (zh) * 2016-09-30 2018-04-06 北京鼎材科技有限公司 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及应用
CN108017644A (zh) * 2016-10-31 2018-05-11 北京鼎材科技有限公司 一种含氮杂环衍生物及其应用
CN108017648A (zh) * 2016-10-31 2018-05-11 北京鼎材科技有限公司 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及其应用
CN108276428A (zh) * 2017-01-06 2018-07-13 北京鼎材科技有限公司 萘嵌间二氮杂苯衍生物及应用
CN108341824A (zh) * 2017-01-24 2018-07-31 北京鼎材科技有限公司 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及应用
CN108341826A (zh) * 2017-01-24 2018-07-31 北京鼎材科技有限公司 萘嵌间二氮杂苯衍生物及其用途
CN108440543A (zh) * 2017-02-16 2018-08-24 北京鼎材科技有限公司 萘嵌间二氮杂苯衍生物

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108017648A (zh) * 2016-10-31 2018-05-11 北京鼎材科技有限公司 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及其应用
CN108017647A (zh) * 2016-10-31 2018-05-11 北京鼎材科技有限公司 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及其应用
CN108017644A (zh) * 2016-10-31 2018-05-11 北京鼎材科技有限公司 一种含氮杂环衍生物及其应用

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5497045B2 (ja) 新規なアントラセン誘導体およびこれを用いた有機電子素子
CN105418591B (zh) 稳定的发射体
CN102918134B (zh) 有机电致发光化合物和使用该化合物的有机电致发光器件
TWI673341B (zh) 苯並咔唑類化合物以及包括此化合物的有機發光裝置
CN105340100B (zh) 有机电致发光元件用杂环化合物及其用途
KR101356941B1 (ko) 신규한 화합물 및 이를 이용한 유기 전자 소자
KR20130114785A (ko) 신규한 유기 전계 발광 화합물 및 이를 포함하는 유기 전계 발광 소자
CN106414428A (zh) 有机电致发光化合物和包含其的有机电致发光装置
CN107573326A (zh) 新型苯并三唑衍生物和使用该衍生物的有机电致发光器件
CN106232591A (zh) 电子传输材料和包含其的有机电致发光装置
TWI627172B (zh) 新穎之嘧啶衍生物及有機電致發光元件
CN107709285A (zh) 芳基胺化合物和有机电致发光器件
CN106573912A (zh) 三嗪化合物、其制造方法、及其用途
KR102396694B1 (ko) 유기 화합물과 그 용도 및 이를 이용한 유기 전계 발광 소자
CN107406415A (zh) 嘧啶衍生物和有机电致发光器件
CN110964062A (zh) 铱复合物及使用其的有机电激发光元件
CN107778309B (zh) 一种并喹啉衍生物及其应用
CN108017646A (zh) 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及其应用
CN109535187A (zh) 化合物及其用途和有机电致发光器件
CN108017648A (zh) 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及其应用
KR20160077735A (ko) 유기발광 화합물 및 이를 포함하는 유기전계발광소자
CN109309166B (zh) 有机电致发光器件以及含有2,6,9,10-位四取代的蒽化合物
CN108017644A (zh) 一种含氮杂环衍生物及其应用
CN108017645A (zh) 一种萘嵌间二氮杂苯衍生物及其应用
CN105102408B (zh) 新型苯并菲衍生物化合物及使用其的有机发光元件

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20180511

WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication