CN107986617A - 一种耐磨玻璃杯制备工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种耐磨玻璃杯制备工艺,涉及玻璃加工技术领域,包括以下步骤:(1)制备改性二氧化硅;(2)制备改性珍珠岩;(3)得到玻璃熔融体;(4)制成成品;本发明提供的耐磨玻璃杯制备工艺,制备的玻璃杯不仅具有良好的硬度,还具有良好的耐磨性,不易被刮伤,耐摔性好。
Description
技术领域
本发明属于玻璃加工技术领域,具体涉及一种耐磨玻璃杯制备工艺。
背景技术
玻璃杯虽然通透好看,但不易保存,总得小心翼翼的放置,其实在所有材质的杯子里,玻璃杯才是最健康的,玻璃杯不含有毒的化学物质,当人们用玻璃杯喝水或者其他饮料时,不必担心有害的化学物质会被喝进肚子里,而且表面光滑,容易清洗,所以人们非常喜欢玻璃杯。
现有技术所制玻璃杯虽然具有一定的防摔裂性能,色泽美观,但所制玻璃杯硬度低,耐磨性能差。
发明内容
本发明的目的是针对现有的问题,提供了一种耐磨玻璃杯制备工艺。
本发明是通过以下技术方案实现的:
一种耐磨玻璃杯制备工艺,包括以下步骤:
(1)将二氧化硅均匀分散到质量分数为3.5-5.5%的六甲基二硅氮烷溶液中浸泡40-50min,然后进行过滤,烘干至恒重,再将处理后的二氧化硅置于超临界设备中,在压力15-18MPa,温度155-160℃,处理介质为二氧化碳,超临界处理时间15-20min,得到改性二氧化硅;
(2)将珍珠岩研磨至300目,然后将珍珠岩与质量分数为0.5-0.8%的谷氨酸钠溶液中在68-72℃下按150g:420mL的比例混合浸泡1.5小时,然后过滤,采用清水清洗一次后,再放入无水乙醇中常温浸泡40min,再过滤,烘干至恒重,然后再将珍珠岩放在580-600℃下进行煅烧20min,然后冷却至40℃,再采用等离子体处理仪对珍珠岩进行低温等离子体处理,处理时间为10-12min,电压为110V,处理完成后,即得改性珍珠岩;
(3)将(1)中制备的改性二氧化硅与步骤(2)制备的改性珍珠岩按100:12-15质量比例混合后,添加到熔炉,再添加改性二氧化硅质量5-6%的氧化钙和改性二氧化硅质量0.1-0.3%的硬脂酸钙,密封后加热至混合物料温度为1620-1650℃,保温8-10h,待混合料达到熔融状态,得玻璃熔融体;
(4)将玻璃熔融体送入成型机,挤压成型,制成规格不同的玻璃杯,随后自然降温至硬化后送入退火炉内退火30-40min,即得。
进一步的,所述步骤(1)中二氧化硅粒度为250-300目。
进一步的,所述六甲基二硅氮烷溶液为六甲基二硅氮烷溶于丙酮中制成。
进一步的,所述步骤(2)中珍珠岩粒度为400目。
进一步的,所述步骤(2)中等离子体处理,处理源为辉光放电、处理气体为空气,处理室真空度为0.032MPa。
本发明相比现有技术具有以下优点:本发明提供的耐磨玻璃杯制备工艺,制备的玻璃杯不仅具有良好的硬度,还具有良好的耐磨性,不易被刮伤,耐摔性好,通过对二氧化硅进行改性处理,通过将改性二氧化硅与改性珍珠岩进行协同加工制备玻璃杯,不仅能够一定程度上提高拉伸强度和定升应力,同时改性珍珠岩能够有效的提高玻璃杯的保温效果,改性珍珠岩分散在玻璃基体中,形成无机网络结构,与改性二氧化硅相互渗透,能够显著的提高玻璃杯的致密度,提高了玻璃杯的硬度性能,增强了使用寿命;通过在添加氧化钙的同时添加一定量的硬脂酸钙,能够在玻璃杯表面形成的复合物,显著的降低了玻璃杯表面摩擦系数,加工制成的玻璃杯耐磨性能得到大幅度的提高。
具体实施方式
实施例1
一种耐磨玻璃杯制备工艺,包括以下步骤:
(1)将二氧化硅均匀分散到质量分数为3.5%的六甲基二硅氮烷溶液中浸泡40min,然后进行过滤,烘干至恒重,再将处理后的二氧化硅置于超临界设备中,在压力15MPa,温度155℃,处理介质为二氧化碳,超临界处理时间15min,得到改性二氧化硅;
(2)将珍珠岩研磨至300目,然后将珍珠岩与质量分数为0.5%的谷氨酸钠溶液中在68℃下按150g:420mL的比例混合浸泡1.5小时,然后过滤,采用清水清洗一次后,再放入无水乙醇中常温浸泡40min,再过滤,烘干至恒重,然后再将珍珠岩放在580-600℃下进行煅烧20min,然后冷却至40℃,再采用等离子体处理仪对珍珠岩进行低温等离子体处理,处理时间为10min,电压为110V,处理完成后,即得改性珍珠岩;
(3)将(1)中制备的改性二氧化硅与步骤(2)制备的改性珍珠岩按100:12质量比例混合后,添加到熔炉,再添加改性二氧化硅质量5%的氧化钙和改性二氧化硅质量0.1%的硬脂酸钙,密封后加热至混合物料温度为1620℃,保温8h,待混合料达到熔融状态,得玻璃熔融体;
(4)将玻璃熔融体送入成型机,挤压成型,制成规格不同的玻璃杯,随后自然降温至硬化后送入退火炉内退火30min,即得。
进一步的,所述步骤(1)中二氧化硅粒度为250目。
进一步的,所述六甲基二硅氮烷溶液为六甲基二硅氮烷溶于丙酮中制成。
进一步的,所述步骤(2)中珍珠岩粒度为400目。
进一步的,所述步骤(2)中等离子体处理,处理源为辉光放电、处理气体为空气,处理室真空度为0.032MPa。
实施例2
一种耐磨玻璃杯制备工艺,包括以下步骤:
(1)将二氧化硅均匀分散到质量分数为5.5%的六甲基二硅氮烷溶液中浸泡50min,然后进行过滤,烘干至恒重,再将处理后的二氧化硅置于超临界设备中,在压力18MPa,温度160℃,处理介质为二氧化碳,超临界处理时间20min,得到改性二氧化硅;
(2)将珍珠岩研磨至300目,然后将珍珠岩与质量分数为0.8%的谷氨酸钠溶液中在72℃下按150g:420mL的比例混合浸泡1.5小时,然后过滤,采用清水清洗一次后,再放入无水乙醇中常温浸泡40min,再过滤,烘干至恒重,然后再将珍珠岩放在600℃下进行煅烧20min,然后冷却至40℃,再采用等离子体处理仪对珍珠岩进行低温等离子体处理,处理时间为12min,电压为110V,处理完成后,即得改性珍珠岩;
(3)将(1)中制备的改性二氧化硅与步骤(2)制备的改性珍珠岩按100:15质量比例混合后,添加到熔炉,再添加改性二氧化硅质量6%的氧化钙和改性二氧化硅质量0.3%的硬脂酸钙,密封后加热至混合物料温度为1650℃,保温8-10h,待混合料达到熔融状态,得玻璃熔融体;
(4)将玻璃熔融体送入成型机,挤压成型,制成规格不同的玻璃杯,随后自然降温至硬化后送入退火炉内退火40min,即得。
进一步的,所述步骤(1)中二氧化硅粒度为300目。
进一步的,所述六甲基二硅氮烷溶液为六甲基二硅氮烷溶于丙酮中制成。
进一步的,所述步骤(2)中珍珠岩粒度为400目。
进一步的,所述步骤(2)中等离子体处理,处理源为辉光放电、处理气体为空气,处理室真空度为0.032MPa。
实施例3
一种耐磨玻璃杯制备工艺,包括以下步骤:
(1)将二氧化硅均匀分散到质量分数为3.8%的六甲基二硅氮烷溶液中浸泡45min,然后进行过滤,烘干至恒重,再将处理后的二氧化硅置于超临界设备中,在压力16MPa,温度158℃,处理介质为二氧化碳,超临界处理时间18min,得到改性二氧化硅;
(2)将珍珠岩研磨至300目,然后将珍珠岩与质量分数为0.6%的谷氨酸钠溶液中在70℃下按150g:420mL的比例混合浸泡1.5小时,然后过滤,采用清水清洗一次后,再放入无水乙醇中常温浸泡40min,再过滤,烘干至恒重,然后再将珍珠岩放在590℃下进行煅烧20min,然后冷却至40℃,再采用等离子体处理仪对珍珠岩进行低温等离子体处理,处理时间为11min,电压为110V,处理完成后,即得改性珍珠岩;
(3)将(1)中制备的改性二氧化硅与步骤(2)制备的改性珍珠岩按100:13质量比例混合后,添加到熔炉,再添加改性二氧化硅质量5.6%的氧化钙和改性二氧化硅质量0.2%的硬脂酸钙,密封后加热至混合物料温度为1630℃,保温9h,待混合料达到熔融状态,得玻璃熔融体;
(4)将玻璃熔融体送入成型机,挤压成型,制成规格不同的玻璃杯,随后自然降温至硬化后送入退火炉内退火35min,即得。
进一步的,所述步骤(1)中二氧化硅粒度为280目。
进一步的,所述六甲基二硅氮烷溶液为六甲基二硅氮烷溶于丙酮中制成。
进一步的,所述步骤(2)中珍珠岩粒度为400目。
进一步的,所述步骤(2)中等离子体处理,处理源为辉光放电、处理气体为空气,处理室真空度为0.032MPa。
对比例1:与实施例1区别仅在于不采用六甲基二硅氮烷溶液对二氧化硅进行处理。
对比例2:与实施例1区别仅在于将改性珍珠岩替换为未处理珍珠岩。
对比例3:与实施例1区别仅在于不添加硬脂酸钙。
试验:
对实施例与对比例制备的相同规格的玻璃杯进行性能检测;
表1
定伸应力MPa | 摩擦系数 | |
实施例1 | 2.36 | 0.0436 |
实施例2 | 2.32 | 0.0452 |
实施例3 | 2.33 | 0.0443 |
对比例1 | 2.05 | 0.0682 |
对比例2 | 1.93 | 0.0963 |
对比例3 | 2.28 | 0.0568 |
由表1可以看出,本发明方法制备的玻璃杯性能优异。
Claims (5)
1.一种耐磨玻璃杯制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:
(1)将二氧化硅均匀分散到质量分数为3.5-5.5%的六甲基二硅氮烷溶液中浸泡40-50min,然后进行过滤,烘干至恒重,再将处理后的二氧化硅置于超临界设备中,在压力15-18MPa,温度155-160℃,处理介质为二氧化碳,超临界处理时间15-20min,得到改性二氧化硅;
(2)将珍珠岩研磨至300目,然后将珍珠岩与质量分数为0.5-0.8%的谷氨酸钠溶液中在68-72℃下按150g:420mL的比例混合浸泡1.5小时,然后过滤,采用清水清洗一次后,再放入无水乙醇中常温浸泡40min,再过滤,烘干至恒重,然后再将珍珠岩放在580-600℃下进行煅烧20min,然后冷却至40℃,再采用等离子体处理仪对珍珠岩进行低温等离子体处理,处理时间为10-12min,电压为110V,处理完成后,即得改性珍珠岩;
(3)将(1)中制备的改性二氧化硅与步骤(2)制备的改性珍珠岩按100:12-15质量比例混合后,添加到熔炉,再添加改性二氧化硅质量5-6%的氧化钙和改性二氧化硅质量0.1-0.3%的硬脂酸钙,密封后加热至混合物料温度为1620-1650℃,保温8-10h,待混合料达到熔融状态,得玻璃熔融体;
(4)将玻璃熔融体送入成型机,挤压成型,制成规格不同的玻璃杯,随后自然降温至硬化后送入退火炉内退火30-40min,即得。
2.如权利要求1所述的一种耐磨玻璃杯制备工艺,其特征在于,所述步骤(1)中二氧化硅粒度为250-300目。
3.如权利要求1所述的一种耐磨玻璃杯制备工艺,其特征在于,所述六甲基二硅氮烷溶液为六甲基二硅氮烷溶于丙酮中制成。
4.如权利要求1所述的一种耐磨玻璃杯制备工艺,其特征在于,所述步骤(2)中珍珠岩粒度为400目。
5.如权利要求1所述的一种耐磨玻璃杯制备工艺,其特征在于,所述步骤(2)中等离子体处理,处理源为辉光放电、处理气体为空气,处理室真空度为0.032MPa。
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