CN107636537B - Euv投射光刻的分面反射镜和包含该分面反射镜的照明光学单元 - Google Patents

Euv投射光刻的分面反射镜和包含该分面反射镜的照明光学单元 Download PDF

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Abstract

EUV投射光刻的分面反射镜，具有多个反射EUV照明光的分面(25)。至少一些分面(25)制造为取向分面并且具有反射表面(32)，该反射表面的边缘轮廓(33)沿完整分面布置的两个取向坐标(x，y)取向。至少一个取向分面(25)的反射表面(32)具有的表面形状具有沿两个曲率轴线(x′，y′)的不同曲率，其中所述曲率轴线(x′，y′)以有限的轴线倾斜角(α，β)相对于完整分面布置的取向坐标(x，y)倾斜。实现分面反射镜的EUV性能增强，尤其是在配备所述分面反射镜的投射照明系统的长时间操作的情况下。

Description

EUV投射光刻的分面反射镜和包含该分面反射镜的照明光学 单元
相关申请的交叉引用
本专利申请要求德国专利申请DE 10 2015 208 514.7的优先权，其内容通过引用并入本文。
技术领域
本发明涉及EUV投射光刻的分面反射镜。本发明进一步涉及具有这种分面反射镜的照明光学单元，涉及照明系统以及涉及具有这种照明光学单元的光学系统，涉及具有该光学系统的投射曝光设备，涉及通过这种投射曝光设备制造微结构或纳米结构部件的方法，还涉及通过这种方法制造的微结构或纳米结构部件。
背景技术
在引言中提及的类型的照明光学单元从US 2011/0001947 A1，WO 2009/132 756A1，WO 2009/100 856 A1以及从US 6 438 199 B1和US 6 658 084 B2已知。场分面反射镜从DE 19 931 848 A1，WO 2008/149 178 A1，DE 10 2011 076 145 A1和US 6,859,328已知。
发明内容
本发明的目的是改进在引言中提及的类型的分面反射镜，使得其EUV通量增加，尤其是在与其配备的投射曝光设备长时间操作的情况下。
根据本发明通过EUV投射光刻的分面反射镜实现该目的，该分面反射镜具有多个分面，所述多个分面反射EUV照明光，其中所述分面中的至少一些分面的形式为校准分面并且具有反射表面，该反射表面的边缘轮廓沿完整分面布置的两个校准坐标对准，其中所述校准分面中的至少一个校准分面的反射表面具有的表面形状沿两个曲率轴线呈现不同曲率，其中所述曲率轴线关于所述完整分面布置的校准坐标倾斜有限的轴线倾斜角。指定的表面形状在下文中将也称为“复曲表面”。这种“复曲表面”的曲率半径不需要如此不同以整体形成一个环面，即不需要以大于2的因子不同。
根据本发明，发现了曲率轴线关于这些分面的校准坐标的倾斜提供了额外的自由度，该曲率轴线限定分面反射表面的表面形状的曲率，该额外的自由度改进了通过照明通道对照明光部分光束的引导，该照明通道为了优化的目的而由相应场分面限定。特别地，可以选择性地影响源自分面的不同点的照明光子光束在下游分面反射镜的分面上的场相关形心分布，使得照明光子光束有利地延伸，并且可能是场无关紧凑地延伸，其中该子光束由照明光学单元的后续部件，并且尤其由下游分面反射镜的分面引导。关于完整分面布置的校准坐标x，y的曲率轴线的倾斜可以绕完整分面布置的z坐标发生。复曲表面的曲率轴线均可以绕相同轴线倾斜。关于两个曲率轴线的复曲表面的曲率半径是不同的。曲率半径可以在200mm至2000mm之间的范围内，尤其是在500mm至1500mm之间或在800mm至1200mm之间的范围内，尤其是在约1000mm的范围内。偏心度，即两个曲率半径之间的差异，可以在10mm至100mm之间的范围内，尤其是在20mm至60mm之间的范围内，例如在大约40mm的范围内。相应校准分面的复曲反射表面的相应较小的曲率半径在任何情况下是有限的。如果至少一个校准分面的反射表面的倾斜的曲率轴线是反射表面的主要曲率轴线，该主要曲率轴线总是相对于彼此正交，那么足以指定相对于校准坐标的曲率轴线的单轴线倾斜角，以指定校准反射表面倾斜。
在本申请的意义内的复曲表面理解为表示一表面形状，该表面形状具有沿两个曲率轴线的不同曲率，该两个曲率轴线可以是两个相互垂直的主要曲率轴线。相关曲率可以是球面的或非球面的，并且可以如通过相互正交基函数的展开来描述。甚至沿至少两个曲率轴线具有不同曲率的椭圆表面表示在该意义内的复曲表面。
分面反射镜的所有分面可以配置为这种具有曲率轴线的校准分面，该曲率轴线相对于校准坐标倾斜以及在各种情况下限定复曲表面。
在分面反射镜中，所述校准分面中的至少两个校准分面的反射表面具有的表面形状沿两个曲率轴线呈现不同曲率，其中这些校准分面的轴线倾斜角不同。在上述配置中，相应分面的复曲反射表面的曲率轴线相对于完整分面布置的校准坐标的倾斜针对至少两个校准分面被单独地指定。这导致另一自由度用于优化EUV照明光部分光束在复曲分面反射表面上方的束引导。
在分面反射镜中，所述轴线倾斜角至少为1度。上述轴线倾斜角证实为特别适用于优化。轴线倾斜角可以是至少2度，可以是至少3度，可以是至少4度，可以是至少5度，以及可以是如6度。甚至更大的轴线倾斜角也是可能的，例如轴线倾斜角为10度，15度，或甚至更大的轴线倾斜角。
在分面反射镜中，所述反射表面的较大的曲率半径是无穷大的。上述无穷大的曲率半径导致复曲反射表面的形式为圆柱形透镜。在这种情况下，最终确切地有一个曲率轴线限定圆柱形透镜的形状，因为由于无穷大的曲率，另一个曲率轴线的方向不重要。即使在这种至少一个校准分面的形式为圆柱形透镜的特殊设计的情况下，有圆柱形的曲率轴线相对于完整分面布置的校准坐标的相应的倾斜。
在分面反射镜中，所述反射表面的两个曲率半径均是有限的。上述两个有限的曲率半径导致经由两个曲率轴线弯曲的反射表面。
一种照明光学单元，以照明光照明物场，要用EUV照明光成像的物体可布置在所述物场中，该照明光学单元具有如上所述的分面反射镜。上述照明光学单元的优点对应于参考分面反射镜在上文已解释的那些。
具有至少一个校准分面的分面反射镜可以是照明光学单元的场分面反射镜。
一些或全部的场分面和/或光瞳分面可以对于它们的部分而言由多个小的单独的反射镜构成。尤其是，场分面反射镜和/或光瞳分面反射镜可以配置成形式为MEMS(微机电反射镜)阵列，其中各场分面或各光瞳分面可以由多个小的MEMS反射镜构成。这种MEMS构造的一个示例由WO 2009/100 856 A1提供。
传输光学单元布置在各照明通道中的场分面的下游，该传输光学单元可通过光瞳分面排他地形成，该光瞳分面各布置在照明通道内的下游。替代地，传输光单元也可以具有其他部件，尤其是其他反射镜，该反射镜布置在例如各照明通道的光瞳分面的下游，和物场的上游。
一种照明系统，具有如上所述的照明光学单元，还具有产生照明光的光源。一种光学系统，具有如上所述的照明光学单元，还具有将物场成像在像场中的投射光学单元。一种投射曝光设备，具有如上所述的光学系统和产生照明光的光源；具有包含物体位移驱动器的物体夹持器，以沿物体位移方向移动所述物体；具有包含晶片位移驱动器的晶片夹持器，以与所述物体位移驱动器同步地位移晶片。一种制造微结构或纳米结构部件的方法，具有如下步骤：提供如上所述的投射曝光设备，提供晶片，提供光刻掩模，使用所述投射曝光设备的投射光学单元将至少部分的所述光刻掩模投射至所述晶片的感光层的区域上。一种部件，通过如上所述的方法制造。上述照明系统，上述光学系统，上述投射曝光设备，上述制造方法以及上述微结构或纳米结构部件的优点对应于参考本发明的照明光学单元已经在上文中解释的优点。
可以以极高的结构分辨率制造所述部件。这样，例如可以制造出具有极高集成度或储存密度的半导体芯片。
附图说明
下面将参考示图更详细地描述本发明的示例性实施例，其中：
图1示意性示出了通过EUV投射光刻的投射曝光设备的子午截面；
图2和3示出了场分面反射镜的布置变型，其可以以单片式场分面配置，但是也可以具有各由多个单独反射镜构成的场分面；
图4示意性示出了光瞳分面反射镜的平面图，它与场分面反射镜一起，是投射曝光设备的照明光学单元的一部分；
图5示出了光瞳分面的变型，它可以使用在依照图4的光瞳分面反射镜中，其中光瞳分面上示出的是照明光部分光束的边缘轮廓，该部分光束经由场分面中的正好一个场分面和指定的照明通道照在光瞳分面上，其中，除了照明光部分光束的边缘轮廓，照明光子光束的场相关形心分布也被示出，其在光源成像期间源自相应场分面上的不同点；
图6示出了依照图3的场分面布置内的两个相邻场分面的平面图；
图7示出了沿图6中VIII-VIII线穿过依照图6的两个场分面之一的截面；
图8示出了沿图6中VIII-VIII线穿过场分面的截面；
图9示出了类似于图5的光瞳分面另一变型的示意图，其中示出用于照明通道的照明光子光束的场相关形心分布，该照明光子光束在光源成像期间源自场分面上的不同点，该照明通道引导在相同的光瞳分面上方；其中一方面使用常规的场分面，以及另一方面以根据本发明的具有复曲面设计的倾斜的场分面反射表面来影响成像；
图10在类似于图9的示意图中示出用于照明通道的照明光子光束的场相关形心分布，该照明光子光束源自场分面上的不同点，该照明通道引导在另外的光瞳分面上方，其中一方面使用常规场分面，以及另一方面以根据本发明的具有复曲面设计的倾斜的场分面反射表面再次影响成像。
具体实施方式
图1示意性示出了微光刻投射曝光设备1的子午截面。投射曝光设备1的一部分是光源或辐射源2。投射曝光设备1的照明系统3具有照明光学单元4，用于曝光在与物场5重合的物平面6内的照明场。照明场也可以大于物场5。在这种情况下，曝光的物体的形式为掩模母版7，其布置在物场5中并由物体夹持器或掩模母版夹持器8保持。掩模母版7也称为光刻掩模。物体夹持器8通过物体位移驱动器9沿物体位移方向是可移动的。高度示意性示出的投射光学单元10用于将物场5成像到像平面12内的像场11中。将掩模母版7上的结构成像至晶片13的感光层上，该晶片布置在像平面12中的像场11的区域中。晶片13由晶片夹持器14保持。晶片夹持器14可以通过晶片位移驱动器15同步于物体夹持器8平行于物体位移方向移动。
辐射源2是EUV辐射源，该辐射源具有的发射的使用辐射的范围在5nm至30nm之间。这种辐射源可以是等离子体源，例如GDPP源(气体放电产生等离子体)或LPP源(激光产生等离子体)。基于同步加速器或自由电子激光(FEL)的辐射源也可用作辐射源2。本领域技术人员可以例如在US 6,859,515 B2中找到涉及这种辐射源的信息。从辐射源2出现的EUV辐射16，尤其是照明物场5的使用照明光，由聚光器17聚焦。相应的聚光器从EP 1 225 481 A得知。在聚光器17的下游，EUV辐射16在入射至场分面反射镜19之前传播通过中间焦平面18。场分面反射镜19是照明光学单元4的第一分面反射镜。场分面反射镜19具有多个反射式场分面，该反射式场分面未在图1中示出。场分面反射镜19布置在照明光学单元4的场平面中，该场平面与物平面6光学共轭。
EUV辐射16下文也称为照明光或者为成像光。
在场分面反射镜19的下游，EUV辐射16由光瞳分面反射镜20反射。光瞳反射镜20是照明光学单元4的第二分面反射镜。光瞳分面反射镜20布置在照明光学单元4的光瞳平面中，该光瞳平面与中间焦平面18光学共轭以及与照明光学单元4和投射光学单元10的光瞳平面光学共轭或与该光瞳平面重合。光瞳分面反射镜20具有多个反射式光瞳分面，其未在图1中示出。光瞳分面反射镜20的光瞳分面，以及形式为传输光学单元21的后续的成像光学组合件(该传输光学单元21具有反射镜22、23和24，它们根据束路径依次命名)用于将场分面反射镜19的场分面成像至物场5，使得它们相互重叠。传输光学单元21的最后的反射镜24是掠入射反射镜。根据照明光学单元4的配置，完全地或部分地除去传输光学单元21也是可能的。
例如在物平面6中朝向大于物场5的x-维度的绝对x值引导的照明光16可以使用相应的光学单元(未示出)而被引导至多个能量或剂量传感器，其中一个计量传感器24a在图1中示意性地示出。剂量传感器24a以未示出的方式与中心控制装置24b信号连接。剂量传感器24a产生输入信号，以控制光源2和/或物体位移驱动器9和/或晶片位移驱动器15。此处，可以首先通过适配光源2的输出和/或其次通过适配扫描速度来实现在像场11内的晶片13的曝光的剂量适配。
控制装置24b与倾斜致动器信号连接，用于场分面反射镜19的场分面25，等等。
为了便于位置关系的描述，笛卡尔xyz坐标系在图1中示出，形式为全局坐标系，用于描述在物平面6和像平面12之间的投射曝光设备1的部件的位置关系。图1中的x轴垂直于图示平面向里延伸。图1中y轴平行于物体夹持器8和晶片夹持器14的位移方向向右延伸。图1中的z轴例如垂直于物平面6和像平面12向下延伸。
物场5或像场11上的x-维度也称为场高度。物体位移方向平行于y轴延伸。
局部笛卡尔xyz坐标系在其他图中示出。局部坐标系的x轴平行于如图1的全局坐标系的x轴延伸。局部坐标系的xy平面表示分别在图中示出的部件的布置平面。局部坐标系的y和z轴各自以与x轴的特定的角度对应地倾斜。
图2和3示出了场分面反射镜19的不同分面布置的示例。所示出的各个场分面25可以构建为来自多个单独的反射镜的单独反射镜组，例如从WO 2009/100856 A1已知的。那么，每个单独反射镜组具有场分面反射镜的分面的功能，如例如在US 6,438,199 B1或US6,658,084 B2中所披露的。
场分面25可以配置为通过致动器在多个倾斜位置之间是可倾斜的。
根据图2的场分面反射镜19具有多个弯曲构造的场分面25。这些场分面在场分面载体27上的场分面块26中分组地布置。总之，根据图2的场分面反射镜19具有26个场分面块26，其通过将场分面25中的3个、5个或10个组合一起形成。
中间间隔体28位于场分面块26之间。
根据图3的场分面反射镜19具有矩形场分面25，它继而分组布置在场分面块26中，中间间隔体28位于场分面块26之间。
图4示意性示出了光瞳分面反射镜20的平面图。光瞳分面反射镜20的光瞳分面29布置在照明光学单元4的照明光瞳的区域中。实际上，光瞳分面29的数量大于图4所示。实际上，光瞳分面29的数量可以大于场分面25的数量以及可以数倍于场分面25的数量。光瞳分面29布置在光瞳分面反射镜20的光瞳分面载体上。在照明光瞳内的光瞳分面29的分布指定了在物场5中的实际照明角分布，通过场分面25将照明光16照射至该光瞳分面。
各个场分面25用于将一部分照明光16(即照明光部分光束16i)从光源2传输至光瞳分面29中的一个。
下文对照明光部分光束16i的描述基于的假设为，相关的场分面25各自以最大方式点亮，即在其整个反射表面上方。在这种情况下，照明光部分光束16i的边缘轮廓重合于照明通道的边缘轮廓，这是为什么下文的照明通道也将指示为16i。各个照明通道16i表示以最大方式点亮了相关的场分面25的照明光部分光束16i在照明光学单元4的其他部件上方的一个可能的光学路径。
传输光单元21在各情况下具有用于各个光照通道16i的光瞳分面29之一，用于将照明光部分光束16i从场分面25传输至物场5。
在各情况下，一个照明光部分光束16i(其中图1示意性示出了两个照明光部分光束16i(i＝1……N；N：场分面的数量))，各经由一个照明通道经由正好一个场分面25并且经由正好一个光瞳分面29引导在光源2和物场5之间。
图5示出可以使用在光瞳分面反射镜20中的光瞳分面29中的一个。根据图5的光瞳分面29不具有如图4示出的圆形的边缘轮廓，而是具有带圆角的近似正方形的边缘轮廓。这种边缘轮廓(也可以是不带圆角的正方形或者矩形)使得以光瞳分面29相对密集地填充的光瞳分面载体30是可能的。
照明光部分光束16i通过根据图2中的场分面反射镜19的拱形场分面25，照射至根据图5的光瞳分面29。
图5中示出的布置中，照明光部分光束16i的完整的横截面位于光瞳分面29上，致使照明光部分光束16i在边缘处不被光瞳分面29的边缘切断。照明光部分光束16在光瞳分面29上的横截面的边缘轮廓具有近似拱形、豆形或肾形形状，且可以理解为根据图2的拱形场分面25与光源2的圆形源区的卷积。该卷积由于如下事实产生：光源2的像针对在相关的场分面25上的不同部分(即以场相关的方式)形成在不同的像位置处以及此外通常在沿照明通道16i与光瞳分面29间隔开的(即光束路径中在光瞳分面29的上游或下游的)像位置处。
照明光部分光束16i在光瞳分面29上的拱形边缘轮廓表现照明光部分光束16的光斑。
照明光部分光束16i在光瞳分面29上的虚线边缘轮廓示出三个子光束16i 1，16i 2和16i 3。照明光部分光束16i由多个这种子光束16i j组成。如果照明的光学参数已知，那么在各光瞳分面29上的照明光部分光束16i例如通过光学设计程序来计算出，并且在该情景中也称为“点扩散函数”。
这些子光束16i 1至16i 3的照明光16源自相关场分面25的左手边缘点251、中心点252和右手边缘点253。举例而言，图2示出了在场分面25中的一个上的这些原始点251至253。
源自相关场分面25的所有子光束16i j的场相关形心分布31i表示在各光瞳分面29上相应照明光部分光束16i的边缘轮廓的中心。该形心分布31i对于各照明通道16i而言是不同的并且此外依赖于照明通道16i的几何轮廓，该照明通道经由相关的场分面25在光源2和相应光瞳分面29之间。
这里，图5示出了理想的场相关形心分布31i。
为了影响照明光部分光束16i的边缘轮廓的范围，或各场相关形心分布31i的xy范围，场分面25的反射表面32形式为复曲表面。下文将以图3中的方式使用矩形场分面25的示例参考图6至8进行解释。
场分面25的矩形边缘轮廓33沿完整分面布置的两个校准坐标x和y对准，该完整分面布置举例示于图3中。该校准的边缘轮廓33的x坐标因此与完整分面布置的x坐标重合。对于y坐标也是如此。
应用这类校准的分面下文也称为校准分面25。该校准分面25的复曲反射表面的曲率轴线x′、y′各自以有限的轴线倾斜角关于完整分面布置的校准坐标x、y倾斜。
此处，曲率轴线x′以轴线倾斜角α绕校准坐标z相对于校准坐标x倾斜。曲率轴线y′继而以轴线倾斜角β绕校准坐标z相对于校准坐标y倾斜。因为曲率轴线x′，y′的坐标和校准坐标xyz是笛卡尔坐标，在这种情况下两个角α和β是一样的。
曲率轴线x′限定在y′z′平面中场分面25的复曲反射表面32的曲率(见图7)。在该y′z′平面中反射表面32的曲率半径标注为Rx′。
因此，曲率轴线y′限定在x′z′平面中反射表面32的曲率。在x′z′平面内反射表面32的曲率半径标注为Ry′。
图8和7以高度示意性的方式示出曲率半径Rx′、Ry′。其他的曲率条件也是可能的。Rx′和Ry′均处于在200mm至2000mm之间的范围内，例如在500mm至1500mm之间的范围内，在800mm至1200mm之间的范围内和尤其是1000mm的范围内。如下总是适用：Rx′≠Ry′。偏心度ΔR＝Rx′-Ry′处于在10mm至200mm之间的范围内，例如在15mm至100mm之间的范围内，在20mm至60mm之间以及尤其是大约40mm的范围内。对于ΔR/Ry′，适用在0.5％至10％之间的百分比范围，尤其是在1％至8％之间，在2％至6％之间，例如大约4％的百分比范围。
同样真实的是，复曲反射表面32的两个曲率半径Rx′、Ry′的较小的曲率半径是有限的。而两个曲率半径Ry′、Rx′中的另一个可以是无穷大的，导致圆柱形反射表面32，或者可以是有限的，导致复曲反射表面32具有经由两个曲率轴线弯曲的反射表面。
圆柱形表面或柱形表面表示复曲表面的特殊情况，并且在本发明的意义中同样是复曲表面。
下面将参照图9和10解释校准场分面25的复曲反射表面设计的效果。
图9和10示出了光瞳分面29的其他变型，其配置为具有六边形边缘的光瞳分面。
图9示出了在所示的光瞳分面29的反射表面上，照明通道16i的光源成像的场相关形心分布31i、31i′。这两个场相关形心分布31i、31i′存在于相同光瞳分面29上并且由于以下产生：首先是由于常规的非倾斜的校准场分面25的成像效果(形心分布31i)，以及其次是由于根据本发明倾斜的校准场分面25的成像效果(形心分布31i′)。这两个形心分布31i、31i′在图9中示为示意性的重叠，该重叠由于常规的校准场分面25，以及根据本发明倾斜的校准场分面25的效果产生。
基于通过常规校准场分面25的成像，得到形心分布31i，该形心分布31i具有从光瞳分面反射镜29的反射表面的中心Z的最大距离R1。图9中描述的距离值R1是绕中心Z的外接圆的半径，使形心分布31i内切在该外接圆内。倾斜的校准场分面25的成像效果导致场相关形心分布31i′，该形心分布31i′关于光瞳分面29的中心倾斜并且同时压缩。基于从倾斜产生的校准场分面25的变化效果，得到形心分布31i′，该形心分布31i′具有从光瞳分面反射镜29的反射表面的中心Z的较小的最大距离R2。相较于常规的形心分布31i，上述的形心分布31i′的压缩具备如下效果：相较于距离R1，场相关形心分布31i′的最大距离R2减少了大约25％。结果为，首先R2＜R1，而其次近似地：R2＝0.75R1。
图10示出了当首先通过常规倾斜的场分面25，以及其次通过具有以轴线倾斜角α，β倾斜的复曲反射表面32的校准场分面25成像时，另一照明通道16j的照明光光束的场相关形心分布31j、31j′。结果为场相关形心分布31j′。与常规场分面25相关的形心分布指示为31j。与倾斜的校准分面25相关的形心分布31j′同样关于相关的光瞳分面29的中心Z倾斜并且同时压缩。
根据图10在照明通道16j的情况下均匀压缩的效果如下：相较于距离R1，距相关的光瞳分面29的中心Z的场相关形心分布31j′的最大距离R2减小了。再次，R2＜R1。再次，近似的：R2＝0.75R1。
图9和10中示出的形心分布中的倾斜角α，β各为6度。
特别地，形心分布31i′、31j′的压缩，相较于利用常规场分面引导的照明光部分光束，致使在光瞳分面29上的照明光部分光束16i、16j的收缩，其结果为有利于在相关光瞳分面29处部分光束16i、16j的完全反射，而没有非期望的光损失。在光瞳分面29上的部分光束16i、16j的漂移可以更容易地接受。形心分布31i′、31j′的压缩还具有以下结果：照明光子光束16i n的可能的切断行为变得场相关性更少，并且这种相关性还在场边缘处以及尤其在场边缘外在可能的能量或剂量传感器的布置的位置处减少。光源2的后续调整作为对测量的强度变化的反应因此被简化。
当设计带有校准分面的场分面反射镜19时，所有校准分面25的倾斜角α，β是相同的。
图6中示意性示出的替代性的配置中，一方面的校准倾斜角α(和β)和另一方面的α′(和对应的β′)彼此不同。根据图6的配置中，α′，即是在图6中左边的场分面25的引导轴线x″和校准坐标x之间的角，大于在图6中右边的场分面25的曲率轴线x′和校准坐标x之间的角α。
在使用投射曝光设备1的投射曝光中，在物场5中的掩模母版7至少部分地成像在像场11中的晶片13上的感光层的区域上，用于光刻制造微结构或纳米结构部件，特别是半导体部件，例如微芯片。此处，掩模母版7和晶片13在扫描操作期间以时间同步方式在y方向上连续移动。

Claims (11)

1.EUV投射光刻的分面反射镜(19)，
-具有多个分面(25)，所述多个分面反射EUV照明光(16)，
-其中所述分面(25)中的至少一些分面的形式为校准分面并且具有反射表面(32)，该反射表面的边缘轮廓(33)沿完整分面布置的两个校准坐标(x，y)对准，
-其中所述校准分面(25)中的至少一个校准分面的反射表面(32)具有的表面形状沿两个曲率轴线(x'，y')呈现不同曲率，其中所述曲率轴线(x'，y')关于所述完整分面布置的校准坐标(x，y)倾斜有限的轴线倾斜角(α，β)。
2.如权利要求1所述的分面反射镜，其特征在于，所述校准分面(25)中的至少两个校准分面的反射表面具有的表面形状沿两个曲率轴线(x'，y')呈现不同曲率，其中这些校准分面的轴线倾斜角(α，α')不同。
3.如权利要求1或2所述的分面反射镜，其特征在于，所述轴线倾斜角(α，β；α，β，α')至少为1度。
4.如权利要求1至3中任一项所述的分面反射镜，其特征在于，所述反射表面(32)的较大的曲率半径(Rx'；Ry')是无穷大的。
5.如权利要求1至3中任一项所述的分面反射镜，其特征在于，所述反射表面(32)的两个曲率半径(Rx'；Ry')均是有限的。
6.照明光学单元(4)，以照明光(16)照明物场(5)，要用EUV照明光成像的物体(7)可布置在所述物场中，该照明光学单元具有：
-如权利要求1至5中任一项所述的分面反射镜(19)。
7.照明系统(3)，具有如权利要求6所述的照明光学单元(4)，还具有产生所述照明光(16)的光源(2)。
8.光学系统，具有如权利要求6所述的照明光学单元(4)，还具有将所述物场(5)成像在像场(11)中的投射光学单元(10)。
9.投射曝光设备(1)，具有如权利要求8所述的光学系统和产生所述照明光(16)的光源(2)，
-具有包含物体位移驱动器(9)的物体夹持器(8)，以沿物体位移方向(y)移动所述物体(7)，
-具有包含晶片位移驱动器(15)的晶片夹持器(14)，以与所述物体位移驱动器(9)同步地位移晶片(13)。
10.制造微结构或纳米结构部件的方法，具有如下步骤：
-提供如权利要求9所述的投射曝光设备(1)，
-提供晶片(13)，
-提供光刻掩模(7)，
-使用所述投射曝光设备(1)的投射光学单元(10)将至少部分的所述光刻掩模(7)投射至所述晶片(13)的感光层的区域上。
11.微结构或纳米结构部件，该微结构或纳米结构部件通过如权利要求10所述的方法制造。
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