CN107735607A - 四角真空闸阀及具有其的半导体制造装置 - Google Patents

四角真空闸阀及具有其的半导体制造装置 Download PDF

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Abstract

本发明涉及四角真空闸阀及具有其的半导体制作装置。本发明的四角真空闸阀包括：闸框架，在相向的两侧面形成第一闸和第二闸；遮蔽板，用于遮蔽上述闸框架的上部；第一阀单元，能够通过形成于上述闸框架的下部一侧的第一开口向上述闸框架内部直线移动或者进行旋转，用于选择性地开闭上述第一闸；以及第二阀单元，能够通过在上述闸框架的下部另一侧与上述第一开口隔开配置的第二开口向上述闸框架的内部直线移动或进行旋转，用于选择性地开闭上述第二闸。

Description

四角真空闸阀及具有其的半导体制造装置
技术领域
本发明涉及四角真空闸阀及具有其的半导体制造装置，更详细地，涉及在相同空间内，可对两侧阀门进行密封(sealing)，因此，在限定的空间内，不仅可有效对应需要对两侧阀门进行密封的半导体工艺，尤其，可适用于上部被遮蔽的闸框架的四角真空闸阀及具有其的半导体制造装置。
背景技术
半导体需要高精密度，因此在具有高的清洁度的洁净室(clean room)中通过特殊制作技术制作。
当制作半导体时，真空作业区域和大气区域之间的密封技术也会对半导体质量产生很大的影响，因此，通常在可完全隔断与空气中的异物的接触的真空状态下制作半导体。
因此，在半导体制作设备中，作为选择性组成腔室的真空环境的机构，广泛使用闸阀(gate valve)。
虽然已公开多种真空闸阀，但是，通常主要使用四角真空闸阀。
当然，除用于制作半导体的腔室之外，用于液晶显示器蒸镀的蒸镀腔室，例如，加工腔室和转移腔室，或者转移腔室和装载腔室之间也会使用真空阀。
真空阀可分为单向阀和双向阀，这些阀可根据对应工艺的特性选择使用。
上述四角真空闸阀具有盘(disk)开闭开阔的四角阀门的方式。
简要说明，与处于开放状态(open mode)的盘和与盘相连接的轴(main shaft)的上升一同向闸框架内部进入(close mode)，在完成进入之后，略微改变角度并关闭在闸框架形成的阀门来进行密封(push mode)。
之后，盘与轴的下降一同下降并打开阀门，上述动作以符合于工艺状况的方式反复进行并形成真空或解除真空状态。
结果，四角真空闸阀可以为一同适用直线运动机理和在上下点中的旋转运动机理的阀，目前，广泛使用上述方式。
但是，在当前使用的四角真空闸阀的情况下，具有仅用于开闭一侧的阀门的结构，因此，阀门的使用度多少会降低。
对此，本申请人员进行了对于两侧阀门密封的技术的专利申请，且目前在审查当中。
只是，在上次技术的情况下，四角真空闸阀的闸框架的上下部处于开放状态，且在闸框架的上下部形成第一阀单元及第二阀单元，因此向上下方向的高度有可能会变高，尤其，在很难使用闸框架的上部空间的情况下，当考虑到无法适用的情况时，需要开发对于改善类型的真空阀的技术。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本发明的目的在于，提供在相同空间内，可对两侧阀门进行密封(sealing)，因此，在限定的空间内，不仅可有效对应需要对两侧阀门进行密封的半导体工艺，尤其，可适用于上部被遮蔽的闸框架的四角真空闸阀及具有其的半导体制造装置。
(二)技术方案
上述目的通过四角真空闸阀实现，上述四角真空闸阀的特征在于，包括：闸框架，在相向的两侧面形成第一闸和第二闸；遮蔽板，用于遮蔽上述闸框架的上部；第一阀单元，能够通过形成于上述闸框架的下部一侧的第一开口向上述闸框架内部直线移动或者进行旋转，用于选择性地开闭上述第一闸；以及第二阀单元，能够通过在上述闸框架的下部另一侧与上述第一开口隔开配置的第二开口向上述闸框架的内部直线移动或进行旋转，用于选择性地开闭上述第二闸。
上述第一阀单元可包括：第一开闭用盘，用于选择性地开闭上述第一闸；第一单元轴，与上述第一开闭用盘相连接，用于使上述第一开闭用盘进行直线移动；以及第一旋转部，与上述第一单元轴相结合，用于使上述第一单元轴进行旋转。
上述第二阀单元可包括：第二开闭用盘，用于选择性地开闭上述第二闸；第二单元轴，与上述第二开闭用盘相连接，用于使上述第二开闭用盘进行直线移动；以及第二旋转部，与上述第二单元轴相结合，用于使上述第二单元轴进行旋转。
上述第一开闭用盘及第二开闭用盘可包括密封用压接环。
上述第一闸的尺寸和上述第二闸的尺寸可以相同。
本发明还可包括：信号发生器，用于发生上述第一闸和上述第二闸的开闭信号；以及控制器，以来自上述信号发生器的输入信息为基础，对上述第一阀单元和上述第二阀单元的动作进行控制。
另一方面，上述目的还通过具有四角真空闸阀的半导体制作装置实现，上述具有四角真空闸阀的半导体制作装置的特征在于，包括：第一真空腔室及第二真空腔室，相互隔开配置，形成用于制作半导体的工艺腔；以及四角真空闸阀，用于选择性地开闭朝向上述第一真空腔室及第二真空腔室的第一闸及第二闸，上述四角真空闸阀包括：闸框架，在相向的两侧面形成第一闸和第二闸；遮蔽板，用于遮蔽上述闸框架的上部；第一阀单元，能够通过形成于上述闸框架的下部一侧的第一开口向上述闸框架内部直线移动或者进行旋转，用于选择性地开闭上述第一闸；以及第二阀单元，能够通过在上述闸框架的下部另一侧与上述第一开口隔开配置的第二开口向上述闸框架的内部直线移动或进行旋转，用于选择性地开闭上述第二闸。
上述第一阀单元包括：第一开闭用盘，用于选择性地开闭上述第一闸；第一单元轴，与上述第一开闭用盘相连接，用于使上述第一开闭用盘进行直线移动；以及第一旋转部，与上述第一单元轴相结合，用于使上述第一单元轴进行旋转，上述第二阀单元包括：第二开闭用盘，用于选择性地开闭上述第二闸；第二单元轴，与上述第二开闭用盘相连接，用于使上述第二开闭用盘进行直线移动；以及第二旋转部，与上述第二单元轴相结合，用于使上述第二单元轴进行旋转，上述第一开闭用盘及第二开闭用盘包括密封用压接环。
(三)有益效果
根据本发明具有以下效果。
根据本发明，本发明具有如下效果，在相同空间内，可对两侧阀门进行密封(sealing)，因此，在限定的空间内，不仅可有效对应需要对两侧阀门进行密封的半导体工艺，尤其，可适用于上部被遮蔽的闸框架的四角真空闸阀及具有其的半导体。
附图说明
图1为本发明一实施例的半导体制作装置的简要结构图，图1为第一闸关闭状态的图。
图2为本发明一实施例的半导体制作装置的简要结构图，图2为第二闸关闭状态的图。
图3为本发明一实施例的四角真空闸阀的简要结构图。
图4至图7分别为阶段性示出四角真空闸阀的动作的图。
图8为四角真空闸阀的控制框图。
图9为本发明一实施例的四角真空闸阀运行方法的流程图。
图10为本发明再一实施例的四角真空闸阀的简要结构图。
图11至图13分别为阶段性示出本发明另一实施例的四角真空闸阀的动作的图。
图14为本发明还有一实施例的四角真空闸阀的结构图。
具体实施方式
本发明提供四角真空闸阀，上述四角真空闸阀包括：闸框架，在相向的两侧面形成第一闸和第二闸；遮蔽板，用于遮蔽上述闸框架的上部；第一阀单元，能够通过形成于上述闸框架的下部一侧的第一开口向上述闸框架内部直线移动或者进行旋转，用于选择性地开闭上述第一闸；以及第二阀单元，能够通过在上述闸框架的下部另一侧与上述第一开口隔开配置的第二开口向上述闸框架的内部直线移动或进行旋转，用于选择性地开闭上述第二闸。
以下，参照附图，详细说明本发明的实施例，以便本发明所述技术领域的普通技术人员容易实施。
但是，与本发明相关的说明仅是用于结构性或功能性说明的实施例，因此，本发明的发明要求保护范围并不局限于在本发明中说明的实施例。
例如，实施例可进行多种变更，并可具有多种形态，因此，应当理解本发明的发明要求保护范围包括可实现技术思想的等同技术方案。
并且，在本发明中提出的目的或效果并非意味着特定实施例包括上述目的或效果或者仅包括上述效果，因此，本发明的权利要求保护范围并不局限于此。
在本发明中，本实施例用于使本发明的公开变得完整，并用于向本发明所属技术领域的普通技术人员完全提供本发明的范畴，而且，本发明的范围通过发明要求保护范围的范畴定义。
因此，在几个实施例中，为了不使本发明变得不清楚，不对众所周知的结构要素、动作及技术进行具体说明。
另一方面，在本发明中所叙述的术语的含义不能用预先的含义限定解释，而是得如下解释。
当一个结构要素与另一个结构要素“相连接”时，可以理解成与其他结构要素直接连接，但是还可以理解成在中间隔着其他结构要素间接连接的情况。相反，当一种结构要素与其他结构要素“直接连接”时，需要理解成中间不存在其他结构要素。另一方面，说明结构要素之间的关系的其他表现，即，“之间”和“之间”或“相邻”和“直接相邻”等也需要以相同方式解释。
只要在文脉上并未明确表示，则单数的表现包括复数的表现，“包括”或“具有”等的术语用于指定特征、数字、步骤、动作、结构要素、部件或这些的组合的存在，而并非预先排除一种或一种以上的其他特征或数字、步骤、动作、结构要素、部件或这些的组合的存在或附加可能性。
其中，只要并非以其他形式定义所使用的术语，则具有与本发明所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。
通常，所使用的预先定义的术语与相关技术的文脉所具有的含义相同，只要在本发明中并未明确定义，不会具有过度形式性含义。
以下，参照附图，详细说明本发明的实施例。在说明实施例的过程中，对相同结构赋予相同附图标记，根据情况，将省略对于相同附图标记的说明。
图1为本发明一实施例的半导体制作装置的简要结构图，图1为第一闸关闭状态的图。图2为本发明一实施例的半导体制作装置的简要结构图，图2为第二闸关闭状态的图。
参照附图，本发明一实施例的半导体制作装置可包括：第一真空腔室101、第二真空腔室102，相互隔开配置，形成用于制作半导体的工艺腔；以及四角真空闸阀110，与第一真空腔室101及第二真空腔室102之间相连接，用于选择性地开闭朝向第一真空腔室101及第二真空腔室102的第一闸121及第二闸122。
此时，第一真空腔室101、第二真空腔室102的作用可以相同，也可以不同。
例如，第一真空腔室101、第二真空腔室102可以为蒸镀腔室、加工腔室、转移腔室或装载腔室。当然，显示装备的腔室也在相同范畴，因此属于本发明的发明范围。
四角真空闸阀100选择性地开闭朝向第一真空腔室101、第二真空腔室102的第一闸121及第二闸122。
此时，四角真空闸阀110在相同空间，即，在限定的空间内，可对两侧的第一闸121及第二闸122进行密封，因此，可有效对应在限定的空间内，需要第一闸121及第二闸122的密封的半导体工艺。
参照图3至图9，详细说明执行上述作用的四角真空闸阀110。
图3为本发明一实施例的四角真空闸阀的简要结构图。图4至图7分别为阶段性示出四角真空闸阀的动作的图。图8为四角真空闸阀的控制框图。图9为本发明一实施例的四角真空闸阀运行方法的流程图。
参照附图，本发明实施例的四角真空闸阀110可在相同空间内，可对两侧第一闸121及第二闸122进行密封，因此，在限定空间内，不仅可有效对应在限定空间内需要对于两侧第一闸121及第二闸122的密封的半导体工艺，上述四角真空闸阀110可包括闸框架120、遮蔽板170、第一阀单元130、第二阀单元140、信号发生器150及控制器160。
首先，闸框架120形成本发明实施例的四角真空闸阀110的外围框架。
在上述闸框架120的两侧面形成第一闸121和第二闸122。当从平面观察时，第一闸121和第二闸122可呈四角形状。
此时，在本实施例的情况下，第一闸121和上述第二闸122的尺寸相同。但是，第一闸121和上述第二闸122的尺寸也可以不同。
在闸框架120的下部形成第一开口120a和第二开口120b。第一开口120a和第二开口120b在闸框架120的下部相互隔着间隔配置。
上述第一开口120a和第二开口120b形成插入第一阀单元130和第二阀单元140并运行的空间。
另一方面，遮蔽板170遮蔽闸框架120的上部。在由本申请人员申请的技术的情况下，闸框架120的下部和上部均处开放状态，从而，第一阀单元130和第二阀单元140分别设置于闸框架120的下部和上部，在此情况下，闸框架120的上下方向的高度不得不变高，从而很难适用于紧凑型设备。尤其，很难使用闸框架120的上部空间。
但是，在本实施例的情况下，遮蔽板170遮蔽闸框架120的上部，因此，闸框架120的上下方向的高度可以变小，尤其，具有可使用闸框架120的上部空间的优点。遮蔽板170借助螺栓以能够拆装的方式与闸框架120的上部相结合。
接着，如图3至图5所示，第一阀单元130可通过闸框架120的第一开口120a向闸框架120的内部直线移动或进行旋转，并用于选择性地开闭第一闸121。
上述第一阀单元130包括：第一开闭用盘131，用于选择性地开闭第一闸121；第一单元轴132，与第一开闭用盘131相连接，用于使第一开闭用盘131进行直线移动；以及第一旋转部133，与第一单元轴132相连接，用于使第一单元轴132进行旋转。
第一闸121呈四角形，因此，第一开闭用盘131的尺寸也大于第一闸121的尺寸。
在上述第一开闭用盘131的周围面形成第一密封用压接环134，如图5所示，压接在第一闸121的周围面，由此一直保持真空状态。
第一单元轴132用于使第一开闭用盘131进行直线移动，第一旋转部133用于使第一开闭用盘131进行旋转。当然，在第一单元轴132的下部区域设置用于使第一开闭用盘131进行直线移动或旋转的驱动部，但将省略对其的说明。
之后，如图3、图6及图7所示，第二阀单元140可通过闸框架120的第二开口120b向闸框架120的内部进行直线移动或进行旋转，并选择性地开闭第二闸122。
与第一阀单元130相同，第二阀单元140也在闸框架120的下部通过闸框架120的第二开口120b向闸框架120的内部进行直线移动或进行旋转。上述第二阀单元140可具有与第一阀单元130相同的结构。
第二阀单元140包括：第二开闭用盘141，用于选择性地开闭第二闸122；第二单元轴142，与第二开闭用盘141相连接，用于使第二开闭用盘141进行直线移动；以及第二旋转部143，与第二单元轴142相结合，用于使第二单元轴142进行旋转。
第二闸122呈四角形，因此，第二开闭用盘141的尺寸也大于第二闸122的尺寸。
在上述第二开闭用盘141的周围面形成第二密封用压接环141，如图7所示，压接在第二闸122的周围面，由此不会发生真空。
第二单元轴142用于使第二开闭用盘141进行直线移动，第二旋转部143用于使第二开闭用盘142进行旋转。当然，第二单元轴142的上部区域设置用于使第二开闭用盘141进行直线移动或旋转的驱动部，但将省略对其的说明。
之后，信号发生器150产生第一闸121和第二闸122的开闭信号。即，如图5所示，发生关闭第一闸121的信号，或者，如图7所示，发生关闭第二闸122的信号。发生的信号向控制器160传输。
最后，控制器160以来自信号发生器150的输入信息为基础来控制第一阀单元130和第二阀单元140的动作。即，以从信号发生器150的输入信号为基础，如图5所示，以关闭第一闸121的方式控制第一阀单元130和第二阀单元140的动作，如图7所示，以关闭第二闸122的方式控制第一阀单元130和第二阀单元140的动作。
上述控制器160可包括中央处理器161(CPU)、存储器162(MEMORY)、辅助电路163(SUPPORT CIRCUIT)。
为了以从本实施例的信号发生器150的输入信号为基础控制第一阀单元130和第二阀单元140的动作，中央处理装置161可以为产业上能够适用的多种计算机处理器中的一种。
存储器162与中央处理器161相连接。存储器162为计算机可读记录介质，存储器162可设置于本体或远程，例如，如随机存取存贮器(RAM)、只读存储器、闪存、硬盘或任一数码存储形态的可容易利用的至少一个存储器。
辅助电路163与中央处理装置161相结合，从而控制处理器的整个运行。上述幅度电路163可包括电容器、电源、同步脉冲电路、输入输出电路、辅助系统等。
在本实施例中，控制器160以从信号发生器150的输入信号为基础来控制第一阀单元130和第二阀单元140的运行。此时，控制器160以从检测部180的信息为基础来控制通过船体阻抗减少模块140的气泡发生与否或气泡发生量的一系列处理等存储于储存器162。典型地，可存储于软件指令存储器162。软件指令也可借助其他中央处理器(未图示)存储或执行。
虽然说明成本发明的处理通过软件指令执行，但是，本发明的处理中的至少一部分也可借助硬件执行。如上所述，本发明的软件体现为在计算机系统上执行的软件，或者体现为如直接电路的硬件，或者可体现为软件和硬件的组合。
以下，参照图9，说明本发明的四角真空闸阀110的运行方法。
首先，第一阀单元130的第一开闭用盘131借助第一单元轴132的运行，通过闸框架120的第一开口120a向闸框架120的内部以直线移动的方式进入(步骤S11)。
之后，向闸框架120的内部以直线移动的方式进入的第一阀单元130借助第一旋转部133发生预先设定角度左右的位移并进行旋转(步骤S12)。
之后，第一开闭用盘131向第一闸121施加压力，来使第一开闭用盘131的第一密封用压接环134压接在第一闸121的周围面并关闭第一闸121来进行密封(步骤S13)(参照图5)。
接着，第一阀单元130复原到原位置(步骤S14)，之后，第二阀单元140运行。
即，第二阀单元140的第二开闭用盘141借助第二单元轴142的运行通过闸框架120的第二开口120b向闸框架120的内部以直线移动的方式进入(步骤S15)。
之后，向闸框架120的内部以直线移动的方式进入的第二阀单元140借助第二旋转部143发生预先确定角度左右的位移并进行旋转(步骤S16)。
之后，第二开闭用盘141向第二闸122施加压力，来使第二开闭用盘141的第二密封用压接环144压接在第二闸122的周围面，并关闭第二闸122来进行密封(步骤S17)(参照图7)。
在此过程中，即，可反复执行图5的第一闸121密封步骤和图7的第二闸122密封步骤。当然，也可借助信号发生器150选择性地进行。
根据具有如上所述的结构和作用的本实施例，在相同空间内，可对两侧阀门进行密封，因此，在限定空间内，不仅可有效对应在限定空间内需要对于两侧第一闸121及第二闸122的密封的半导体工艺，尤其可适用于上部被遮蔽的闸框架120。
图10为本发明再一实施例的四角真空闸阀的简要结构图。
参照附图，本实施例的四角真空闸阀210也可包括闸框架220、第一阀单元130及第二阀单元140。
在本实施例的情况下，没有上述遮蔽板170(参照图1)，但是闸框架220自身呈上部开放的结构。
即使适用本实施例，在相同空间内，可对两侧阀门进行密封，因此，不仅可有效对应在限定空间内需要对于两侧第一闸121及第二闸122的密封的半导体工艺，尤其可适用于上部被遮蔽的闸框架220。
图11至图13分别为阶段性示出本发明另一实施例的四角真空闸阀的动作的图。
参照附图，本实施例的四角真空闸阀310也可包括：闸框架320，形成有第一闸331及第二闸332；遮蔽板370；第一阀单元330及第二阀单元340。
另一方面，第一阀单元330及第二阀单元340均包括：升降驱动杆332、342，通过形成于闸框架320的第一开口320a及第二开口320b升降；滑动头部333、343，形成于升降驱动杆332、342；以及第一密封用压接环334及第二密封用压接环344，形成于第一开闭用盘331及第二开闭用盘341。
升降驱动杆332、342与第一开口320a及第二开口320b紧紧相接触并在第一开口320a及第二开口320b升降。
而且，具有第一密封用压接环334及第二密封用压接环344的第一开闭用盘331及第二开闭用盘341在滑动头部333、343上滑动。
在第一阀单元330及第二阀单元340具有如上所述的结构的情况下，无需旋转部(未图示)。即，如图11中，如图12所示，升降驱动杆334、342沿着箭头A方向上升之后，如图13所示，第一开闭用盘331及第二开闭用盘341沿着箭头B方向滑动并使第一密封用环334及第二密封用环344压接，由此可体现对于第一闸121及第二闸122的密封。
即使适用本实施例，在相同空间内，可对两侧阀门进行密封，因此，在限定空间内，不仅可有效对应在限定空间内需要对于两侧第一闸321及第二闸322的密封的半导体工艺，尤其可适用于上部被遮蔽的闸框架320。
图14为本发明还有一实施例的四角真空闸阀的结构图。
参照附图，本实施例的四角真空闸阀410也可包括：闸框架420，形成有第一闸421及第二闸422；遮蔽板470；第一阀单元430及第二阀单元440。
此时，第一阀单元430及第二阀单元440均包括：升降驱动杆432、442，通过形成于闸框架420的第一开口420a及第二开口420b升降；第一开闭用盘431及第二开闭用盘441，形成于升降驱动杆432、442的上端部；以及第一密封用压接环434及第二密封用压接环444，形成于第一开闭用盘431及第二开闭用盘441。
在本实施例的情况下，在没有旋转或滑动动作的情况下，借助升降驱动杆432、442的向C方向的升降动作，关闭第一闸421及第二闸422。
即使适用本实施例，在相同空间内，可对两侧阀门进行密封，因此，不仅可有效对应在限定空间内需要对于两侧第一闸421及第二闸422的密封的半导体工艺，尤其可适用于上部被遮蔽的闸框架420。
以上，参照附图，详细说明了本发明，但本发明并不局限于此。
在上述实施例中说明的第一阀单元和第二阀单元可同时移动，但是，优选地，当考虑到碰撞危险时，第一阀单元和第二阀单元以相互交替的方式移动。
如上所述，本发明并不局限于记载的实施例，在不超出本发明的思想及范围的情况下，本发明所述技术领域的普通技术人员可对本发明进行多种修改及变形。因此，商户修改例或变形例属于本发明的发明要求保护范围。
产业上的可利用性
本发明可适用于在相同空间内，可对两侧阀门进行密封，因此，在限定的空间内，不仅可有效对应需要对两侧阀门进行密封的半导体工艺，尤其，可适用于上部被遮蔽的闸框架的四角真空闸阀及具有其的半导体。

Claims (8)

1.一种四角真空闸阀，其特征在于，包括：
闸框架，在相向的两侧面形成第一闸和第二闸；
遮蔽板，用于遮蔽上述闸框架的上部；
第一阀单元，能够通过形成于上述闸框架的下部一侧的第一开口向上述闸框架内部直线移动或者进行旋转，用于选择性地开闭上述第一闸；以及
第二阀单元，能够通过在上述闸框架的下部另一侧与上述第一开口隔开配置的第二开口向上述闸框架的内部直线移动或进行旋转，用于选择性地开闭上述第二闸。
2.根据权利要求1所述的四角真空闸阀，其特征在于，上述第一阀单元包括：
第一开闭用盘，用于选择性地开闭上述第一闸；
第一单元轴，与上述第一开闭用盘相连接，用于使上述第一开闭用盘进行直线移动；以及
第一旋转部，与上述第一单元轴相结合，用于使上述第一单元轴进行旋转。
3.根据权利要求2所述的四角真空闸阀，其特征在于，上述第二阀单元包括：
第二开闭用盘，用于选择性地开闭上述第二闸；
第二单元轴，与上述第二开闭用盘相连接，用于使上述第二开闭用盘进行直线移动；以及
第二旋转部，与上述第二单元轴相结合，用于使上述第二单元轴进行旋转。
4.根据权利要求3所述的四角真空闸阀，其特征在于，上述第一开闭用盘及第二开闭用盘包括密封用压接环。
5.根据权利要求1所述的四角真空闸阀，其特征在于，上述第一闸的尺寸和上述第二闸的尺寸相同。
6.根据权利要求1所述的四角真空闸阀，其特征在于，还包括：
信号发生器，用于发生上述第一闸和上述第二闸的开闭信号；以及
控制器，以来自上述信号发生器的输入信息为基础，对上述第一阀单元和上述第二阀单元的动作进行控制。
7.一种具有四角真空闸阀的半导体制作装置，其特征在于，
包括：
第一真空腔室及第二真空腔室，相互隔开配置，形成用于制作半导体的工艺腔；以及
四角真空闸阀，和上述第一真空腔室与第二真空腔室之间相连接，用于选择性地开闭朝向上述第一真空腔室及第二真空腔室的第一闸及第二闸，
上述四角真空闸阀包括：
闸框架，以与上述第一真空腔室及第二真空腔室相对应的方式形成第一闸和第二闸；
遮蔽板，用于遮蔽上述闸框架的上部；
第一阀单元，能够通过形成于上述闸框架的下部一侧的第一开口向上述闸框架内部直线移动或者进行旋转，用于选择性地开闭上述第一闸；以及
第二阀单元，能够通过在上述闸框架的下部另一侧与上述第一开口隔开配置的第二开口向上述闸框架的内部直线移动或进行旋转，用于选择性地开闭上述第二闸。
8.根据权利要求7所述的具有四角真空闸阀的半导体制作装置，其特征在于，
上述第一阀单元包括：
第一开闭用盘，用于选择性地开闭上述第一闸；
第一单元轴，与上述第一开闭用盘相连接，用于使上述第一开闭用盘进行直线移动；以及
第一旋转部，与上述第一单元轴相结合，用于使上述第一单元轴进行旋转，
上述第二阀单元包括：
第二开闭用盘，用于选择性地开闭上述第二闸；
第二单元轴，与上述第二开闭用盘相连接，用于使上述第二开闭用盘进行直线移动；以及
第二旋转部，与上述第二单元轴相结合，用于使上述第二单元轴进行旋转，
上述第一开闭用盘及第二开闭用盘包括密封用压接环。
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