CN107698172B - 一种gst致密晶粒结构的自洁净玻璃的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种GST致密晶粒结构的自洁净玻璃的制造方法，包括如下步骤：(1)在锡槽的635～640℃的温度区域设置第一镀膜反应装置，在锡槽的620～630℃的温度区域设置第二镀膜反应装置；(2)将第一原料气体送入第一镀膜反应装置中对锡槽中的玻璃基片进行镀膜反应；(3)将第二原料气体送入第二镀膜反应装置中对锡槽中的镀膜玻璃基片进行镀膜反应。本发明采用双层膜折射率梯度，通过膜层折射率梯度来降低复合膜层的折射率，大面积镀膜均匀性好，且成本低廉。

Description

一种GST致密晶粒结构的自洁净玻璃的制造方法
技术领域
本发明属于玻璃制造技术领域，具体涉及一种GST致密晶粒结构的自洁净玻璃的制造方法。
背景技术
玻璃作为一种传统的透明建筑材料中得到了最广泛的应用，但由于空气的污染加重，也使得玻璃建筑物的清洗工作日益艰难，自洁净玻璃为解决以上问题提供了一种新概念的功能建筑玻璃，
现有技术中，在线自洁净玻璃目前国内尚未产业化，主要是其工艺复杂和技术难度大，涉及到如化学、光学、物理学、玻璃生产工艺及材料学等多学科技术领域，尤其要求镀膜膜层必须具有去污自洁功能，，其性能指标必须满足自洁性的指标如光解指数大于或等于45/nmol/L/min、晶粒结构致密性等，同时要克服宽板边部与中间由于温差易引起的膜层不均匀缺陷，为此，需要对多台单槽镀膜机优化组合，合理布置好膜层的顺序结构，攻克大面积镀膜均匀性问题以及降低成本等关键技术问题。另外如何和低辐射节能玻复合使用，组成新型的自洁性节能型材料，也是一个推向幕墙使用重要技术难关。工艺生产上对镀膜专用设备的适用性、设计能力、镀膜稳定性等需要进行全面技术评估鉴定，才能确保镀膜器装置在生产使用中，精确操作和安全可靠。
发明内容
本发明的目的在于提供一种GST致密晶粒结构的自洁净玻璃的制造方法。
本发明的技术方案如下：
一种GST致密晶粒结构的自洁净玻璃的制造方法，该自洁净玻璃具有一复合膜层，通过膜层折射率梯度来降低复合膜层的折射率，且该复合膜层中掺杂质量分数为10～30％的二氧化硅，包括如下步骤：
(1)在锡槽的635～640℃的温度区域设置第一镀膜反应装置，在锡槽的620～630℃的温度区域设置第二镀膜反应装置；
(2)将第一原料气体中的各组分送入蒸发器前预热器进行预热，再送入蒸发温度为110～120℃的蒸发器中加热形成第一原料气体，接着将第一原料气体通过精确的计量系统计量送入第一镀膜反应装置中对锡槽中的玻璃基片进行镀膜反应以进行Si原子掺杂及膜层晶型确定膜层折射率，得镀膜基片；上述第一原料气体中，TTIP的摩尔百分比为0.2～1.0％，H2O的摩尔百分比5.0～6.2％，载气的摩尔百分比78.9～81.9％，O2的摩尔百分比12.9～13.9％；
(3)将第二原料气体中的各组分送入蒸发器前预热器进行预热，再送入蒸发温度为80～90℃的蒸发器中加热形成第二原料气体，接着将第二原料气体通过精确的计量系统计量送入第二镀膜反应装置中对锡槽中的镀膜玻璃基片进行镀膜反应以进一步进行Si原子掺杂及膜层晶型确定膜层折射率，即在玻璃基片上制得复合膜层，并制得所述GST致密晶粒结构的自洁净玻璃；上述第二原料气体中，TTIP的摩尔百分比为0.6～2.3％，H2O的摩尔百分比为4.0～5.2％，载气的摩尔百分比为75.6～84.0％，O2的摩尔百分比为11.4～16.9％。
在本发明的一个优选实施方案中，所述第一原料气体中的TTIP是钛酸异丙酯与正硅酸四乙酯质量分数为80～90％∶10～20％进行配比。
在本发明的一个优选实施方案中，所述第二原料气体中的TTIP是钛酸异丙酯与正硅酸四乙酯质量分数为70～80％∶20～30％进行配比。
在本发明的一个优选实施方案中，所述载气为氮气或惰性气体。
进一步优选的，所述惰性气体为氦气。
本发明的有益效果是：本发明采用双层膜折射率梯度，通过膜层折射率梯度来降低复合膜层的折射率，大面积镀膜均匀性好，且成本低廉。
附图说明
图1为本发明实施例1制备的自洁净玻璃的光学性能曲线图。
图2为本发明实施例1制备的自洁净玻璃的膜层微观形貌图。
具体实施方式
以下通过具体实施方式结合附图对本发明的技术方案进行进一步的说明和描述。
实施例1
采用双层膜折射率梯度，通过膜层折射率梯度来降低复合膜层的折射率，且该复合膜层中掺杂质量分数为10～20％的二氧化硅，具体包括如下步骤：
(1)在锡槽的635～640℃的温度区域设置第一镀膜反应装置，在锡槽的620～630℃的温度区域设置第二镀膜反应装置；
(2)将第一原料气体中的各组分送入蒸发器前预热器进行预热，再送入蒸发温度为110～120℃的蒸发器中加热形成第一原料气体，接着将第一原料气体通过精确的计量系统计量送入第一镀膜反应装置中对锡槽中的玻璃基片进行镀膜反应以进行Si原子掺杂及膜层晶型确定膜层折射率，得镀膜基片；上述第一原料气体中，TTIP的摩尔百分比为0.2％，H2O的摩尔百分比5.0％，载气的摩尔百分比81.9％，O2的摩尔百分比12.9％；
(3)将第二原料气体中的各组分送入蒸发器前预热器进行预热，再送入蒸发温度为80～90℃的蒸发器中加热形成第二原料气体，接着将第二原料气体通过精确的计量系统计量送入第二镀膜反应装置中对锡槽中的镀膜玻璃基片进行镀膜反应以进一步进行Si原子掺杂及膜层晶型确定膜层折射率，即在玻璃基片上制得复合膜层，并制得如图1和图2所示的所述GST致密晶粒结构的自洁净玻璃；上述第二原料气体中，TTIP的摩尔百分比为0.6％，H2O的摩尔百分比为4.0％，载气的摩尔百分比为84.0％，O2的摩尔百分比为11.4％。
第一原料气体中的TTIP是钛酸异丙酯与正硅酸四乙酯质量分数为90％∶10％进行配比。第二原料气体中的TTIP是钛酸异丙酯与正硅酸四乙酯质量分数为80％∶20％进行配比。上述载气为氮气或惰性气体，且惰性气体优选为氦气。
本实施例制得的GST致密晶粒结构的自洁净玻璃的光学性能曲线如图1所示，其上的复合膜层的表面形貌如图2所示，其参数如下表所示：
U SC Tvis Tsol Rvis Rsol
5.808 0.857 0.703 0.711 0.256 0.173
实施例2
采用双层膜折射率梯度，通过膜层折射率梯度来降低复合膜层的折射率，且该复合膜层中掺杂质量分数为20～30％的二氧化硅，具体包括如下步骤：
(1)在锡槽的635～640℃的温度区域设置第一镀膜反应装置，在锡槽的620～630℃的温度区域设置第二镀膜反应装置；
(2)将第一原料气体中的各组分送入蒸发器前预热器进行预热，再送入蒸发温度为110～120℃的蒸发器中加热形成第一原料气体，接着将第一原料气体通过精确的计量系统计量送入第一镀膜反应装置中对锡槽中的玻璃基片进行镀膜反应以进行Si原子掺杂及膜层晶型确定膜层折射率，得镀膜基片；上述第一原料气体中，TTIP的摩尔百分比为1.0％，H2O的摩尔百分比6.2％，载气的摩尔百分比78.9％，O2的摩尔百分比13.9％；
(3)将第二原料气体中的各组分送入蒸发器前预热器进行预热，再送入蒸发温度为80～90℃的蒸发器中加热形成第二原料气体，接着将第二原料气体通过精确的计量系统计量送入第二镀膜反应装置中对锡槽中的镀膜玻璃基片进行镀膜反应以进一步进行Si原子掺杂及膜层晶型确定膜层折射率，即在玻璃基片上制得复合膜层，并制得所述GST致密晶粒结构的自洁净玻璃；上述第二原料气体中，TTIP的摩尔百分比为2.3％，H2O的摩尔百分比为5.2％，载气的摩尔百分比为75.6％，O2的摩尔百分比为16.9％。
第一原料气体中的TTIP是钛酸异丙酯与正硅酸四乙酯质量分数为80％：20％进行配比。第二原料气体中的TTIP是钛酸异丙酯与正硅酸四乙酯质量分数为70％：30％进行配比。上述载气为氮气或惰性气体，且惰性气体优选为氦气。
以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，故不能依此限定本发明实施的范围，即依本发明专利范围及说明书内容所作的等效变化与修饰，皆应仍属本发明涵盖的范围内。

Claims (1)

1.一种GST致密晶粒结构的自洁净玻璃的制造方法，其特征在于：该自洁净玻璃具有一复合膜层，通过膜层折射率梯度来降低复合膜层的折射率，且该复合膜层中掺杂质量分数为10~20%的二氧化硅，包括如下步骤：
（1）在锡槽的635~640℃的温度区域设置第一镀膜反应装置，在锡槽的620~630℃的温度区域设置第二镀膜反应装置；
（2）将第一原料气体中的各组分送入蒸发器前预热器进行预热，再送入蒸发温度为110~120℃的蒸发器中加热形成第一原料气体，接着将第一原料气体通过精确的计量系统计量送入第一镀膜反应装置中，对锡槽中的玻璃基片进行镀膜反应，以进行Si原子掺杂及确定膜层折射率，得镀膜基片；上述第一原料气体中，TTIP的摩尔百分比为0.2%，H2O的摩尔百分比5.0%，载气的摩尔百分比81.9%，O2的摩尔百分比12.9%；
（3）将第二原料气体中的各组分送入蒸发器前预热器进行预热，再送入蒸发温度为80~90℃的蒸发器中加热形成第二原料气体，接着将第二原料气体通过精确的计量系统计量送入第二镀膜反应装置中，对锡槽中的镀膜玻璃基片进行镀膜反应，以进一步进行Si原子掺杂及确定膜层折射率，即在玻璃基片上制得复合膜层，并制得所述GST致密晶粒结构的自洁净玻璃；上述第二原料气体中，TTIP的摩尔百分比为0.6%，H2O的摩尔百分比为4.0%，载气的摩尔百分比为84.0%，O2的摩尔百分比为11.4%；
第一原料气体中的TTIP是钛酸异丙酯与正硅酸四乙酯质量分数为90%:10%进行配比；第二原料气体中的TTIP是钛酸异丙酯与正硅酸四乙酯质量分数为80%:20%进行配比；上述载气为氮气或氦气。
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CN105669044A (zh) * 2015-12-31 2016-06-15 株洲醴陵旗滨玻璃有限公司 一种在线易洁镀膜玻璃及其制备方法

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