CN107829119B - 一种稀土层状氢氧化物薄膜的直接制备方法 - Google Patents

一种稀土层状氢氧化物薄膜的直接制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107829119B
CN107829119B CN201710930981.3A CN201710930981A CN107829119B CN 107829119 B CN107829119 B CN 107829119B CN 201710930981 A CN201710930981 A CN 201710930981A CN 107829119 B CN107829119 B CN 107829119B
Authority
CN
China
Prior art keywords
film
rare earth
electrode
electric depositing
depositing solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201710930981.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107829119A (zh
Inventor
武晓鹂
黄俊杰
周杰伟
蓝晶月
唐晓玲
潘冰冰
张铁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guilin University of Technology
Original Assignee
Guilin University of Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guilin University of Technology filed Critical Guilin University of Technology
Priority to CN201710930981.3A priority Critical patent/CN107829119B/zh
Publication of CN107829119A publication Critical patent/CN107829119A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107829119B publication Critical patent/CN107829119B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D9/00—Electrolytic coating other than with metals
    • C25D9/04—Electrolytic coating other than with metals with inorganic materials
    • C25D9/08—Electrolytic coating other than with metals with inorganic materials by cathodic processes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

本发明公开了一种Ln2(OH)5NO3·nH2O稀土层状氢氧化物薄膜的直接制备方法。将Ln(NO3)3·6H2O溶解于去离子水中配制成稀土离子浓度为0.005～1mol/L的稀土离子溶液，然后加入添加剂，混合均匀后获得电沉积溶液，置于水浴中，使其温度达到所需温度；在电沉积溶液中插入三电极体系，通过电沉积反应在在工作电极上沉积一层薄膜，将薄膜分别用去离子水、无水乙醇冲洗，然后置于鼓风干燥箱中干燥，制得Ln2(OH)5NO3·nH2O薄膜。本发明操作简单，相比于先做粉后成膜的传统方法，极大地简化了薄膜制备方法，同时避免了粉末形貌对成膜质量的影响；并且本发明提供的方法操作简单，耗时短，薄膜质量好。

Description

一种稀土层状氢氧化物薄膜的直接制备方法
技术领域
本发明属于材料学技术领域，特别涉及一种Ln2(OH)5NO3·nH2O稀土层状氢氧化物薄膜的直接制备方法
背景技术
通式为Ln8(OH)20(Am-)4/m·nH2O(Ln：稀土离子；A：电荷平衡阴离子；m＝1-3；n＝6-7)的稀土层状氢氧化物是一种新型阴离子型层状化合物，同时兼备了层状化合物的结构特征以及稀土材料的光、电、磁性能，是光电器件所用透明荧光薄膜的理想构筑单元。
目前制备LRH纳米片的方法有水热合成法、均相沉淀法以及低温常压沉淀法。其中，水热法和均相沉淀法所采用的温度较高(100-200℃)，依据层状化合物的结晶习性，温度高的体系不仅有利于层状化合物沿ab方向的生长，同时也为沿c-轴方向生长提供了足够的能量，因而水热法和均相沉淀法制备的LRH纳米片结晶好，厚度也较厚(其二维尺寸分布在0.1-10μm之间，而厚度分布在几十nm到几μm之间)，这种类似于刚性的结构不是制备透明荧光薄膜理想的结构单元，后续薄膜的制备还需要经历插层柱撑、剥离、自组装的步骤。而低温常压沉淀法是在冰水浴(～4-5℃)中合成LRH纳米片，由于层状化合物沿ab方向的生长所需能量较低，而沿c-轴方向生长所需能量较高，因而低温沉淀法限制了LRH纳米片沿c-轴的生长，所获纳米片较薄(3-5nm)，但由于合成体系能量较低，所获LRH纳米片容易团聚在一起，呈现为3D花样形貌，因而不具备制备透明荧光薄膜的理想形貌。
目前制备LRH透明荧光薄膜的方法需要经历以下步骤：1)LRH纳米片的合成，采用水热法或者均相沉淀法制备LRH纳米片，合成温度为100-200℃，合成时间为12-72h；2)LRH纳米片的插层柱撑，在常温下或者水热环境下进行离子交换，将有机大离子插入层间以增大层间距，通常采用的有机大离子有十二烷基磺酸根DS-、油酸根等，由于LRH层板的电荷密度较大，因而插层完全所需要的时间较长(24-72h)，置换后LRH的层间距由原来的～0.9nm增加到～2.4nm，预示了良好的可剥离性；3)剥离，将插层化合物置于(如甲酰胺、甲苯有机溶剂等)中，并施以一定的机械扰动力或者采用超声震荡的方法削弱层间作用力使LRH基本单元纳米片(一个层板)脱离其原来长程有序的结构，以孤立的状态存在；4)以剥离开来的基本单元纳米片作为基本结构单元，采用离心甩涂或者浸渍提拉涂布技术在经过浸润预处理的石英基底上制备LRH透明荧光薄膜并通过层层叠加的方式控制膜厚。
综上，制备LRH透明荧光薄膜需要经历合成、插层柱撑、剥离以及组装成膜的步骤，整个过程耗时较长，且在每个步骤需要消耗大量的能源动力，此外还存在插层难且插层不完全以及剥离过程中由于机械作用导致的纳米片破碎等现象，因而在极大程度上影响薄膜的质量。
发明内容
针对上述现有技术存在的问题，本发明的目的是提供一种Ln2(OH)5NO3·nH2O稀土层状氢氧化物薄膜的直接制备方法，该方法采用三电极电化学沉积技术直接在工作电极上获得一层薄膜，过程简单、耗时较短，所得薄膜平整且致密。
具体步骤为：
1、一种Ln2(OH)5NO3·nH2O稀土层状氢氧化物薄膜的直接制备方法，其特征在于具体步骤为：
(1)将Ln(NO3)3·6H2O溶解于去离子水中配制成稀土离子总浓度为0.005～0.5mol/L的稀土离子溶液，然后加入添加剂，其中添加剂的加入量与稀土离子的摩尔比为1～50:1，混合均匀后获得电沉积溶液；
(2)将步骤(1)制得的电沉积溶液置于水浴中，搅拌使电沉积溶液的温度达到4～80℃，获得备用电沉积溶液；
(3)以透明导电玻璃或者金属片或者碳材料为工作电极即阴极，Pt网作为对电极即阳极，Ag/AgCl(饱和KCl)电极作为参比电极，组成三电极体系；
(4)将步骤(3)组成的三电极体系插入步骤(2)获得的备用电沉积溶液中，设置沉积电压为-0.8～-1.3V，沉积时间为3min～3h，在阴极材料上沉积一层电沉积薄膜；
(5)将步骤(4)制得的电沉积薄膜分别用去离子水、无水乙醇冲洗，然后置于30～80℃的鼓风干燥箱中干燥5min～24h，即制得Ln2(OH)5NO3·nH2O稀土层状氢氧化物薄膜；
所述Ln为La、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Y中的任意一种；
所述添加剂为NH4NO3、NaNO3、KNO3中的任意一种；
所述透明导电玻璃为一侧表面镀有ITO或者FTO或者AZO层的玻璃；
所述金属片的材料为Cu、Ag，Ni、Fe中的任意一种。
与现有技术相比，本发明的特点和有益效果是：传统制备LRH薄膜的方法需要经历合成、插层柱撑、剥离以及组装成膜的步骤，过程复杂、耗时较长、产率低，而且在每个步骤需要消耗大量的能源动力，此外还存在插层难且插层不完全以及剥离过程中由于机械作用导致的纳米片破碎等现象，所制薄膜的均匀性和致密度较差。本发明采用电沉积的方法，直接在工作电极上获得均匀致密的Ln2(OH)5NO3·nH2O薄膜，用时短，薄膜质量好。
附图说明
图1为本发明实施例1制备的Y2(OH)5NO3·nH2O薄膜的XRD图谱。
图2为本发明实施例1制备的Y2(OH)5NO3·nH2O薄膜的实物图。
图3为本发明实施例1制备的Y2(OH)5NO3·nH2O薄膜的SEM图谱。
图4为本发明实施例2制备的Pr2(OH)5NO3·nH2O薄膜的XRD图谱。
图5为本发明实施例3制备的Eu2(OH)5NO3·nH2O薄膜的SEM图谱。
图6为本发明实施例4制备的Ho2(OH)5NO3·nH2O薄膜的SEM图谱。
具体实施方式
实施例1：
本实施例采用的稀土元素(Ln)的硝酸化合物、添加剂NH4NO3均为市售的分析纯化学试剂。
具体制备步骤如下：
(1)将Y(NO3)3·6H2O溶解于去离子水中配制成稀土离子总浓度为0.02mol/L的稀土离子溶液，然后加入添加剂NH4NO3，其中添加剂的加入量与稀土离子的摩尔比为10:1，混合均匀后获得电沉积溶液；
(2)将步骤(1)制得的电沉积溶液置于水浴中，搅拌使电沉积溶液的温度达到30℃，获得备用电沉积溶液；
(3)以ITO玻璃作为工作电极即阴极，Pt网作为对电极即阳极，Ag/AgCl/Cl-电极作为参比电极，组成三电极体系；
(4)将步骤(3)组成的三电极体系插入步骤(2)获得的备用电沉积溶液中，设置沉积电压为-1.10V，沉积时间为8min，在阴极材料上沉积一层电沉积薄膜；
(5)将步骤(4)制得的电沉积薄膜分别用去离子水、无水乙醇冲洗，然后置于30～80℃的鼓风干燥箱中干燥5min，即制得Y2(OH)5NO3·nH2O薄膜；
本发明实施例制得的Y2(OH)5NO3·nH2O薄膜采用X射线衍射仪进行XRD物相分析，采用场发射扫描电镜进行形貌观察和分析，具体见说明书附图1、2和3。
实施例2：
本实施例采用的稀土元素(Ln)的硝酸化合物、添加剂NH4NO3均为市售的分析纯化学试剂。
具体制备步骤如下：
(1)将Pr(NO3)3·6H2O溶解于去离子水中配制成稀土离子浓度为0.01mol/L的稀土离子溶液，然后加入添加剂NH4NO3，其中添加剂的加入量与稀土离子的摩尔比为20:1，混合均匀后获得电沉积溶液；
(2)将步骤(1)制得的电沉积溶液置于水浴中，搅拌使电沉积溶液的温度达到40℃，获得备用电沉积溶液；
(3)以FTO玻璃的片状材料作为工作电极即阴极，Pt网作为对电极即阳极，Ag/AgCl/Cl-电极作为参比电极，组成三电极体系；
(4)将步骤(3)组成的三电极体系插入步骤(2)获得的备用电沉积溶液中，设置沉积电压为-1.15V，沉积时间为30min，在阴极材料上沉积一层电沉积薄膜；
(5)将步骤(4)制得的电沉积薄膜分别用去离子水、无水乙醇冲洗，然后置于50℃的鼓风干燥箱中干燥5min，即制得Pr2(OH)5NO3·nH2O薄膜；
本发明实施例制得的Pr2(OH)5NO3·nH2O薄膜采用X射线衍射仪进行XRD物相分析，采用场发射扫描电镜进行形貌观察和分析，具体见说明书附图4。
实施例3：
本实施例采用的稀土元素(Ln)的硝酸化合物、添加剂NH4NO3均为市售的分析纯化学试剂。
具体制备步骤如下：
(1)将Eu(NO3)3·6H2O溶解于去离子水中配制成稀土离子浓度为0.01mol/L的稀土离子溶液，然后加入添加剂NaNO3，其中添加剂的加入量与稀土离子的摩尔比为5:1，混合均匀后获得电沉积溶液；
(2)将步骤(1)制得的电沉积溶液置于水浴中，搅拌使电沉积溶液的温度达到30℃，获得备用电沉积溶液；
(3)以ITO玻璃的片状材料作为工作电极即阴极，Pt网作为对电极即阳极，Ag/AgCl/Cl-电极作为参比电极，组成三电极体系；
(4)将步骤(3)组成的三电极体系插入步骤(2)获得的备用电沉积溶液中，设置沉积电压为-1.15V，沉积时间为15min，在阴极材料上沉积一层电沉积薄膜；
(5)将步骤(4)制得的电沉积薄膜分别用去离子水、无水乙醇冲洗，然后置于30℃的鼓风干燥箱中干燥20min，即制得Eu2(OH)5NO3·nH2O薄膜；
本发明实施例制得的Eu2(OH)5NO3·nH2O薄膜采用X射线衍射仪进行XRD物相分析，采用场发射扫描电镜进行形貌观察和分析，具体见说明书附图5。
实施例4：
本实施例采用的稀土元素(Ln)的硝酸化合物、添加剂NH4NO3均为市售的分析纯化学试剂。
具体制备步骤如下：
(1)将Ho(NO3)3·6H2O溶解于去离子水中配制成稀土离子浓度为0.1mol/L的稀土离子溶液，然后加入添加剂NaNO3，其中添加剂的加入量与稀土离子的摩尔比为2:1，混合均匀后获得电沉积溶液；
(2)将步骤(1)制得的电沉积溶液置于水浴中，搅拌使电沉积溶液的温度达到30℃，获得备用电沉积溶液；
(3)以ITO玻璃的片状材料作为工作电极即阴极，Pt网作为对电极即阳极，Ag/AgCl/Cl-电极作为参比电极，组成三电极体系；
(4)将步骤(3)组成的三电极体系插入步骤(2)获得的备用电沉积溶液中，设置沉积电压为-1.05V，沉积时间为15min，在阴极材料上沉积一层电沉积薄膜；
(5)将步骤(4)制得的电沉积薄膜分别用去离子水、无水乙醇冲洗，然后置于60℃的鼓风干燥箱中干燥5min，即制得Ho2(OH)5NO3·nH2O薄膜；
本发明实施例制得的Ho2(OH)5NO3·nH2O薄膜采用X射线衍射仪进行XRD物相分析，采用场发射扫描电镜进行形貌观察和分析，具体见说明书附图6。

Claims (1)

1.一种Ln2(OH)5NO3·nH2O稀土层状氢氧化物薄膜的直接制备方法，其特征在于具体步骤为：
(1)将Ln(NO3)3·6H2O溶解于去离子水中配制成稀土离子总浓度为0.005～0.5mol/L的稀土离子溶液，然后加入添加剂，其中添加剂的加入量与稀土离子的摩尔比为1～50:1，混合均匀后获得电沉积溶液；
(2)将步骤(1)制得的电沉积溶液置于水浴中，搅拌使电沉积溶液的温度达到5～80℃，获得备用电沉积溶液；
(3)以透明导电玻璃或者金属片或者碳材料为工作电极即阴极，Pt网作为对电极即阳极，Ag/AgCl/Cl-电极作为参比电极，组成三电极体系；
(4)将步骤(3)组成的三电极体系插入步骤(2)获得的备用电沉积溶液中，设置沉积电压为-0.8～-1.3V，沉积时间为3min～3h，在工作电极上沉积一层电沉积薄膜；
(5)将步骤(4)制得的电沉积薄膜分别用去离子水、无水乙醇冲洗，然后置于30～80℃的鼓风干燥箱中干燥5min～24h，即制得Ln2(OH)5NO3·nH2O稀土层状氢氧化物薄膜；
所述Ln为La、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Y中的任意一种；
所述添加剂为NH4NO3、NaNO3、KNO3中的任意一种；
所述透明导电玻璃为一侧表面镀有ITO或者FTO或者AZO层的玻璃；
所述金属片的材料为Cu、Ag，Ni、Fe中的任意一种。
CN201710930981.3A 2017-10-09 2017-10-09 一种稀土层状氢氧化物薄膜的直接制备方法 Active CN107829119B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710930981.3A CN107829119B (zh) 2017-10-09 2017-10-09 一种稀土层状氢氧化物薄膜的直接制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710930981.3A CN107829119B (zh) 2017-10-09 2017-10-09 一种稀土层状氢氧化物薄膜的直接制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107829119A CN107829119A (zh) 2018-03-23
CN107829119B true CN107829119B (zh) 2019-11-26

Family

ID=61647784

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710930981.3A Active CN107829119B (zh) 2017-10-09 2017-10-09 一种稀土层状氢氧化物薄膜的直接制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107829119B (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110699728B (zh) * 2019-09-10 2022-02-18 桂林理工大学 一种稀土三氟化物LnF3薄膜及其制备方法
CN110699729B (zh) * 2019-09-10 2021-11-30 桂林理工大学 一种稀土四氟化物NalnF4薄膜及其制备方法
CN110552036B (zh) * 2019-09-10 2022-01-04 桂林理工大学 一种利用置换反应制备稀土钒酸盐薄膜的方法
CN114563452A (zh) * 2022-03-03 2022-05-31 桂林理工大学 一种层状稀土氢氧化物复合膜修饰电极的制备方法及其检测苯二酚类物质的应用

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102942202A (zh) * 2012-11-09 2013-02-27 东北大学 低温共沉淀法合成超薄稀土层状Ln2(OH)5NO3·nH2O纳米片的方法
CN103011233A (zh) * 2012-10-29 2013-04-03 东北大学 一种超大尺寸(Y1-xEux)2(OH)5NO3·nH2O稀土层状氢氧化合物颗粒的制备方法
CN103011234A (zh) * 2012-10-29 2013-04-03 东北大学 一种超薄(Y1-xEux)2(OH)5NO3·nH2O稀土层状氢氧化合物纳米片的直接合成方法
CN105154950A (zh) * 2015-08-18 2015-12-16 上海交通大学 一种层状金属复合氢氧化物的制备方法
CN105733585A (zh) * 2016-04-21 2016-07-06 北京师范大学 DS-LEuTbH复合体、其制备的纳米片胶态悬浮液及制备方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103011233A (zh) * 2012-10-29 2013-04-03 东北大学 一种超大尺寸(Y1-xEux)2(OH)5NO3·nH2O稀土层状氢氧化合物颗粒的制备方法
CN103011234A (zh) * 2012-10-29 2013-04-03 东北大学 一种超薄(Y1-xEux)2(OH)5NO3·nH2O稀土层状氢氧化合物纳米片的直接合成方法
CN102942202A (zh) * 2012-11-09 2013-02-27 东北大学 低温共沉淀法合成超薄稀土层状Ln2(OH)5NO3·nH2O纳米片的方法
CN105154950A (zh) * 2015-08-18 2015-12-16 上海交通大学 一种层状金属复合氢氧化物的制备方法
CN105733585A (zh) * 2016-04-21 2016-07-06 北京师范大学 DS-LEuTbH复合体、其制备的纳米片胶态悬浮液及制备方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Electrogeneration of base by cathodic reduction of anions：Novel one-step route to unary and layered double hydroxides(LDHs);Lokanathan Indira;《J.MATER.CHEM》;19941231;第1487-1490页 *
Layered double hydroxide films：synthesis，properties and application;Xiaoxiao GUO;《The Royal society of Chemistry》;20100615;第5197-5210页 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN107829119A (zh) 2018-03-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107829121B (zh) 一种直接制备多元稀土层状氢氧化物薄膜的方法
CN107829119B (zh) 一种稀土层状氢氧化物薄膜的直接制备方法
Lv et al. Fe2TiO5-incorporated hematite with surface P-modification for high-efficiency solar water splitting
Tian et al. Facile preparation of aligned NiO nanotube arrays for electrochromic application
CN104911629B (zh) 一种复合电极的合成方法
CN108899222B (zh) 一种超级电容器电极材料的制备方法
CN104465123A (zh) 一种C@MnO2纳米管超级电容器电极材料及其制备方法和用途
CN101498051B (zh) 一种氧化锌纳米线阵列的制备方法
CN107829120B (zh) 一种利用lrh的煅烧记忆性制备片状稀土氧化物薄膜的方法
CN102691084A (zh) 一步电沉积制备ZnO纳米棒阵列的方法
CN102534731A (zh) 一种通过电泳沉积制备二氧化钒薄膜的方法
CN103606683B (zh) 一种线团状的锗纳米材料及其制备方法
Lv et al. Electrodeposition of porous Mg (OH) 2 thin films composed of single-crystal nanosheets
CN104787720B (zh) 一种基于石墨烯的纳米线阵列的制备方法
CN103320828B (zh) 一种六次甲基四胺掺杂纳米氧化锌薄膜的电化学制备方法
Mo et al. Synthesis and properties of delafossite CuAlO 2 nanowires
CN101638803A (zh) 一种纳米棒结构Bi2S3光学薄膜的制备方法
CN102795665B (zh) 二氧化钛纳米管（杆）阵列的制备方法
CN106637332B (zh) 一种通过阳极氧化电沉积来制备阴极材料AgCuO2的方法
CN107140697B (zh) 一种复合材料的绿色制备方法
CN107012491B (zh) 一种Co纳米层/Co纳米线/多孔氧化铝复合薄膜及其制备方法
CN107620102B (zh) 一种(Gd1-xLnx)2(MoO4)3薄膜的直接制备方法
CN107686131B (zh) 一种Sm2(MoO4)3薄膜的直接制备方法
CN107620101B (zh) 一种(La1-xLnx)2(MoO4)3薄膜的直接制备方法
CN109585186A (zh) 一种超级电容器电极材料CoV2O6的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
EE01 Entry into force of recordation of patent licensing contract
EE01 Entry into force of recordation of patent licensing contract

Application publication date: 20180323

Assignee: Guilin long hair Xiao Zhai Biotechnology Co.,Ltd.

Assignor: GUILIN University OF TECHNOLOGY

Contract record no.: X2022450000417

Denomination of invention: A direct preparation method of rare earth layered hydroxide films

Granted publication date: 20191126

License type: Common License

Record date: 20221227