CN107653701B - 数码印花有机硅合成革及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种数码印花有机硅合成革及其制备方法。所述数码印花有机硅合成革包括具有数码印花图案的基材层,在所述具有数码印花图案的基材层表面依次叠加有底胶层和面胶层,并且所述底胶层覆盖所述基材层上的数码印花图案。面胶层的制备原料主要包括有机聚硅氧烷、有机氢化聚硅氧烷、乙烯基MTQ硅树脂,以合适的配比混合后得面胶,底胶层的制备原料和面胶层相同,以合适的配比混合后得底胶,将面胶涂布在离型纸上后固化,将底胶涂布在固化的面胶上形成底胶层,再将底胶层覆盖所述基材层上的数码印花图案,在将形成的底胶层固化,剥离离型纸,得数码印花有机硅合成革。该数码印花有机硅合成革具有优异的环保性、防污性、耐磨性、耐水解性以及色彩保留永久性。

Description

数码印花有机硅合成革及其制备方法
技术领域
本发明涉及合成革领域,特别是涉及一种数码印花有机硅合成革及制备方法。
背景技术
皮革制品是一种高端时尚的产品,然而传统的由离型纸或者辊筒制造出的皮革纹路已经不能满足人们对于审美的需求,于是诞生了在皮革表面进行印花的技术。通过在皮革表面进行辊筒印花或者筛网印花生产的皮革产品,既丰富了皮革的种类,同时鲜艳的色彩及精美的图形也满足了人们对于外观的时尚追求。然而,针对这类的皮革存在着几个方面的不足,一方面在皮革表面直接印花,对于印花材料的色彩保留及花纹清晰度提出双重考验;另一方面,由于PU合成革、PVC人造革的耐水解,防污性等始终是一个难以解决的问题,导致直接在PU合成革及PVC人造革的表面进行印花存在着印花层容易脱落、难打理、耐磨性不足等问题,长时间使用后极其影响外观。同时,主流市场上PU的生产仍然采用溶剂型的生产方式,导致大量的甲苯、DMF、丁酮、甲乙酮、环己酮等有毒溶剂的排放到空气中,从而对环境造成严重的污染;PVC人造革生产工艺中包括有机溶剂及增塑剂的使用,这些有机溶剂和增塑剂也在威胁着人类的健康。
中国专利(公开号:CN102605635A,公开日期:2012-07-25)提出在水性聚氨酯发泡层上直接印花,虽然该印花合成革的制备过程中不使用有机溶剂,但是其印花图案的色牢度及防污性比较差。
中国专利(公开号:CN106087444A,公开日期:2016-11-09)提出使用在印花层上涂覆水性聚氨酯的固色层。此种方法虽然解决了印花图案色牢度和有机溶剂的问题,但是仍然不能解决印花皮革的防污性以及阻燃性等问题。
有机硅合成革所使用的有机硅材料化学性质非常稳定,通过主链由-Si-O-基本单元构成,而侧链通过硅原子与其他各种有机基团相连形成的有机硅材料兼备了无机物的稳定性以及有机物的弹性和塑性功能。同时,由于有机硅具有很低的表面能以及较高的氧指数,由此生产的有机硅皮革具有天然的防污性、阻燃性、耐候性等优势。尽管有机硅材料具有诸多的优势,但是由于有机硅本身摩擦阻力大,耐磨性差,同时也正是由于有机硅表面能非常低,造成了很多材料能难在皮革表面依附,包括印花的颜料,因此色彩保留效果很差,限制了有机硅合成革材料的应用。
发明内容
基于此,本发明提供了一种具有优异的环保性、防污性、耐磨性、耐水解性、阻燃性以及色彩保留永久性能的数码印花有机硅合成革。
具体技术方案如下:
一种数码印花有机硅合成革,所述数码印花有机硅合成革包括具有数码印花图案的基材层,在所述具有数码印花图案的基材层表面依次叠加有底胶层和面胶层,并且所述底胶层覆盖所述基材层上的数码印花图案,
按质量份计,所述面胶层是由如下主要原料制备得到的:
按质量份计,所述底胶层是由如下主要原料制备得到的:
其中,所述乙烯基MTQ硅树脂的平均组成式(1)如下:
(R1 3SiO1/2)a[(CH2=CH)R2 2SiO1/2]b(R’SiO3/2)c(SiO4/2)d (1)
式中,R1和R2表示彼此相同或不同的取代基,
R1和R2选自:烷基、芳基、芳基取代的烷基、链烯基,
R’选自3-(2,3-环氧丙氧)丙基、甲基丙烯酰氧基丙基和2-(3,4-环氧环己烷基)中的至少一种,
a、b、c和d都是正数并且满足条件:a+b+c+d=1、0.5≤(a+b+c)/d≤1.5以及3≤(a+b)/c≤8,
所述有机聚硅氧烷的每个分子内具有至少2个链烯基,
所述有机氢化聚硅氧烷的每个分子内至少具有两个键合到硅原子的氢原子。
在其中一些实施例中,上述R1、R2选自:C1~C12的烷基、C6-C12的芳基、C7-C12的芳基取代的烷基、C2-C12的链烯基。
在其中一些实施例中,上述R1、R2选自:C1~C8的烷基、C6-C10的芳基、C7-C10的芳基取代的烷基、C2-C8的链烯基。
具体的,上述R1和R2可列举如下:
甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基和辛基;苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基;苄基、苯乙基、苯丙基;乙烯基、烯丙基、丙烯基、异丙烯基、丁烯基、己烯基、环己烯基、辛烯基。
在其中一些实施例中,R1和R2选自:甲基或者苯基。
在所述数码印花有机硅合成革的面胶层和底胶层中,相对于每100质量份的有机聚硅氧烷,有机硅氢化聚硅氧烷的添加量为1-10质量份。当添加量小于0.1质量份时,面胶层和底胶层中的乙烯基交联不完全,交联密度低,不能为数码印花有机硅合成革提供足够的爽滑手感;当添加量大于10质量份时,面胶层和底胶层会过度交联,并且会出现脱氢反应,产生气泡。
在所述数码印花有机硅合成革的面胶层中,相对于每100质量份的有机聚硅氧烷,乙烯基MTQ硅树脂的添加量为1-80质量份。当添加量小于1质量份时,乙烯基MTQ对面胶层的补强效果不明显,作用有限;当添加量大于80质量份时,面胶层的胶体的硬度过高,缺乏柔软的触感。
在所述数码印花有机硅合成革的面胶层和底胶层中,相对于每100质量份的有机聚硅氧烷,色膏的添加量不能超过3质量份,当超过3质量份时,会影响涂层的透明性,进而影响印花的图形外观。
上述具有数码印花图案的基材层是通过在基材上数码印花得到的,所述基材选自涤纶、氨纶、腈纶、锦纶、氯纶、粘胶纤维、芳纶、天然纤维、玻璃纤维中的一种,或,
所述基材选自涤纶、氨纶、腈纶、锦纶、氯纶、粘胶纤维、芳纶、天然纤维、玻璃纤维中的至少两种任意比例的混纺的织物;
所述的基材结构可以是双面、四面弹或者无弹力的针织结构,双面、四面弹或者无弹力的梭织结构或者是定岛和不定岛的超纤、无纺布。相对于传统合成革的印花基材为PU合成革、PVC合成革等,本发明所述的基材具有良好的印刷适应性、耐磨性、防污性、色彩保留性及花纹清晰度。
所述的基材在涂布之前需要对织物表面进行数码印花。数码印花的工艺不受限制,可以是对布料表面采用直喷的方式转移设计好的图案。也可以是使用热转印工艺印花,即先把设计好的图形通过喷墨打印的方式,印刷在转印纸上,再将转印纸与基材贴合,在压力和温度的作用下,图案热升华至基材上。或者是通过活性印染的方式转移图案,即对基材进行煮练、漂白、印花、烘干、蒸化、水洗、烘干等工序转移图案。
在其中一些实施例中,所述数码印花有机硅合成革包括具有数码印花图案的基材层,在所述具有数码印花图案的基材层表面依次叠加有底胶层和面胶层,并且所述底胶层覆盖所述基材层上的数码印花图案,其中,
按质量份计,所述面胶层是由如下主要原料制备得到的:
按质量份计,所述底胶层是由如下主要原料制备得到的:
在其中一些实施例中,在所述面胶层,活泼氢的总摩尔数与乙烯基的总摩尔数的比值为0.5-4.5,所述活泼氢的总摩尔数为所述有机氢化聚硅氧烷中与硅原子直接键合的氢原子的摩尔数,所述乙烯基的总摩尔数为所述有机聚硅氧烷中的乙烯基的摩尔数与所述乙烯基MTQ硅树脂中的乙烯基的摩尔数之和。
在其中一些实施例中,在所述底胶层中,活泼氢的总摩尔数与乙烯基的总摩尔数的比值为0.5-4.5,所述活泼氢的总摩尔数为所述有机氢化聚硅氧烷中与硅原子直接键合的氢原子的摩尔数,所述乙烯基的总摩尔数为所述有机聚硅氧烷中的乙烯基的摩尔数与所述乙烯基MTQ硅树脂中的乙烯基的摩尔数之和。
在其中一些实施例中,所述有机聚硅氧烷中乙烯基的质量分数为0.02-0.3%。
在其中一些实施例中,所述有机聚硅氧烷中乙烯基的质量分数为0.06-0.27%。
在其中一些实施例中,所述乙烯基MTQ硅树脂中乙烯基的质量分数为0.1-10%。当乙烯基MTQ硅树脂中乙烯基质量分数过小时,不能形成足够的力学支撑,且形成的网络结构具有压敏特性,导致胶体表面发粘;当乙烯基MTQ硅树脂中乙烯基质量分数过大时,交联度过大,导致胶体出现脆性,不适合涂布。
在其中一些实施例中,所述乙烯基MTQ硅树脂中乙烯基的质量分数为1-5%。
在其中一些实施例中,所述有机氢化聚硅氧烷中与硅原子直接键合的氢原子的质量分数为0.1-1.6%。
在其中一些实施例中,所述有机氢化聚硅氧烷中与硅原子直接键合的氢原子的质量分数为0.5-1.2%。
在其中一些实施例中,所述有机聚硅氧烷的平均组成式(2)如下:
R3 aSiO(4-a)/2 (2)
式中,R3表示彼此相同或不同的与硅原子直接键合的取代或非取代的一价烃基,
a是满足1.5≤a≤2.8的数值,
所述有机聚硅氧烷在25℃下的粘度为500-500000mPa·s。
在其中一些实施例中,a为满足1.8≤a≤2.5的数值。
在其中一些实施例中,a为满足1.95≤a≤2.05的数值。
在其中一些实施例中,所述有机聚硅氧烷在25℃下的粘度为1000-300000mPa·s。
具体的,R3可列举如下:
甲基、乙基、正丙基、异丙基,环己基;乙苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基;苄基、苯乙基、苯丙基;乙烯基、烯丙基、丙烯基、异丙烯基、丁烯基、己烯基;或者这些基团的氢原子的一部分或全部用卤素原子(氟、溴、氯、氰)等取代的烃基,例如氯甲基、氯丙基、溴乙基、三氟甲基、氰基乙基。
在其中一些实施例中,有机聚硅氧烷的每个分子内具有2-60个链烯基基团。
在其中一些实施例中,有机聚硅氧烷的每个分子内具有2-30个链烯基基团。
在其中一些实施例中,所述链烯基为含有2-7碳原子数的链烯基基团。
在其中一些实施例中,所述链烯基为含有2-5碳原子数的链烯基基团。
在其中一些实施例中,所述链烯基为乙烯基。
在其中一些实施例中,在有机聚硅氧烷中,链烯基基团可以分布在链的两端,也可以分布链的中间,或者是两者的结合。从调整胶体的力学性能考虑,它们可以单独使用一种结构,也可以组合使用两种以上。
在其中一些实施例中,有机聚硅氧烷的分子链可以是直链状、支链状或者环状,它们可以单独使用,也可以组合使用。
具体的,有机聚硅氧烷具体可为:
二甲基乙烯基甲硅烷氧基封端的二甲基聚硅氧烷,二甲基乙烯基甲硅烷氧基封端的二甲基硅氧烷-甲基乙烯基硅氧烷共聚物,二甲基乙烯基甲硅烷氧基封端的二甲基硅氧烷-甲基苯基硅氧烷共聚物,二甲基乙烯基甲硅烷氧基封端的二甲基硅氧烷-甲基乙烯基硅氧烷-甲基苯基硅氧烷共聚物,二甲基乙烯基甲硅烷氧基封端的二甲基硅氧烷-二苯基硅氧烷共聚物,二甲基乙烯基甲硅烷氧基封端的二甲基硅氧烷-甲基乙烯基硅氧烷-二苯基硅氧烷共聚物,三甲基甲硅烷氧基封端的二甲基硅氧烷-甲基乙烯基硅氧烷共聚物。
在其中一些实施例中,所述有机氢化聚硅氧烷在25℃下的粘度为1-1000mPa·s。
在其中一些实施例中,所述有机氢化聚硅氧烷在25℃下的粘度为5-500mPa·s。
有机氢化聚硅氧烷是作为本发明的交联剂,在铂金催化剂的作用下,有机氢化聚硅氧烷中与硅直接键合的氢原子通过硅氢加成反应连接到有机聚硅氧烷上的链烯基上,因此材料需要形成三维网状的交联结构,需要在有机氢化聚硅氧烷的分子中存在至少两个与硅键合的氢原子,该氢原子可以键合在氢化聚硅氧烷末端,也可以分布在分子链的中间,或者它们之间的组合。除了与硅键合的氢原子,有机氢化聚硅氧烷还能存在以下有机基团:甲基、乙基、丙基和类似的烷基;苯基、甲苯基和类似的芳基。对于有机氢化聚硅氧烷结构没有特别的限制,可以是直链状的、支链状的或者环状的,它们可以单独使用,也可以组合使用。
具体的,有机氢化聚硅氧烷的可以为:
分子两末端用三甲基硅氧基封端的甲基氢聚硅氧烷;分子两末端用三甲基硅氧基封端的甲基氢聚硅氧烷-二甲基硅氧烷共聚物;分子两末端用二甲基氢硅氧基封端的甲基氢聚硅氧烷-二甲基硅氧烷共聚物。
在其中一些实施例中,所述填料选自气相法二氧化硅、沉淀法二氧化硅,气相法二氧化钛、气相法三氧化二铝的至少一种。
在其中一些实施例中,本发明填料的比表面积不做特别的限定,也可以为50-400m2/g。
在其中一些实施例中,所述铂金催化剂中Pt原子的质量百分含量为1000-20000ppm,所述铂催化剂选自铂黑、氯铂酸、四氯化铂、铂负载的二氧化硅、铂负载的氧化铝、铂负载的炭黑、氯铂酸的异丙醇溶液、氯铂酸的乙醇溶液、铂-1,3二乙烯基四甲基二硅氧烷配合物、铂-四乙烯基环四硅氧烷配合物、铂-烯炔配合物中的至少一种。
在其中一些实施例中,所述铂金催化剂为铂-1,3二乙烯基四甲基二硅氧烷配合物。
在其中一些实施例中,所述抑制剂选自炔醇类化合物、多乙烯基硅氧烷聚合物、酰胺化合物、吡啶、咪唑或含P原子的化合物中的至少一种。
在其中一些实施例中,所述抑制剂为炔醇类化合物,所述炔醇类化合物选自甲基丁炔醇、乙炔基环己醇、含炔基的马来酸或其衍生物、含炔基的富马来酸或其衍生物。
在其中一些实施例中,所述抑制剂为含P原子的化合物,所述含P原子的化合物选自有机磷或亚磷酸酯。
在其中一些实施例中,所述色膏为使用乙烯基聚二甲基硅氧烷作为分散介质的颜料,颜料可以是无机颜料或者有机颜料。
此外,在不损害本发明效果的范围内,可以配合添加作为公知技术的任意成分,例如:防霉抗菌材料、耐磨材料、无卤阻燃材料、手感助剂、抗静电剂、离型剂及增粘剂等。所述防霉抗菌材料包括纳米银、分子银、异噻唑啉酮或其衍生物等;所述耐磨材料包括高分子量聚二甲基硅氧烷;所述无卤阻燃材料包括苯并三唑或其衍生物等;所述手感助剂包括PE蜡、聚四氟乙烯蜡等蜡状物质。
本发明还提供了上述数码印花有机硅合成革的制备方法,先是使用上述列举的数码印花的工艺对基材进行染色印花,再使用透明或者半透明的面胶和底胶进行涂布,涂布方法可以是喷射法、刮刀法、流延法、网印法、蘸涂法、转涂法和其他已知的方法进行。
具体技术方案如下:
一种数码印花有机硅合成革的制备方法,包括如下步骤:
(1)将上述所述面胶层的制备原料混合,得面胶;
(2)将所述的面胶涂布在离型纸上,加热固化,得固化面胶层;
(3)将上述底胶层的制备原料混合均匀,得底胶;
(4)将所述的底胶涂布在所述的固化面胶层上,形成底胶层,再将底胶层与具有数码印花图案的基材层复合,并且所述底胶层覆盖所述基材层上的数码印花图案,加热固化,剥离离型纸,得数码印花有机硅合成革。
在其中一些实施例中,步骤(2)所述的面胶涂布在离型纸上时,所述涂布机设置的涂布速度为3-15m/min,步骤(2)所述的加热固化的条件为:在80-150℃的条件下固化1-10min。
在其中一些实施例中,步骤(4)所述的底胶涂布在所述的固化面胶层上时,所述涂布机设置的涂布速度为3-15m/min,步骤(4)所述加热固化的条件为:在80-150℃的条件下固化2-10min。
与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:
本发明所述数码印花合成革是由面胶层、底胶层以及具有数码印花图案的基材层依次叠加构成,面胶层的制备原料主要包括作为基础聚合物的有机聚硅氧烷、作为交联剂的氢化有机聚硅氧烷以及作为补强和耐磨成分的乙烯基MTQ硅树脂,这些组分以合适的配比混合并与其他组分相互协同使本发明所述数码印花合成革的面胶层具有良好的耐磨性、防污性、耐水解性、阻燃性;底胶层的制备原料同面胶层,通过有机聚硅氧烷、氢化有机聚硅氧烷以及乙烯基MTQ硅树脂以合适的配比混合并与其他组份相互协同使底胶层具有良好的耐水解性、阻燃性,底胶层一方面起到粘结面胶层和数码印花基材层的作用,另一方面进一步地起到提高数码印花合成革耐水解性以及阻燃性的作用;将底胶层与具有数码印花图案的基材层复合,并且所述底胶层覆盖所述基材层上的数码印花图案,数码印花图案被底胶层和面胶层保护起来,提高了印花层的色彩保留永久性、耐水解性;本发明所述面胶层、底胶层以及数码印花层作为一个整体使本发明所述数码印花合成革具有优异的环保性、防污性、耐磨性、耐水解性、色彩保留永久性。本发明所述数码印花合成革的制备原料环保,使本发明所述数码印花合成革安全性好。另外,本发明所述数码印花合成革制备方法简单且不使用有机溶剂。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本发明的作进一步详细的说明,但是本发明不受下面具体例子的限定,下面具体例中份表示质量份。
以下的制备工艺,为了保证填料与有机聚硅氧烷的混合均匀,作为公知的技术会添加六甲基二硅氮烷、二甲基二氯硅烷、三甲基氯硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷等处理剂对填料表面进行处理。其他混胶工艺如无特殊说明,均采用现有的常规技术。
以下实施例中,有机聚硅氧烷、有机氢化聚硅氧烷、乙烯基MTQ硅树脂、由江西新嘉懿新材料有限公司提供,色膏、铂金催化剂为自产,所使用的其他原材料如无特别说明,均来源于市售。
以下实施例中,所用有机聚硅氧烷(A)如表1。
表1有机聚硅氧烷的性能参数
以下实施例中,所用有机氢化聚硅氧烷(B)如表2:
表2有机氢化聚硅氧烷的性能参数
以下实施例中,所用乙烯基MTQ硅树脂(C)的平均组成式如下:
(R1 3SiO1/2)a[(CH2=CH)R2 2SiO1/2]b(R’SiO3/2)c(SiO4/2)d
乙烯基MTQ硅树脂的平均组成式中的基团和相关参数如表3:
表3乙烯基MTQ硅树脂的平均组成式中的基团和相关参数
实施例1-5的数码印花有机硅合成革的原料及性能如表4,各原料的用量以质量份计。
表4实施例1-5的数码印花有机硅合成革的制备原料及性能
注:面胶层和底胶层中,硅氢比是指活泼氢的总摩尔数与乙烯基的总摩尔数的比值,活泼氢的总摩尔数为有机氢化聚硅氧烷中与硅原子直接键合的氢原子的摩尔数,乙烯基的总摩尔数为有机聚硅氧烷中的乙烯基的摩尔数和乙烯基MTQ硅树脂中的乙烯基的摩尔数之和。
实施例1-5的数码印花有机硅合成革的制备方法如下:
(1)使用热转印印花工艺制作具有数码印花图案的涤纶基布,具体步骤如下:
将设计的图形通过喷墨打印的方式,印刷在转印纸上,然后再将转印纸与数码印花基材贴合,在温度为180℃的条件下,通过颜料的热升华作用将图案转移至涤纶织物上形成印花图案,得具有数码印花图案的涤纶基布。
(2)取数码印花有机硅合成革的面胶层的制备原料混合,得半透明的面胶。
(3)设置涂布机的涂布速度为5m/min,将半透明的面胶使用刮刀法涂布在离型纸上,然后将涂布面胶的离型纸放在烤箱(温度为130℃)中加热固化3min,得固化的面胶层。
(4)取数码印花有机硅合成革的底胶层的制备原料混合,得透明的底胶。
(5)设置涂布机的涂布速度为5m/min,将透明的底胶使用刮刀法涂布在已经固化的面胶层上,形成底胶层,再将底胶层与具有数码印花图案的涤纶基布复合,并且底胶层覆盖在涤纶基布上的数码印花图案上,然后将复合后的具有数码印花图案的涤纶基布放在烤箱(温度为120℃)中加热固化3min,剥离离型纸,即得数码印花有机硅合成革。
实施例6-10的数码印花有机硅合成革的制备原料及性能如表5,各原料的用量以质量份计。
表5实施例6-10的数码印花有机硅合成革的制备原料及性能
注:面胶层和底胶层中,硅氢比是指活泼氢的总摩尔数与乙烯基的总摩尔数的比值,活泼氢的总摩尔数为有机氢化聚硅氧烷中与硅原子直接键合的氢原子的摩尔数,乙烯基的总摩尔数为乙烯基MTQ硅树脂中的乙烯基的摩尔数和有机硅聚硅氧烷中的乙烯基的摩尔数之和。
实施例6-10的数码印花有机硅合成革的制备方法同实施例1-5。
结果:由表4和表5可知,实施例1-10的数码印花有机硅合成革具有良好的耐磨性、耐水解性、数码印花保留性、防污性、阻燃性以及爽滑感。另外,实施例1-10的数码印花合成革都无细胞毒性并且不会导致皮肤过敏,主要原因是实施例1-10的数码印花合成革的制备原料环保。实施例1-10的数码印花有机硅合成革的剥离负荷为28-32N,表明构成数码印花有机硅合成革的面胶层、底胶层以及具有数码印花图案的基材层之间具有良好的粘结性。其中,实施例6的数码印花有机硅合成革的综合性能最佳。由此可知,本发明数码印花有机硅合成革具有优异的环保性、耐磨性、耐水解性、防污性、爽滑感以及色彩保留永久性。
对比例1-3的数码印花有机硅合成革如下,其制备方法同实施例1-10。
对比例1为数码印花有机硅合成革,其各层的制备原料与实施例6相同,不同之处在于,对比例1的面胶层中不含乙烯基MTQ硅树脂。
对比例2为数码印花有机硅合成革,其各层的制备原料与实施例6相同,不同之处在于,对比例1的面胶层中有机氢化聚硅氧烷的质量份为12份。
对比例3为数码印花有机硅合成革,其各层的制备原料与实施例6相同,不同之处在于,对比例1的底胶层中不含乙烯基MQ硅树脂。
表6对比例1-3的数码印花有机硅合成革的性能
结果:对比例1的数码印花有机硅合成革的面胶层不含乙烯基MTQ硅树脂,一方面影响对比例1的数码印花有机硅合成革的耐磨性,另一方面也影响对比例1数码印花有机硅合成革的面胶层和底胶层之间的粘接性,导致对比例1的数码印花有机硅合成革的耐摩擦性、爽滑感以及剥离负荷都明显下降;对比例2的数码印花有机硅合成革的面胶层含有过量的交联剂,导致数码印花有机硅合成革的面胶层过度交联,出现脱氢反应,产生气泡,从而导致对比例2的数码印花有机硅合成革的耐摩擦性、爽滑感变差,剥离负荷减小;对比例3的数码印花有机硅合成革的底胶层不含有乙烯基MTQ硅树脂,导致底胶层的与基材以及面胶层之间的粘接性明显下降,从而导致对比例3的数码印花有机硅合成革的剥离负荷明显下降。
上述实施例1-10以及对比例1-3的测试方法如下:
1、耐磨性测试
耐磨性测试1
测试方法:按照ISO/NP17076-2004的规定进行试验,采用CS-10砂轮、1000g的负重,测试转数为3000转。
评判标准:
1级 很明显
2级 比较明显
3级 能分辨出
4级 难以分辨出
5级 无法分辨出
耐磨性测试2
测试方法:按照ASTM D 4157-13的规定进行试验,采用10#帆布棉,测试周期为300000个循环。
评判标准:
1级 涂层被磨穿,透露基布
2级 涂层磨损较为严重,纹路被磨平
3级 涂层纹路有磨损,但可以比较清晰看清纹路
4级 涂层纹路几乎无磨损,但是光雾度略有变化
5级 涂层看不出被磨损的痕迹,光雾度无变化
2、耐水解测试
测试方法:按照ISO1419:1995的规定进行测试,测试周期为10个星期。
3、数码印花保留
测试方法:按照ASTM D3389的规定进行测试,使用H-18砂轮、500g的负重,测试周期为500转。
评判标准:
1级 色彩图形出现3/4以上的损坏
2级 色彩图形出现1/2以上的损坏
3级 色彩图形出现1/4以上的损坏
4级 色彩图形保留完好,表面无变化
4、阻燃性测试
阻燃测试1
测试方法:按照FMVSS302进行测试。
阻燃测试2
测试方法:按照CA 117-2013进行测试。
阻燃测试3
测试方法:按照GB8410-2006进行测试。
5、细胞毒性测试
测试方法:按照ISO10993-5的规定进行测试。评判标准:
0级 无细胞毒性
1级 轻微细胞毒性
2级 轻度细胞毒性
3级 中度细胞毒性
4级 重度细胞毒性
6、皮肤过敏测试
测试方法:按照ISO10993-10的规定进行测试。评判标准:
0级 无反应
1级 微弱阳性反应
2级 中度阳性反应
3级 重度阳性反应
7、防污性测试
测试方法:按照CFFA-141的规定进行测试。
评判标准:
1级 污渍完全不能清除
2级 大面积污渍
3级 轻微的污渍痕迹
4级 污渍完全清除
8、滑爽感测试
评判标准:使用本公司内部的评判标准:
A 干爽顺滑
B 光滑
C 止滑
9、剥离测试
测试方法:按照GB/T8949-2008的规定裁取三块长150mm,宽30mm的小皮革样片,用适量粘接胶将涂层与同类革涂层粘贴在一起(试样必须粘合牢固),再将贴合好的试样置于135℃±5℃,恒温2h后,对贴合处理后的试样进行手剥,试样的涂层与基布分开至50mm,再将分开的两端分别夹在拉伸试验机的夹具上,以200mm/min的速度进行剥离,记录试样剥离的最大负荷。
评价标准:试样的最大负荷≥18N时,则认为符合使用要求。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种数码印花有机硅合成革,其特征在于,所述数码印花有机硅合成革包括具有数码印花图案的基材层,在所述具有数码印花图案的基材层表面依次叠加有底胶层和面胶层,并且所述底胶层覆盖所述基材层上的数码印花图案,
按质量份计,所述面胶层是由如下主要原料制备得到的:
按质量份计,所述底胶层是由如下主要原料制备得到的:
其中,所述乙烯基MTQ硅树脂的平均组成式(1)如下:
(R1 3SiO1/2)a[(CH2=CH)R2 2SiO1/2]b(R’SiO3/2)c(SiO4/2)d (1)
式中,R1和R2表示彼此相同或不同的取代基,
R1和R2选自:烷基、芳基、芳基取代的烷基、链烯基,
R’选自3-(2,3-环氧丙氧)丙基、甲基丙烯酰氧基丙基和2-(3,4-环氧环己烷基)中的至少一种,
a、b、c和d都是正数并且满足以下条件:a+b+c+d=1、0.5≤(a+b+c)/d≤1.5以及3≤(a+b)/c≤8;
所述有机聚硅氧烷的每个分子内具有至少2个链烯基;
所述有机氢化聚硅氧烷的每个分子内至少具有两个键合到硅原子的氢原子。
2.根据权利要求1所述的数码印花有机硅合成革,其特征在于,
按质量份计,所述面胶层是由如下主要原料制备得到的:
按质量份计,所述底胶层是由如下主要原料制备得到的:
3.根据权利要求1所述的数码印花有机硅合成革,其特征在于,在所述面胶层中,活泼氢的总摩尔数与乙烯基的总摩尔数的比值为0.5-4.5,所述活泼氢的总摩尔数为所述有机氢化聚硅氧烷中与硅原子直接键合的氢原子的摩尔数,所述乙烯基的总摩尔数为所述有机聚硅氧烷中的乙烯基的摩尔数与所述乙烯基MTQ硅树脂中的乙烯基的摩尔数之和。
4.根据权利要求1所述的数码印花有机硅合成革,其特征在于,在所述底胶层中,活泼氢的总摩尔数与乙烯基的总摩尔数的比值为0.5-4.5,所述活泼氢的总摩尔数为所述有机氢化聚硅氧烷中与硅原子直接键合的氢原子的摩尔数,所述乙烯基的总摩尔数为所述有机聚硅氧烷中的乙烯基的摩尔数与所述乙烯基MTQ硅树脂中的乙烯基的摩尔数之和。
5.根据权利要求1-4任一项所述的数码印花有机硅合成革,其特征在于,所述有机聚硅氧烷中乙烯基的质量分数为0.02-0.3%;或/和,
所述乙烯基MTQ硅树脂中乙烯基的质量分数为0.1-10%;或/和,
所述有机氢化聚硅氧烷中与硅原子直接键合的氢原子的质量分数为0.1-1.6%。
6.根据权利要求5所述的数码印花有机硅合成革,其特征在于,所述有机聚硅氧烷中乙烯基的质量分数为0.06-0.27%;或/和,
所述乙烯基MTQ硅树脂中乙烯基的质量分数为1-5%;或/和,
所述有机氢化聚硅氧烷中与硅原子直接键合的氢原子的质量分数为0.5-1.2%。
7.根据权利要求1-4任一项所述的数码印花有机硅合成革,其特征在于,所述有机聚硅氧烷的平均组成式(2)如下:
R3 aSiO(4-a)/2 (2)
式中,R3表示彼此相同或不同的与硅原子直接键合的取代或非取代的一价烃基,
a是满足1.5≤a≤2.8的数值,
所述有机聚硅氧烷在25℃下的粘度为500-500000mPa·s。
8.根据权利要求1-4任一项所述的数码印花有机硅合成革,其特征在于,所述有机氢化聚硅氧烷在25℃下的粘度为1-1000mPa·s。
9.根据权利要求1-4任一项所述的数码印花有机硅合成革,其特征在于,所述填料选自气相法二氧化硅、沉淀法二氧化硅,气相法二氧化钛、气相法三氧化二铝的至少一种,或/和,
所述铂金催化剂中Pt原子的质量百分含量为1000-20000ppm,所述铂催化剂选自铂黑、氯铂酸、四氯化铂、铂负载的二氧化硅、铂负载的氧化铝、铂负载的炭黑、氯铂酸的异丙醇溶液、氯铂酸的乙醇溶液、铂-1,3二乙烯基四甲基二硅氧烷配合物、铂-四乙烯基环四硅氧烷配合物以及铂-烯炔配合物中的至少一种。
10.一种如权利要求1-9任一项所述的数码印花有机硅合成革的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)将权利要求1-9任一项所述的面胶层的制备原料混合,得面胶;
(2)将所述的面胶涂布在离型纸上,加热固化,得固化面胶层;
(3)将权利要求1-9任一项所述的底胶层的制备原料混合均匀,得底胶;
(4)将所述的底胶涂布在所述的固化面胶层上,形成底胶层,再将底胶层与具有数码印花图案的基材层复合,并且所述底胶层覆盖所述基材层上的数码印花图案,加热固化,剥离离型纸,得数码印花有机硅合成革。
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