CN107904553B - 掩模板结构 - Google Patents

Abstract

一种掩模板结构，包括框架及若干掩膜板，若干掩膜板均设置于框架上，掩膜板的上侧面开设有若干第一嵌置槽，每一掩膜板上相邻第一嵌置槽的区域形成有显示区；掩模板结构还包括上支撑条，上支撑条的两端连接框架，上支撑条的下侧面开设有若干第二嵌置槽，第一嵌置槽与第二嵌置槽相对应，以使第一嵌置槽与第二嵌置槽相互嵌置，上支撑条的上侧面与掩膜板的上侧面平齐。上述掩模板结构，通过在掩膜板的上侧面开设有若干第一嵌置槽，且通过设置上支撑条，在上支撑条的下侧面开设有若干第二嵌置槽，下支撑条的第二嵌置槽对应嵌置于掩膜板的第一嵌置槽内时，能够在一定程度上压平掩膜板上的褶皱，从而能够减少掩膜板上的褶皱，能够提高产品质量。

Description

掩模板结构

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩模板结构。

背景技术

目前，掩模板结构的主要制作工艺是将支撑条、遮挡条和高精度精细的掩模板依次分别焊接在框架上，用来蒸镀AMOLED(Active-matrix organic light emitting diode)的特定膜层。

但是，使用上述工艺制作出的掩模板结构会产生以下问题：高精度精细的掩模板在张网机张拉时，因其图案开口及其他非开口区在拉力作用下产生的应变不同，会产生相应的褶皱，当掩模板与基板玻璃进行贴合时，此褶皱区无法完全贴合，在产品中会产生相应的混色缺陷，使得产品质量较差。

发明内容

基于此，有必要提供一种能够减少褶皱以及能够提高产品质量的掩模板。

一种掩模板结构，包括框架及若干掩膜板，若干所述掩膜板均设置于所述框架上，所述掩膜板的上侧面开设有若干第一嵌置槽，每一所述掩膜板上相邻所述第一嵌置槽的区域形成有显示区；

所述掩模板结构还包括上支撑条，所述上支撑条的两端连接所述框架，所述上支撑条的下侧面开设有若干第二嵌置槽，所述第一嵌置槽与所述第二嵌置槽相对应，以使所述第一嵌置槽与所述第二嵌置槽相互嵌置，所述上支撑条的上侧面与所述掩膜板的上侧面平齐。

在其中一个实施例中，掩模板结构还包括若干下支撑条；

所述框架包括顺序首尾连接的第一侧边、第二侧边、第三侧边以及第四侧边，所述第一侧边与所述第三侧边相对设置，所述第二侧边与所述第四侧边相对设置，各所述下支撑条的第一端分别连接所述第一侧边，各所述下支撑条的第二端分别连接所述第三侧边；

各所述掩膜板的第一端分别连接所述第二侧边，各所述掩膜板的第二端分别连接所述第四侧边；

各所述上支撑条的两端分别连接所述第一侧边及所述第三侧边，各所述掩膜板的下侧面均与所述下支撑条的上侧面抵持。

在其中一个实施例中，所述第一侧边上开设有若干第一凹槽，所述第三侧边上开设有若干第三凹槽，各所述第一凹槽与各所述第三凹槽一一对应设置；

各所述下支撑条的第一端连接所述第一凹槽的内侧壁，各所述下支撑条的第二端连接所述第三凹槽的内侧壁；

各所述上支撑条的第一端连接所述第一凹槽的内侧壁，各所述上支撑条的第二端连接所述第三凹槽的内侧壁。

在其中一个实施例中，掩模板结构还包括若干遮挡条，

所述第二侧边上开设有若干第二凹槽，所述第四侧边上开设有若干第四凹槽，各所述第二凹槽与各所述第四凹槽一一对应设置；

各所述遮挡条的第一端连接一所述第二凹槽的内侧壁，各所述遮挡条的第二端连接与所述第二凹槽对应的所述第四凹槽的内侧壁；且若干遮挡条均分别与若干下支撑条交叉设置。

在其中一个实施例中，所述下支撑条上开设有若干容置槽，每一所述遮挡条依次嵌置于各所述下支撑条上的一所述容置槽内。

在其中一个实施例中，所述遮挡条的上侧面与所述下支撑条的上侧面平齐。

在其中一个实施例中，所述遮挡条的高度与所述容置槽的深度相等。

在其中一个实施例中，所述第二凹槽的深度与所述遮挡条的高度相等。

在其中一个实施例中，若干掩膜板间隔设置于所述框架上，且相邻两个所述掩膜板的间距相等。

在其中一个实施例中，所述遮挡条具有长方体结构。

上述掩模板结构，通过在所述掩膜板的上侧面开设有若干第一嵌置槽，且通过设置所述上支撑条，在所述上支撑条的下侧面开设有若干第二嵌置槽，下支撑条的第二嵌置槽对应嵌置于所述掩膜板的第一嵌置槽内时，能够在一定程度上压平掩膜板上的褶皱，从而能够减少所述掩膜板上的褶皱，能够提高产品质量。

附图说明

图1为本发明一实施方式的掩模板结构的结构示意图；

图2为本发明一实施方式的掩模板结构的分解图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施方式。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本发明的公开内容理解的更加透彻全面。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本发明。此外，本发明可以在不同例子中重复参考数字和/或字母。这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施例和/或设置之间的关系。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是机械连接或电连接，也可以是两个元件内部的连通，可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语的具体含义。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。在本发明的描述中，“若干”的含义是至少一个，例如一个，两个等，除非另有明确具体的限定。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

例如，一种掩模板结构，包括框架及若干掩膜板，若干所述掩膜板均设置于所述框架上，所述掩膜板的上侧面开设有若干第一嵌置槽，每一所述掩膜板上相邻所述第一嵌置槽的区域形成有显示区；所述掩模板结构还包括上支撑条，所述上支撑条的两端连接所述框架，所述上支撑条的下侧面开设有若干第二嵌置槽，所述第一嵌置槽与所述第二嵌置槽相对应，以使所述第一嵌置槽与所述第二嵌置槽相互嵌置，所述上支撑条的上侧面与所述掩膜板的上侧面平齐。

为了进一步说明上述掩模板结构，又一个例子是，请参阅图1及图2，掩模板结构10包括框架100、若干掩膜板200及若干上支撑条300，若干所述掩膜板200均设置于所述框架100上。又如，若干所述掩膜板焊接于所述框架上。又如，若干掩膜板间隔设置于所述框架上，且相邻两个所述掩膜板的间距相等。所述框架提供整体支撑及安装作用，所述掩膜板通过在其上留有预先设计好的开口和图案，使得有机材料能够通过其蒸发到掩膜板上的基板上，所述上支撑条用于压平并减少掩膜板上的褶皱，所述上支撑条还用于多所述掩膜板提供一定的支撑作用。

请参阅图1及图2，所述掩膜板200的上侧面210开设有若干第一嵌置槽211，每一所述掩膜板200上相邻所述第一嵌置槽211的区域形成有显示区212；所述显示区用于开设开口和图案，使得有机材料能够通过其蒸发到掩膜板上的基板上。通过在显示区上留有预先设计好的开口和图案，使得有机材料能够通过其蒸发到基板上。

请参阅图1及图2，所述上支撑条300的两端连接所述框架100，所述上支撑条300的下侧面开设有若干第二嵌置槽311，所述第一嵌置槽211与所述第二嵌置槽311相对应，以使所述第一嵌置槽211与所述第二嵌置槽311相互嵌置，所述上支撑条300的上侧面与所述掩膜板200的上侧面平齐。又如，所述上支撑条焊接于所述框架上，又如，所述上支撑条300的两端分别焊接于所述框架。通过开设若干第一嵌置槽，主要是减少在掩模板与基板玻璃贴合时，因掩模板和上支撑条接触区域与掩模板其他区域的高度差，而存在的间隙，通过开设若干第二嵌置槽，主要是减少掩模板与基板玻璃贴合时，因掩模板和上支撑条接触区域与掩模板其他区域的高度差，而存在的间隙，同时压平掩模板张拉时产生的褶皱。上述掩模板结构，通过在所述掩膜板的上侧面开设有若干第一嵌置槽，且通过设置所述上支撑条，在所述上支撑条的下侧面开设有若干第二嵌置槽，下支撑条的第二嵌置槽对应嵌置于所述掩膜板的第一嵌置槽内时，能够在一定程度上压平掩膜板上的褶皱，从而能够减少所述掩膜板上的褶皱，能够提高产品质量。

一实施例中，请参阅图1及图2，掩模板结构还包括若干下支撑条400；若干所述下支撑条用于为所述掩膜板提供进一步的支撑作用，使得掩膜板中部区域不易下凹，能够较为平整，以进一步的减少掩膜板上的褶皱。所述框架100包括依次顺序首尾连接的第一侧边110、第二侧边120、第三侧边130以及第四侧边140，所述第一侧边与所述第三侧边相对设置，所述第二侧边与所述第四侧边相对设置，各所述下支撑条400的第一端分别连接所述第一侧边110，各所述下支撑条400的第二端分别连接所述第三侧边130；各所述掩膜板200的第一端分别连接所述第二侧边120，各所述掩膜板200的第二端分别连接所述第四侧边140；各所述上支撑条300的两端分别连接所述第一侧边110及所述第三侧边130，即，各所述上支撑条300的第一端连接所述第一侧边110，各所述上支撑条300的第二端连接所述第三侧边130，各所述掩膜板200的下侧面均与所述下支撑条400的上侧面抵持。又如，各所述下支撑条的第一端焊接所述第一侧边，各所述下支撑条的第二端焊接所述第三侧边。又如，各所述掩膜板的第一端焊接所述第二侧边，各所述掩膜板的第二端焊接所述第四侧边；又如，各所述上支撑条的两端分别焊接所述第一侧边及所述第三侧边。如此，若干所述下支撑条用于为所述掩膜板提供进一步的支撑作用，使得掩膜板中部区域不易下凹，能够较为平整，以进一步的减少掩膜板上的褶皱。

一实施例中，请参阅图1及图2，所述第一侧边110上开设有若干第一凹槽111，所述第三侧边130上开设有若干第三凹槽131，各所述第一凹槽111与各所述第三凹槽131一一对应设置。各所述下支撑条400的第一端连接所述第一凹槽111的内侧壁，各所述下支撑条400的第二端连接所述第三凹槽130的内侧壁；各所述上支撑条300的第一端连接所述第一凹槽111的内侧壁，各所述上支撑条300的第二端连接所述第三凹槽131的内侧壁。如此，通过设置所述第一凹槽及第二凹槽，能够较好地安装所述上支撑条和所述下支撑条。又如，各所述下支撑条的第一端焊接所述第一凹槽的内侧壁，各所述下支撑条的第二端焊接所述第三凹槽的内侧壁；各所述上支撑条的第一端焊接所述第一凹槽的内侧壁，各所述上支撑条的第二端焊接所述第三凹槽的内侧壁。又如，各所述下支撑条的第一端容置所述第一凹槽内并与所述第一凹槽的内侧壁焊接，各所述下支撑条的第二端容置所述第三凹槽内并与所述第三凹槽的内侧壁焊接；各所述上支撑条的第一端容置于所述第一凹槽内并与所述第一凹槽的内侧壁焊接，各所述上支撑条的第二端容置于所述第三凹槽内并与所述第三凹槽的内侧壁焊接。当然，此处容置也可以理解为嵌置。

一实施例中，请参阅图1及图2，掩模板结构还包括若干遮挡条500，所述遮挡条用于遮挡相邻掩膜板之间的间隙。所述第二侧边120上开设有若干第二凹槽121，所述第四侧边140上开设有若干第四凹槽141，各所述第二凹槽121与各所述第四凹槽141一一对应设置；各所述遮挡条500的第一端连接一所述第二凹槽121的内侧壁，各所述遮挡条500的第二端连接与所述第二凹槽121对应的所述第四凹槽141的内侧壁；且若干遮挡条500均分别与若干下支撑条400交叉设置。又如，若干遮挡条均分别与若干下支撑条垂直设置。又如，所述遮挡条具有长方体结构。如此，通过设置所述遮挡条，所述遮挡条用于遮挡相邻掩膜板之间的间隙。

能够理解的是，遮挡条与下支撑条的交叉位置处与掩膜板接触时，容易因为交叉位置处稍稍凸起使得掩膜板与下支撑条之间出现间隙，当进行产品蒸镀时，此处间隙在一定程度上会造成显示混色，从而影响产品质量。为了解决上述问题，一实施例中，所述下支撑条400上开设有若干容置槽410，每一所述遮挡条500依次嵌置于各所述下支撑条400上的一所述容置槽410内。又如，所述遮挡条的高度与所述容置槽的深度相等。又如，所述遮挡条的上侧面与所述下支撑条的上侧面平齐。又如，所述第二凹槽的深度与所述遮挡条的高度相等。如此，在下支撑条与遮挡条的交叉区域开设容置槽，避免存在高度差，能够减少遮挡条与下支撑条的交叉位置处的凸起产生的掩膜板与下支撑条之间的间隙，能够减少产品混色，从而能够提高产品质量。

上述掩模板结构，通过在所述掩膜板的上侧面开设有若干第一嵌置槽，且通过设置所述上支撑条，在所述上支撑条的下侧面开设有若干第二嵌置槽，下支撑条的第二嵌置槽对应嵌置于所述掩膜板的第一嵌置槽内时，能够在一定程度上压平掩膜板上的褶皱，从而能够减少所述掩膜板上的褶皱，能够提高产品质量。

一实施例中，所述第一嵌置槽通过半刻蚀形成。又如，所述第一嵌置槽通过半刻蚀处理形成。又如，所述第一嵌置槽通过采用刻蚀液半刻蚀处理形成。又如，所述半刻蚀液包括如下质量份的各组分：乙二酸0.5份～12.5份、三氟甲烷磺酸4.5份～7.5份及水85份～97份，采用上述质量份的各组分的半刻蚀液，能够较好地形成所述第一嵌置槽，使得半刻蚀工艺刻蚀性能好、无残渣、环境污染小等特点，且上述各组分不易挥发，浸润性好，非常利于对掩膜版进行半刻蚀处理。又如，所述半刻蚀液包括如下质量份的各组分：乙二酸4.5份～5.2份、三氟甲烷磺酸5.8份～7.1份及水87份～90份，又如，所述半刻蚀液包括如下质量份的各组分：乙二酸4.9份、三氟甲烷磺酸6.5份及水89.5份，如此，采用上述质量份的各组分的半刻蚀液，能够较好地形成所述第一嵌置槽，使得半刻蚀工艺刻蚀性能好、无残渣、环境污染小等特点，且上述各组分不易挥发，浸润性好，非常有利于对掩膜版进行半刻蚀处理。又如，所述第二嵌置槽通过半刻蚀形成。又如，所述第二嵌置槽通过半刻蚀处理形成。又如，所述第二嵌置槽通过采用如上任一实施例所述的刻蚀液半刻蚀处理形成，如此采用上述质量份的各组分的半刻蚀液，能够较好地形成所述第二嵌置槽，使得半刻蚀工艺刻蚀性能好、无残渣、环境污染小等特点，且上述各组分不易挥发，浸润性好，非常利于对掩膜版进行半刻蚀处理。又如，所述容置槽通过半刻蚀形成。又如，所述容置槽通过半刻蚀处理形成。又如，所述容置槽通过采用如上任一所述的刻蚀液半刻蚀处理形成，如此采用上述质量份的各组分的半刻蚀液，能够较好地形成所述容置槽，使得半刻蚀工艺刻蚀性能好、无残渣、环境污染小等特点，且上述各组分不易挥发，浸润性好，非常利于对掩膜版进行半刻蚀处理。

本发明提供了一新型掩模板结构，能够减少掩模板在张网时产生的褶皱，降低产品缺陷，提高良率。本发明提供了一种新的掩模板制作方案，即依次将带有半刻蚀的下支撑条、遮挡条、半刻蚀的高精度精细掩模板、带有半刻蚀的上支撑条焊接在框架上。又如，半刻蚀的高精度精细掩模板亦简称为掩模板。当然，考虑到实际，掩膜板也可以为其它形式的掩模板。其中下支撑条主要起到支撑高精度精细的掩模板的作用，遮挡条遮挡高精度精细掩模板之间的间隙，半刻蚀的下支撑条与遮挡条结合，避免了其交叉处附近的间隙。上支撑条在掩模板与玻璃贴合时，能够很好的压平高精度精细掩模板张拉时产生的褶皱，同时，高精度精细掩模板与上支撑条都分别在相接触区域做半刻蚀处理，避免了高精度精细掩模板和上支撑条接触区域与精度精细掩模板其他区域的高度差，而存在的间隙。能够在一定程度上消除了高精度精细掩模板因应力不同产生的褶皱，同时能够很好的避免下支撑条与遮挡条交叉处附近的间隙，大幅度的降低了掩模板与基板玻璃之间的贴合间隙及褶皱，提高了AMOLED良率。上述掩模板结构，能够很好的减少掩模板与基板玻璃贴合时存在的褶皱与间隙，从而能够提高产品良率。将高精度精细掩模板两CELL(指显示区)之间半刻蚀处理，主要是减少掩模板与基板玻璃贴合时，因高精度精细掩模板和上支撑条接触区域与高精度精细掩模板其他区域的高度差，而存在的间隙。在下支撑条上与遮挡条的交叉区域进行半刻蚀处理，避免存在高度差。将上支撑条与高精度精细掩模板的接触区域做半刻蚀处理，主要是避免掩模板与基板玻璃贴合时，因高精度精细掩模板和上支撑条接触区域与高精度精细掩模板其他区域的高度差，而存在的间隙，同时压平高精度精细掩模板张拉时产生的褶皱。本申请的掩模板，通过在其上留有预先设计好的开口和图案，使得有机材料能够通过其蒸发到基板。本申请的下支撑条，通过一定张力焊接在框架上，放在高精度精细掩模板底部，用来支撑高精度精细掩模板。本申请的遮挡条，通过一定张力焊接在框架上，放在下支撑条上面，用来遮挡高精度精细掩模板之间的缝隙。又如，本申请的掩模板包括但不限于指AMOLED领域有机像素成膜所用掩模板。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种掩模板结构，包括框架及若干掩膜板，若干所述掩膜板均间隔设置于所述框架上，其特征在于，所述掩膜板的上侧面开设有若干第一嵌置槽，每一所述掩膜板上相邻所述第一嵌置槽的区域形成有显示区；

所述掩模板结构还包括上支撑条，所述上支撑条的两端连接所述框架，所述上支撑条的下侧面开设有若干第二嵌置槽，所述第一嵌置槽与所述第二嵌置槽相对应，以使所述第一嵌置槽与所述第二嵌置槽相互嵌置，所述上支撑条的上侧面与所述掩膜板的上侧面平齐；

其中，所述框架包括顺序首尾连接的第一侧边、第二侧边、第三侧边以及第四侧边，所述第一侧边与所述第三侧边相对设置，所述第二侧边与所述第四侧边相对设置；各所述掩膜板的第一端分别连接所述第二侧边，各所述掩膜板的第二端分别连接所述第四侧边；各所述上支撑条的两端分别连接所述第一侧边及所述第三侧边；

所述掩模板结构还包括若干下支撑条；各所述下支撑条的第一端分别连接所述第一侧边，各所述下支撑条的第二端分别连接所述第三侧边；各所述掩膜板的下侧面均与所述下支撑条的上侧面抵持；

所述掩模板结构还包括若干遮挡条，所述遮挡条用于遮挡相邻掩膜板之间的间隙。

2.根据权利要求1所述的掩模板结构，其特征在于，若干所述掩膜板焊接于所述框架上。

3.根据权利要求1所述的掩模板结构，其特征在于，所述第一侧边上开设有若干第一凹槽，所述第三侧边上开设有若干第三凹槽，各所述第一凹槽与各所述第三凹槽一一对应设置；

各所述下支撑条的第一端连接所述第一凹槽的内侧壁，各所述下支撑条的第二端连接所述第三凹槽的内侧壁；

各所述上支撑条的第一端连接所述第一凹槽的内侧壁，各所述上支撑条的第二端连接所述第三凹槽的内侧壁。

4.根据权利要求3所述的掩模板结构，其特征在于，所述第二侧边上开设有若干第二凹槽，所述第四侧边上开设有若干第四凹槽，各所述第二凹槽与各所述第四凹槽一一对应设置；

各所述遮挡条的第一端连接一所述第二凹槽的内侧壁，各所述遮挡条的第二端连接与所述第二凹槽对应的所述第四凹槽的内侧壁；且若干遮挡条均分别与若干下支撑条交叉设置。

5.根据权利要求4所述的掩模板结构，其特征在于，所述下支撑条上开设有若干容置槽，每一所述遮挡条依次嵌置于各所述下支撑条上的一所述容置槽内。

6.根据权利要求5所述的掩模板结构，其特征在于，所述遮挡条的上侧面与所述下支撑条的上侧面平齐。

7.根据权利要求6所述的掩模板结构，其特征在于，所述遮挡条的高度与所述容置槽的深度相等。

8.根据权利要求5所述的掩模板结构，其特征在于，所述第二凹槽的深度与所述遮挡条的高度相等。

9.根据权利要求4所述的掩模板结构，其特征在于，若干掩膜板间隔设置于所述框架上，且相邻两个所述掩膜板的间距相等。

10.根据权利要求4所述的掩模板结构，其特征在于，所述遮挡条具有长方体结构。

Images