CN107723658B - 掩膜版框架和蒸镀系统 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种掩膜版框架和蒸镀系统，属于蒸镀工艺领域。所述掩膜版框架包括平行间隔设置的第一支撑臂和第二支撑臂，所述第一支撑臂和所述第二支撑臂上均设有用于固定掩膜版的固定接触平面，所述第一支撑臂的固定接触平面靠近所述第二支撑臂的第一侧边与所述第二支撑臂的固定接触平面靠近所述第一支撑臂的第二侧边平行，与所述第一侧边和第二侧边在同一平面内且相垂直的方向为第一方向；所述掩膜版包括图形区域和非图形区域，所述第一侧边与所述第二侧边之间的垂直距离大于所述掩膜版的所述图形区域在所述第一方向上的长度。
Description
技术领域
本发明涉及蒸镀工艺领域，特别涉及一种掩膜版框架和蒸镀系统。
背景技术
目前，有机发光二极管(英文Organic Light Emitting Diode，简称OLED)有机蒸镀镀膜的技术，通常是利用高精度的金属掩膜版作为模具，加热有机材料使其高温挥发后以材料分子状态透过金属掩膜版的开口蒸镀到基板上。
其中，金属掩膜版上设置有开口，金属掩膜版焊接在框架上。蒸镀时，将框架设置在中空的载台上，将待蒸镀基板贴合放置在金属掩膜版上，再在待蒸镀基板上设置一磁隔板，用于吸附金属掩膜版，使其与待蒸镀基板贴合，然后进行蒸镀。
其中，金属掩膜版和待蒸镀基板在金属掩膜版与框架的焊接区域完全贴合。金属掩膜版和待蒸镀基板处于框架镂空区域的部分发生弯曲的曲率不同，所以导致金属掩膜版和待蒸镀基板之间在镂空区域的边缘处存在间隙，产生贴合不良区域，当有机材料从金属掩膜版的开口蒸镀到基板时，会从贴合不良区域的间隙扩散，导致贴合不良区域的蒸镀图形尺寸比正常像素大，厚度比正常厚度薄，最终导致OLED面板发生混色不良，产品良率下降。
发明内容
为了解决现有技术中金属掩膜版和待蒸镀基板的贴合不良区域的蒸镀图形尺寸比正常像素大，厚度比正常厚度薄的问题，本发明实施例提供了一种掩膜版框架和蒸镀系统。所述技术方案如下：
第一方面，本发明实施例提供了一种掩膜版框架，所述掩膜版框架包括平行间隔设置的第一支撑臂和第二支撑臂，所述第一支撑臂和所述第二支撑臂上均设有用于固定掩膜版的固定接触平面，所述第一支撑臂的固定接触平面靠近所述第二支撑臂的第一侧边与所述第二支撑臂的固定接触平面靠近所述第一支撑臂的第二侧边平行，与所述第一侧边和第二侧边在同一平面内且相垂直的方向为第一方向；所述掩膜版包括图形区域和非图形区域，所述第一侧边与所述第二侧边之间的垂直距离大于所述掩膜版的所述图形区域在所述第一方向上的长度。
在本发明实施例的一种实现方式中，所述第一支撑臂和所述第二支撑臂上均设置有用于对所述掩膜版的非图形区域的边缘进行支撑的支撑面，所述支撑面与所述固定接触平面相连接，所述支撑面位于所述第一支撑臂朝向所述第二支撑臂的一侧，或者所述支撑面位于所述第二支撑臂朝向所述第一支撑臂的一侧。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述支撑面为台阶面，所述台阶面包括平台面和连接面，所述连接面连接所述固定接触平面和所述平台面，所述平台面位于所述固定接触平面和所述掩膜版框架的底面之间。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述平台面与所述固定接触平面在垂直于所述固定接触平面的方向上的距离为1-3mm。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述平台面在第一方向上的宽度为2-5mm。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述支撑面为斜面。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述斜面与所述固定接触平面的夹角为120-150度。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述支撑面为弧面。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述掩膜版靠近所述第一侧边的一端到所述第一侧边的距离与所述掩膜版靠近所述第二侧边的一端到所述第二侧边的距离相等，且所述第一侧边与所述第二侧边的距离比所述掩膜版的所述图形区域在所述第一方向上的长度大4-10mm。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述第一侧边与所述第二侧边的距离比所述掩膜版的所述图形区域在所述第一方向上的长度大8mm。
第二方面，本发明实施例还提供了一种蒸镀系统，所述蒸镀系统包括蒸镀腔室、设置在所述蒸镀腔室内的掩膜载台和设置在所述掩膜载台上的掩膜版框架，所述掩膜版框架为如第一方面任一项所述的掩膜版框架。
本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是：
本发明实施例提供的掩膜版框架通过设计两条支撑臂上固定接触平面侧边的距离，实现贴合不良区域的外移，避免产生的间隙对蒸镀的影响。具体地，所述第一支撑臂的固定接触平面靠近所述第二支撑臂的第一侧边与所述第二支撑臂的固定接触平面靠近所述第一支撑臂的第二侧边平行，且所述第一侧边与所述第二侧边的距离大于所述掩膜版的图形区域的长度，因此掩膜版焊接在框架上时，框架与掩膜版的非图形区域接触，框架与掩膜版之间产生的间隙也是位于掩膜版的非图形区域，从而避免基板的显示区域与贴合不良区域对应，从而避免由于贴合了贴合不良区域造成蒸镀图形尺寸比正常像素大所造成的产品良率下降。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是一种蒸镀系统的结构示意图；
图2是一种蒸镀系统的结构示意图；
图3是一种蒸镀系统的结构示意图；
图4A是本发明实施例提供的一种掩膜版框架的结构示意图；
图4B是图4A提供的掩膜版框架的使用示意图；
图5是相关技术中掩膜版框架的结构示意图；
图6是本发明实施例提供的一种掩膜版框架的结构示意图；
图7是本发明实施例提供的另一种掩膜版框架的结构示意图；
图8是本发明实施例提供的另一种掩膜版框架的结构示意图；
图9是本发明实施例提供的另一种掩膜版框架的结构示意图；
图10是本发明实施例提供的掩膜版框架的使用示意图；
图11是图10在A-A方向的部分截面示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
为了便于后文的描述，下面先结合附图1-图3对本发明实施例提供的掩膜版载台的应用场景进行说明：
图1是一种蒸镀系统的结构示意图，参见图1，在进行有机蒸镀镀膜时，掩膜版载台1设置在蒸镀腔室内，掩膜版载台1上设置有掩膜版框架21和掩膜版22。其中，掩膜版载台1的外轮廓为柱状或台状，且掩膜版载台1中部设置有第一通孔10，第一通孔10贯穿掩膜版载台1的上下表面。掩膜版22通常为金属掩膜版，金属掩膜版焊接在掩膜版框架21上，掩膜版22上设置有开口220，掩膜版框架21位于掩膜版22下方的区域设置有镂空210，第一通孔10、镂空210和开口220相互连通。
图2所示为该蒸镀系统使用时的结构示意图，其中，蒸镀系统仅示出了掩膜版框架21的上半部分以及位于其上的结构，参见图2，蒸镀时，将掩膜版框架21设置在掩膜版载台1上，将待蒸镀基板4贴合放置在掩膜版22上，再在待蒸镀基板上设置一磁隔板5，用于吸附掩膜版22，使掩膜版22与待蒸镀基板4贴合，在掩膜版载台1下方加热有机材料3，有机材料3高温挥发后穿过掩膜版载台1和掩膜版框架21并透过掩膜版22的开口220蒸镀到待蒸镀基板4上。
掩膜版22和待蒸镀基板4设置在掩膜版框架21上以后，由于掩膜版22的两端焊接在掩膜版框架21上，而掩膜版22被磁隔板5压在掩膜版框架21上，所以掩膜版22和待蒸镀基板4在掩膜版22与掩膜版框架21的焊接区域完全贴合。掩膜版22和待蒸镀基板4处于框架镂空区域的部分在自身重力作用下发生弯曲，在镂空区域的中部，掩膜版22在磁隔板5的磁力作用下，会贴合在待蒸镀基板4上，但是在镂空区域的边缘，由于掩膜版22和待蒸镀基板4的材料不同，导致二者发生弯曲的曲率也不同，掩膜版22在磁隔板5的磁力作用下也难以贴合到待蒸镀基板4上，所以导致掩膜版22和待蒸镀基板4之间在镂空区域的边缘处存在间隙6，产生贴合不良区域。图3是该蒸镀系统的俯视结构图，图3中标号A所示区域即为该贴合不良区域。当有机材料从掩膜版22的开口220蒸镀到基板时，会从贴合不良区域的间隙6扩散，导致贴合不良区域的蒸镀图形尺寸比正常像素大，厚度比正常厚度薄，最终导致OLED面板发生混色不良，产品良率下降。
需要说明的是，在图2和图3所示的蒸镀系统中，掩膜版22为单层掩膜版，单层掩膜版为条状金属掩膜版。在其他实施例中，掩膜版22还可以为双层掩膜版，双层掩膜版可以包括从下至上依次设置在掩膜版框架21上的面状金属掩膜版和条状金属掩膜版，面状金属掩膜版的四边均焊接在掩膜版框架21上，而条状金属掩膜版仅两端焊接在掩膜版框架21上，面状金属掩膜版上阵列布置有多个圆孔，每条条状金属掩膜版上设置有一列方孔，圆孔位于方孔内，共同形成前述开口220，实现精细图形蒸镀。
为了减小甚至消除上述间隙6，本发明实施例提供了一种掩膜版框架，详细见后文描述。
图4A是本发明实施例提供的一种掩膜版框架的结构示意图，参见图4A，掩膜版框架21包括平行间隔设置的第一支撑臂41和第二支撑臂42。图4B是图4A提供的掩膜版框架的使用示意图，如图4B所示，所述第一支撑臂41和所述第二支撑臂42上均设有用于固定掩膜版22的固定接触平面40，所述第一支撑臂41的固定接触平面40靠近所述第二支撑臂42的第一侧边410与所述第二支撑臂42的固定接触平面40靠近所述第一支撑臂41的第二侧边420平行，与所述第一侧边410和第二侧边420在同一平面内且相垂直的方向为第一方向；所述掩膜版22包括图形区域和非图形区域，所述第一侧边410与所述第二侧边420之间的垂直距离D大于所述掩膜版22的图形区域在所述第一方向上的长度L。
其中，所述掩膜版22的图形区域用于对基板的显示区域进行图形蒸镀，所述掩膜版22的图形区域的长度与基板的显示区域的长度或宽度相等。所述掩膜版22的非图形区域用于将掩膜版22固定在掩膜版框架上，图形区域位于非图形区域中间。
本发明实施例提供的掩膜版框架通过设计两条支撑臂上固定接触平面40侧边的距离，实现贴合不良区域的外移，避免产生的间隙对蒸镀的影响。具体地，所述第一支撑臂41的固定接触平面40靠近所述第二支撑臂42的第一侧边与所述第二支撑臂42的固定接触平面40靠近所述第一支撑臂41的第二侧边平行，且所述第一侧边与所述第二侧边的距离大于所述掩膜版22的图形区域的长度，因此掩膜版22焊接在框架上时，框架与掩膜版22的非图形区域接触，框架与掩膜版22之间产生的间隙也是位于掩膜版22的非图形区域，从而避免基板的显示区域与贴合不良区域对应，从而避免由于贴合了贴合不良区域造成蒸镀图形尺寸比正常像素大所造成的产品良率下降，提高了面板边缘的蒸镀良率。
如图4A所示，掩膜版框架21为矩形框架结构，矩形框架结构除了包括第一支撑臂41和第二支撑臂42外，还包括连接在所述第一支撑臂41和第二支撑臂42之间的第一连接臂43和第二连接臂44。
需要说明的是，掩膜版框架的每条臂(支撑臂、连接臂)均为杆状结构，杆状结构的横截面图形既可以采用图4A、图4B所示的矩形(缺角)，也可以采用如图1或图5所示的台阶型，但无论采用何种结构，其中所述第一支撑臂41的第一侧边与所述第二支撑臂42的第二侧边都需要满足前述尺寸要求。
在本发明实施例中，掩膜版22既可以是单层掩膜版，也可以是双层掩膜版，具体结构可以参见前文描述。当掩膜版22为双层掩膜版时，所述第一连接臂43和第二连接臂44上设有支撑面，所述支撑面与所述固定接触平面40处于同一平面内，从而实现对双层掩膜版的支撑。
为了方便，后文在对掩膜版框架进行详细说明时，仅示出了掩膜版框架的第一支撑臂41和第二支撑臂42的横截面，且是以台阶型结构为例(如图5-图9)，而对于矩形的第一支撑臂41和第二支撑臂42的结构同样也适用于后文中的限定，对此不再赘述。
本发明实施例提供的掩膜版框架在增大第一侧边与所述第二侧边的距离，使贴合不良区域外移时，既可以直接扩大掩膜版框架镂空的尺寸，对两支撑臂的固定接触平面40的侧边间距进行增大(扩大内框，具体参见图6)；也可以只对掩膜版框架的表面进行处理，从而只对两支撑臂的固定接触平面40的侧边间距进行增大(虚拟扩大内框，具体参见图7-9)，下面结合附图对这两种情况进行详细说明。
图5是相关技术中掩膜版框架的结构示意图，图6是本发明实施例提供的一种掩膜版框架的结构示意图。图5所示为未增大第一侧边与所述第二侧边的距离时掩膜版框架的结构，在图5的基础上，本发明实施例对掩膜版框架的第一侧边与第二侧边的距离进行了增大，如图6所示，在如图6所示的实现方式中，第一侧边与第二侧边的距离等于第一支撑臂41和第二支撑臂42的最小距离。
在本发明实施例中，所述第一侧边与所述第二侧边的距离D比所述掩膜版22的图形区域的长度L大4-10mm。相关设计中，镂空区域的宽度与掩膜版22的图形区域的长度相同，所以贴合不良区域位于掩膜版22的图形区域，造成对蒸镀图形产生影响；而在本方案中，所述第一侧边与所述第二侧边的距离增大4-10mm，且由于掩膜版22对称设置在框架上，也就是每一侧增大2-5mm，保证贴合不良区域外移到掩膜版22的非图形区域，避免对蒸镀图形产生影响，同时该数值范围，又能保证在不对框架的外轮廓进行改变的前提下，框架仍然有足够的长度与掩膜版22焊接。前述每一侧增大的尺寸与贴合不良区域外移的宽度相关，贴合不良区域外移的宽度需要考虑显示面板的边缘混色的宽度，且贴合不良区域外移的宽度需要大于边缘混色的宽度(1～2mm)。又由于每一侧增大的尺寸可以大于贴合不良区域外移的宽度，所以每一侧增大的尺寸可以大于2mm，另外每一侧增大的尺寸需要考虑掩膜版框架本体强度，所以每一侧增大的尺寸需要小于5mm。其中，边缘混色的宽度是指屏幕点亮后，靠近显示面边框的可视混色不良的宽度，如果贴合不良区域外移的宽度不够，边缘混色的宽度不会消除，最终造成显示面板在屏幕点亮后边缘出现显示不良。
示例性地，所述第一侧边与所述第二侧边的距离比所述掩膜版22的图形区域的长度大8mm，既能完全保证贴合不良区域不会对蒸镀产生影响，又保证框架和掩膜版22焊接的牢固程度。
在本发明实施例的另一种实现方式中，所述第一支撑臂41和所述第二支撑臂42上均设置有用于对所述掩膜版22的非图形区域的边缘进行支撑的支撑面，所述支撑面与所述固定接触平面40相连接，所述支撑面位于所述第一支撑臂41朝向所述第二支撑臂42的一侧，或者所述支撑面位于所述第二支撑臂42朝向所述第一支撑臂41的一侧，通过支撑面对掩膜版22下垂的部分进行支撑，进一步避免掩膜版22下垂程度过大产生贴合不良区域。在这种实现方式中，由于支撑面的存在，第一侧边与第二侧边的距离大于第一支撑臂41和第二支撑臂42的最小距离，具体实现可以参见图7-图9所示。
图7是本发明实施例提供的另一种掩膜版框架的结构示意图，图7与图6的区别在于，图7的掩膜版框架上设置有支撑面，且所述支撑面为台阶面43，所述台阶面43包括平台面431和连接面432，所述连接面432连接所述固定接触平面40和所述平台面431，且在垂直于所述固定接触平面40的方向上，所述平台面431位于所述固定接触平面40和所述掩膜版框架21的底面21A之间。该实现方式采用台阶设计，通过台阶对掩膜版22下垂的部分进行支撑，进一步避免掩膜版22下垂程度过大产生贴合不良区域。
在本发明实施例的一种实现方式中，所述平台面431与所述固定接触平面40在垂直于所述固定接触平面40的方向上的距离H为1-3mm，保证台阶的支撑效果。
在本发明实施例的一种实现方式中，所述平台面431在第一方向上的宽度W为2-5mm，保证台阶的支撑效果，同时避免影响掩膜版22的图形区域。
在图7所示的掩膜版框架中，连接面432为与固定接触平面40垂直设置的平面，这种设计便于框架的制作生产。在其他实现方式中，连接面432也可以为与固定接触平面40倾斜相交的平面。
在图7所示的掩膜版框架中，平台面431与固定接触平面40平行。在其他实现方式中，平台面431也可以不与固定接触平面40平行。
图8是本发明实施例提供的另一种掩膜版框架的结构示意图，图8与图6的区别在于支撑面为斜面，即在第一支撑臂41的第一侧边410处设置斜面倒角44(所述斜面与所述固定接触平面的夹角)，在第二支撑臂42的第二侧边420处也设置斜面倒角44。斜面倒角设计，通过斜面倒角44对掩膜版22下垂的部分进行支撑，进一步避免掩膜版22下垂程度过大产生贴合不良区域。
在本发明实施例一种实现方式中，所述斜面倒角44的角度a可以为120-150度，设计斜面倒角角度，保证支撑效果。示例性地，该斜面倒角44的角度a为135度，以方便掩膜版框架的设计制作，同时保证斜面倒角44的支撑效果。
图9是本发明实施例提供的另一种掩膜版框架的结构示意图，图9与图6的区别在于设置支撑面为弧面，即在第一支撑臂41的第一侧边410处设置弧面倒角45，在第二支撑臂42的第二侧边420处也设置弧面倒角45。该实现方式采用弧面倒角设计，通过弧面倒角45对掩膜版22下垂的部分进行支撑，进一步避免掩膜版22下垂程度过大产生贴合不良区域。
如图9所示，弧面倒角45的弧面为向上凸出的弧面，这种形状对掩膜版22支撑效果好，避免掩膜版22下垂程度过大产生贴合不良区域。当然，在其他实现方式中，该弧面也可以为向下凹陷的弧面，本发明实施例对此不做限制。
图7-图9所示的实现方式在实现贴合不良区域外移的效果的同时，减少了掩膜版框架的材料损失，使得整个掩膜版框架的强度高，并且其中以图9所示的结构的掩膜版框架的强度最高。
在图7-图9所示的实现方式中，虽然支撑面的具体结构存在差异，但是在图7-图9所示的掩膜版框架中，第一侧边410为第一支撑臂41的固定接触平面40与第一支撑臂41上的支撑面相交的边，第二侧边420为第二支撑臂42的固定接触平面40与第二支撑臂42上的支撑面相交的边。
图10是本发明实施例提供的掩膜版框架的使用示意图，掩膜版框架21上设置有掩膜版22。图11是图10在A-A方向的部分截面示意图，图11中仅示出了掩膜版框架21的上半部分以及位于其上的结构，参见图10和图11，所述掩膜版22靠近所述第一侧边410的一端到所述第一侧边410的距离M与所述掩膜版22靠近所述第二侧边420的一端到所述第二侧边420的距离N相等，且所述第一侧边410与所述第二侧边420的距离D比所述掩膜版22的所述图形区域在所述第一方向上的长度L大4-10mm。现有技术相关设计中，镂空区域的宽度与掩膜版的图形区域的长度相同，所以贴合不良区域位于掩膜版的图形区域，造成对蒸镀图形产生影响；而在本方案中，所述第一侧边与所述第二侧边的距离增大4-10mm，且由于掩膜版对称设置在框架上，也就是每一侧增大2-5mm，保证贴合不良区域外移到掩膜版的非图形区域，避免对蒸镀图形产生影响，同时该数值范围，又能保证框架仍然有足够的长度与掩膜版焊接。
示例性地，所述第一侧边410与所述第二侧边420的距离D比所述掩膜版22的所述图形区域在所述第一方向上的长度L大8mm，既能完全保证贴合不良区域不会对蒸镀产生影响，又保证框架和掩膜版焊接的牢固程度。
本发明实施例还提供了一种蒸镀系统，该蒸镀系统包括蒸镀腔室、设置在所述蒸镀腔室内的掩膜版载台和设置在所述掩膜载台上的掩膜版框架，所述掩膜版框架为如前所述的掩膜版框架。
本发明实施例提供的掩膜版框架通过设计两条支撑臂上固定接触平面侧边的距离，实现贴合不良区域的外移，避免产生的间隙对蒸镀的影响。具体地，所述第一支撑臂的固定接触平面靠近所述第二支撑臂的第一侧边与所述第二支撑臂的固定接触平面靠近所述第一支撑臂的第二侧边平行，且所述第一侧边与所述第二侧边的距离大于所述掩膜版的图形区域的长度，因此掩膜版焊接在框架上时，框架与掩膜版的非图形区域接触，框架与掩膜版之间产生的间隙也是位于掩膜版的非图形区域，从而避免基板的显示区域与贴合不良区域对应，从而避免由于贴合了贴合不良区域造成蒸镀图形尺寸比正常像素大所造成的产品良率下降。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种掩膜版框架，其特征在于，所述掩膜版框架为矩形框架结构，所述掩膜版框架包括平行间隔设置的第一支撑臂和第二支撑臂，所述第一支撑臂和所述第二支撑臂上均设有用于固定掩膜版的固定接触平面，所述第一支撑臂的固定接触平面靠近所述第二支撑臂的第一侧边与所述第二支撑臂的固定接触平面靠近所述第一支撑臂的第二侧边平行，与所述第一侧边和第二侧边在同一平面内且相垂直的方向为第一方向；所述掩膜版包括图形区域和非图形区域，所述第一侧边与所述第二侧边之间的垂直距离大于所述掩膜版的所述图形区域在所述第一方向上的长度，所述第一侧边与所述第二侧边的距离比所述掩膜版的所述图形区域在所述第一方向上的长度大4-10mm，所述掩膜版的图形区域的长度与基板的显示区域的长度或宽度相等；
所述第一支撑臂和所述第二支撑臂上均设置有用于对所述掩膜版的非图形区域的边缘进行支撑的支撑面，所述支撑面与所述固定接触平面相连接，所述支撑面位于所述第一支撑臂朝向所述第二支撑臂的一侧，或者所述支撑面位于所述第二支撑臂朝向所述第一支撑臂的一侧。
2.根据权利要求1所述的掩膜版框架，其特征在于，所述支撑面为台阶面，所述台阶面包括平台面和连接面，所述连接面连接所述固定接触平面和所述平台面，所述平台面位于所述固定接触平面和所述掩膜版框架的底面之间。
3.根据权利要求2所述的掩膜版框架，其特征在于，所述平台面与所述固定接触平面在垂直于所述固定接触平面的方向上的距离为1-3mm。
4.根据权利要求2所述的掩膜版框架，其特征在于，所述平台面在第一方向上的宽度为2-5mm。
5.根据权利要求1所述的掩膜版框架，其特征在于，所述支撑面为斜面。
6.根据权利要求5所述的掩膜版框架，其特征在于，所述斜面与所述固定接触平面的夹角为120-150度。
7.根据权利要求1所述的掩膜版框架，其特征在于，所述支撑面为弧面。
8.根据权利要求1至7任一项所述的掩膜版框架，其特征在于，所述掩膜版靠近所述第一侧边的一端到所述第一侧边的距离与所述掩膜版靠近所述第二侧边的一端到所述第二侧边的距离相等。
9.根据权利要求8所述的掩膜版框架，其特征在于，所述第一侧边与所述第二侧边的距离比所述掩膜版的所述图形区域在所述第一方向上的长度大8mm。
10.一种蒸镀系统，其特征在于，所述蒸镀系统包括蒸镀腔室、设置在所述蒸镀腔室内的掩膜载台和设置在所述掩膜载台上的掩膜版框架，所述掩膜版框架为如权利要求1-9任一项所述掩膜版框架。
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