DE102008040938A1

DE102008040938A1 - Verfahren zur gleichzeitigen Erzeugung optischer Flächen von Feldfacetten für facettierte optische Komponenten, facettierte optische Komponente und Verfahren zur Herstellung, ein Beleuchtungssystem mit einer derartigen facettierten Komponente und einen Mikrolithographieprojektor

Info

Publication number: DE102008040938A1
Application number: DE102008040938A
Authority: DE
Inventors: Siegfried Rennon; Günther Dengel; Thomas Blümchen
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2007-08-16
Filing date: 2008-08-01
Publication date: 2009-02-19

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur gleichzeitigen Erzeugung optischer Flächen (3) an wenigstens zwei Feldfacetten (2) für den Einsatz in Beleuchtungssystemen, insbesondere Beleuchtungssystemen für die EUV-Lithographie, wobei jede optische Fläche (3) durch einen Kippwinkel phix um die Längsachse und einen Kippwinkel phiy um die Querachse der Feldfacette (2) charakterisierbar ist, mittels einer rotierenden Wirkfläche (12) eines Werkzeuges (9). Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass an wenigstens zwei Facettengrundkörpern jeweils ein erster Kippwinkel - Kippwinkel phix um die Längsachse oder Kippwinkel phiy um die Querachse - an wenigstens zwei Facettengrundkörpern in vordefinierter Größe in einem Arbeitsgang eingestellt wird, wobei die Einstellung des ersten Kippwinkels frei von einer aktiven Einstellung des jeweils anderen zweiten erachse oder Kippwinkel phix um die Längsachse - erfolgt.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur gleichzeitigen Erzeugung optischer Flächen von Feldfacetten für facettierte optische Komponenten, im einzelnen mit den Merkmalen aus dem Oberbegriff des Anspruches 1; ferner ein Verfahren zur Fertigung facettierter optischer Elemente, eine facettierte optische Komponente sowie ein Beleuchtungssystem mit einer derartigen facettierten Komponente und einen Mikrolithographieprojektor.
In Beleuchtungssystemen für die EUV-Lithographie werden zur Beleuchtung facettierte optische Elemente eingesetzt. Die extrem kurze Wellenlänge erzwingt eine rein reflektive Optik, die mit so genannten Röntgenvielfachschichten verspiegelt werden muss. Letztere erfordern sehr glatte Oberflächen, insbesondere im Bereich kleiner Ortsfrequenzen. Der komplexeste und damit auch teuerste Spiegel ist der Feldfacettenspiegel. Dieser dient der Feldformung und besteht in der Regel aus über 100 unterschiedlichen Feldfacetten. Die optische Fläche einer Feldfacette ist sphärisch und besitzt ein sehr hohes Aspektverhältnis. Die Flächennormale ist für jede Facette um jeweils unterschiedliche, hochgenau zu fertigende Winkel, die auch als Kippwinkel Φ_x und Φ_y bezeichnet werden, verkippt. Ein Verfahren zur Herstellung derartig ausgeführter Feldfacetten ist beispielsweise aus WO 2005/006081 vorbekannt. Bei diesem werden die Kippwinkel Φ_x und Φ_y durch einen Schleif- und Polierprozess in der jeweils geforderten Genauigkeit in die optische Fläche eingearbeitet. Dies erfolgt in einer Bearbeitungsvorrichtung, insbesondere einer Poliervorrichtung, umfassend einen Tragkörper und ein um eine ortsfeste Achse rotierendes Polierwerkzeug, dessen Arbeitsfläche mit den auf dem Tragkörper angeordneten Feldfacetten unter Einarbeitung der Kippwinkel zusammenwirkt. Die einzustellenden Kippwinkel bestimmen dabei die Position der einzelnen zu bearbeitenden Feldfacette auf dem Tragkörper. Aufgrund der Winkelverteilung und der daraus resultierenden Anordnung der noch unbearbeiteten Feldfacettengrundkörper in einem Winkel zueinander können nur eine begrenzte Anzahl von Feldfacetten, im Regelfall zwischen 5 und 8 in einer Poliervorrichtung in einem Arbeitsgang bearbeitet werden. Für einen kompletten Feldfacettenspiegel müssen jeweils jedoch mehr als 20 derartige Poliertragkörper prozessiert werden, was zu langen Durchlaufzeiten und damit hohen Herstellungskosten führt.
Ferner sind derzeit bekannte Feldfacettenspiegel durch ein hohes Maß an Fertigungsgenauigkeit charakterisiert. Diese Genauigkeit bewegt sich sowohl im Hinblick auf die Mechanik als auch auf die optische Fertigung an der Grenze der Realisierbarkeit. Dabei ist design- und fertigungsbedingt jede einzelne Feldfacette, die auf einem den Grundkörper eines Feldfacettenspiegels bildenden Trägerelement angeordnet ist, ein Unikat. Erschwerend für den Fertigungsprozess ist neben dem ungünstigen Aspektverhältnis auch die Tatsache, dass alle Freiheitsgrade zur Positionierung der einzelnen Feldfacetten auf dem Trägerelement durch den vorgeschalteten optischen und mechanischen Fertigungsprozess bestimmt werden. Ein nachträgliches Justieren ist in der Regel nicht mehr möglich. Dies führt zu sehr hohen Fertigungskosten sowie wie bereits ausgeführt im Rahmen einer Fertigungseinheit zu einer stark begrenzten Anzahl möglicher zu fertigender Facetten.
Feldfacetten und Verfahren zur Herstellung einzelner derartiger Feldfacetten sind dabei aus nachfolgend genannten Druckschriften vorbekannt: JP 2000098108 , JP 2000098110 , JP 2000098111 , JP 2000098112 , JP 2000098113 , JP 20000981114 , JP 2000162416 und JP 2000162416 . Auch die in diesen Druckschriften beschriebenen Verfahren werden den Anforderungen eines hohen Durchsatzes bei der Fertigung einer Vielzahl derartiger Facetten nicht gerecht.
Ein Verfahren zur Herstellung von Facettenblöcken ist aus JP 2000162414 vorbekannt. Bei diesem werden jedoch die einzelnen Facetten eines Blockes nur einzeln im Hinblick auf die erforderlichen Kippwinkel bearbeitet.
Aus US 2003/0058555 A1 sind Feldfacetten vorbekannt, die an der Basisfläche eine magnetische Beschichtung zur Verbesserung der Montage auf einem Grundkörper aufweisen. Diese Lösung erlaubt kein einfaches Nachjustieren.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine facettierte Komponente, insbesondere einen Feldfacettenspiegel und ein Verfahren zur Fertigung von Feldfacetten derart weiterzuentwickeln, dass die genannten Nachteile vermieden werden und eine Vielzahl von Feldfacetten für eine facettierte Komponente in einem Arbeitsgang mit geringem konstruktiven und fertigungstechnischen Aufwand bereitstellbar sind, wobei diese Vorteile auch für die Fertigung der facettierten Komponente gelten soll.
Die erfindungsgemäße Lösung ist durch die Merkmale der Ansprüche 1, 20, 31, 32, 56, 57 und 58 charakterisiert. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind in den Unteransprüchen beschrieben.
Vorangestellt werden folgende Definitionen:

1) Ursprung des Koordinatensystems einer Feldfacette – Mittelpunkt der optischen Fläche oder Punkt an dem Koordinatensystem für Kippwinkel angelegt ist
2) Kippwinkel – Neigungswinkel der optischen Fläche in den einzelnen Richtungen bzw. Neigungswinkel der Flächennormalen
3) Φ_x – Verkippung der Normalenrichtung der optischen Fläche um Längsachse der Feldfacette
4) Φ_y – Verkippung der Normalenrichtung der optischen Fläche um Querachse der Feldfacette

Erfindungsgemäß wird bei einem Verfahren zur gleichzeitigen Erzeugung optischer Flächen an wenigstens zwei Feldfacetten für den Einsatz in Beleuchtungssystemen, insbesondere Beleuchtungssystemen für die EUV-Lithographie, mittels einer rotierenden Wirkfläche eines Werkzeuges, wobei jede optische Fläche durch einen Kippwinkel um die Längsachse und einen Kippwinkel um die Querachse charakterisierbar ist, jeweils nur ein erster Kippwinkel – Kippwinkel um die Längsachse oder Kippwinkel um die Querachse – an den wenigstens zwei Facettengrundkörpern in einer vordefinierten Größe eingestellt, wobei die Einstellung frei von einer aktiven Einstellung des jeweils anderen zweiten Kippwinkels – Kippwinkel um die Querachse oder Kippwinkel um die Längsachse erfolgt.
Gegenüber dem Stand der Technik erfolgt nunmehr die Einarbeitung nur noch eines, nämlich die Verkippung der optischen Fläche um einen ersten Kippwinkel, wobei der zweite Kippwinkel unabhängig von der Einarbeitung des ersten Kippwinkels erst bei einer zeitlich versetzt erfolgenden Montage zu einer optischen Komponente eingestellt oder einjustiert wird. Der erste Kippwinkel wird in der geforderten Genauigkeit durch die Oberflächenbearbeitung eines Facettengrundkörpers, d. h. dem noch unbearbeiteten Zustand der Feldfacette erzeugt. Der andere zweite Kippwinkel ist frei wählbar, wodurch bei Nutzung einer entsprechenden Bearbeitungsvorrichtung, insbesondere Schleif- und/oder Poliervorrichtung nunmehr die Anordnung und Ausrichtung der zu bearbeitenden Facettengrundkörper gegenüber dem Bearbeitungswerkzeug, insbesondere der Arbeitsfläche des Werkzeuges nur noch in einer Richtung – X- oder Y-Richtung erfolgen muss, um die gewünschte Kippwinkeleinstellung der Normalen der optischen Fläche in der geforderten Genauigkeit um die jeweilige Achse des Facettengrundkörpers – Längs- oder Querrichtung zu gewährleisten. Dadurch können die einzelnen Facetten wesentlich geordneter und dichter gepackt gegenüber dem Werkzeug in der Bearbeitungsvorrichtung angeordnet werden, da Verdrehungen und Verkippungen der einzelnen Facetten nicht mehr erforderlich sind.
Vorzugsweise wird zur Vereinfachung und der Erzielung einer optimalen Packungsdichte in der Bearbeitungsvorrichtung der zweite Kippwinkel für wenigstens zwei Facettengrundkörper mit gleicher Größe eingestellt. Dies ermöglicht eine Anordnung der einzelnen Facettengrundkörper parallel zueinander mit geringem oder keinem Abstand zueinander, d. h. aneinander liegend beziehungsweise einander kontaktierend unter Berücksichtigung der erforderlichen Befestigungseinrichtung über die gesamte Erstreckung in X- oder Y-Richtung. Gemäß einer besonders vorteilhaften Ausführung beträgt der gewählte zweite Kippwinkel gleich Null. Dies bedeutet, dass die einzelnen Facetten symmetrisch bezogen zu einer Ebene, die durch die Querachse der Facettengrundkörper und die Rotationsachse des Werkzeuges charakterisiert ist, angeordnet sind beziehungsweise die einzelnen Facettengrundkörper derart angeordnet sind, dass die Querachsen aller Facettengrundkörper senkrecht zur Rotationsachse des Werkzeuges verlaufen und koaxial zueinander sind. Zusätzlich ist es möglich, die restliche freie Fläche zur Fixierung in der Bearbeitungsvorrichtung ebenfalls zu nutzen, wobei in diesem Fall der zweite Kippwinkel mit einer bestimmten jedoch für die Erzeugung des ersten Kippwinkels der optischen Fläche der Facette nicht relevanten beliebigen Größe, abhängig von der Anordnung gegenüber der Rotationsachse des Werkzeuges aufweist. Das gleiche gilt in Analogie auch für eine definierte Einstellung des Kippwinkels um die Querachse.
Gemäß einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung wird lediglich der Winkel φ_x, d. h. die Verkippung der optischen Fläche, insbesondere der Normalen der optischen Fläche um die Längsachse in den Facettengrundkörper eingearbeitet. Der zweite Winkel φ_y, die Verkippung um die Querachse wird vorzugsweise bei allen Facetten mit gleicher Größe eingearbeitet, z. B. φ_y = 0 und erst im Montageprozess der optischen Komponente für die einzelne Facette eingestellt. Dabei ist das nachträgliche Einstellen für φ_y in der geforderten Genauigkeit unproblematisch. Die Einstellung des definierten Kippwinkels φ_y erfolgt dabei durch Positionierung der einzelnen Facettengrundkörper in der Ausgangslage gegenüber der einer theoretischen ruhenden Achse eines rotierenden Werkzeuges, welche durch die Lage der Mittenachse des Polierwerkzeuges des gegenüber dem Grundkörper auf einem Tragkörper der Bearbeitungsvorrichtung vor der Bearbeitung beschreibbar ist und die Einwirkung der Werkzeugarbeitsfläche auf die optische Fläche. Die Rotationsachse für das Polierwerkzeug ist dabei während des Poliervorganges nicht ortsfest.
Vorzugsweise werden jeweils wenigstens zwei Facettengrundkörper mit ihren seitlichen Anlageflächen einander benachbart unter Bildung eines Facettenblockes zusammengefasst auf einem Tragkörper der Bearbeitungsvorrichtung angeordnet. Die Anordnung der einzelnen Facetten eines Blockes auf dem Tragkörper erfolgt derart, dass die einzelnen Facetten eines Blockes hinsichtlich der Lage ihrer Quer- oder Längsachsen durch die gleiche Position gegenüber einem durch die Rotationsachse des Werkzeuges gelegten Koordinatensystem charakterisiert sind. Dabei werden vorzugsweise hinsichtlich der Längsachse bzw. einer Ebene, die durch die Quer- und Längsachse der Facettengrundkörper beschreibbar ist, symmetrisch aufgebaute Facettengrundkörper in einem Facettenblock zusammengefasst, welche durch die gleiche Geometrie und Dimensionierung charakterisiert sind. Dies ermöglicht eine Platz sparende Anordnung parallel zueinander und aneinandergestapelt.
Generell können in einem Facettenblock Facettengrundkörper mit

a) gleicher Geometrie und Dimensionierung
b) gleicher Geometrie und unterschiedlicher Dimensionierung
c) unterschiedlicher Geometrie und Dimensionierung

Die Zusammenfassung zweier einander benachbart angeordneter Facettengrundkörper zu Facettenblöcken kann

a) berührungsfrei, d. h. unter Belassung eines Zwischenraumes zwischen zwei einander benachbart angeordneten Facettengrundkörpern oder
b) mit Flächenkontakt erfolgen.

Im zweiten Fall kann die erforderliche Fixierung in Quer- und Längsrichtung bei der Bearbeitung durch die durch die Lager- und Fixierungseinrichtung der Mittel zur Befestigung aufgebrachten Kräfte erfolgen, insbesondere durch Verspannung. Im ersten Fall sind entsprechende Einrichtungen, beispielsweise in Form von Halte- oder Aufnahmeeinrichtungen für die einzelnen Facettengrundkörper an der Lager- und Fixiereinrichtung vorzusehen.
Zur optimalen Ausnutzung der Kapazität einer Bearbeitungsvorrichtung werden vorzugsweise immer gleichzeitig eine Mehrzahl von Facettenblöcken auf dem Tragkörper angeordnet und bearbeitet, wobei die Ausrichtung eines einzelnen Facettenblocks derart erfolgt, dass die Facettengrundkörper eines einzelnen Blockes hinsichtlich der Lage ihrer Quer- oder Längsachsen durch die gleiche Position, d. h. die gleichen Koordinaten gegenüber einem durch die Rotationsachse des Werkzeuges gelegten Koordinatensystem charakterisiert sind. Eine derart mögliche dichte Packung bietet den Vorteil eines um ein Mehrfaches erhöhten Durchsatzes an Facettengrundkörpern in einer Bearbeitungsvorrichtung pro Arbeitsgang bei der Herstellung von Facetten aus den Facettengrundkörpern durch Einarbeitung der optischen Flächen.
Bei dichter Packung der einzelnen Facettengrundkörper in einem Facettenblock, bei welcher die ersten Kippwinkel vom Kippwinkel um die Längsachse gebildet werden, stehen die einzustellenden Kippwinkel Φ_xi und Φ_xj zweier benachbart angeordneter Facettengrundkörper in folgender Winkelbeziehung zueinander:
mit

Φ_xi, Φ_xj: Φ_x-Winkel zweier unterschiedlicher Facettengrundkörper in einem Facettenblock

n ∊ Z, y0 ∊ R

R:: Radius der optischen Fläche

d ∊ R

Die der optischen Fläche gegenüberliegende Basisfläche des Facettengrundkörpers eines Facettenblocks kann

a) eben oder
b) gekrümmt
c) mit einer beliebigen Geometrie

Die gekrümmte Ausführung in Längsrichtung bietet den Vorteil einer einfachen Justierbarkeit des Kippwinkels φ_y in Querrichtung beim Einbau der mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ausgebildeten Facetten.
Die optische Fläche selbst kann eben, sphärisch oder asphärisch ausgeführt sein.
Bezüglich der Ausführung der einzelnen Facette, insbesondere der geometrischen Form, welche durch die Ausführung der optischen Fläche und der Basisfläche sowie der diese verbindenden seitlichen Anlageflächen charakterisiert sind, bestehen eine Vielzahl von Möglichkeiten. Die Feldfacette kann dabei im Hinblick auf die seitlichen Anlageflächen eben oder gekrümmt ausgeführt sein. Im letztgenannten Fall kann die geometrische Ausführung der Feldfacette als mondsichelförmig beschrieben werden. Die optische Fläche ist in diesem Fall um die Vertikalachse, d. h. die senkrecht zu Längs- und Querachse ausgerichtete z-Achse gekrümmt ausgeführt.
Die Bearbeitungsvorrichtung kann unterschiedlich ausgeführt sein. Diese umfasst ein Werkzeug mit einer um eine Achse rotierenden Arbeitsfläche sowie einen Tragkörper, auf welchem die einzelnen Facetten separat oder vorzugsweise in Facettenblöcke zusammengefasst angeordnet werden können und gegenüber der Werkzeugarbeitsfläche mittels Mitteln zur Befestigung in ihrer Lage fixiert werden. Die Mittel zur Befestigung sind derart ausgeführt, dass diese wenigstens einen Facettenblock mit wenigstens zwei Facettengrundkörpern lagern und in der Lage gegenüber dem Tragkörper und damit dem Werkzeug fixieren können.
Die Mittel zur Befestigung sind entweder

a) lösbar oder
b) unlösbar

Im Fall a) besteht dabei die Möglichkeit einer, insbesondere hinsichtlich des Ortes beliebigen Bestückung je nach gewünschter Geometrie der optischen Fläche und Anzahl der zu bearbeitenden Facettengrundkörper. Die Befestigung der Mittel zur Befestigung kann dabei kraft- oder formschlüssig erfolgen. Gemäß einer besonders vorteilhaften Ausführung ist dabei am Tragkörper eine Rasterung vorgesehen, welche verschiedene Anbindungspositionen am Tragkörper bereits vorgibt, wobei die Rasterung beispielsweise von Durchgangsöffnungen gebildet werden kann, durch welche Befestigungselemente zur Befestigung der Mittel zur Befestigung geführt werden können.
Die Mittel zur Befestigung, insbesondere Lagerung und Fixierung der einzelnen Facettengrundkörper umfassen im einfachsten Fall eine Klemmeinrichtung. Dabei sind erfindungsgemäß vorzugsweise die Facettengrundkörper eines Facettenblocks mit einer Klemmeinrichtung pro Block auf dem Tragkörper fixiert.
Die Mittel zur Befestigung können ferner auch Mittel zum Ausgleich unterschiedlicher Höhen zwischen den einzelnen Facettengrundkörpern aufweisen. Die Nutzung dieser Mittel erlaubt es ferner, auch Facettengrundkörper für die Anwendung in unterschiedlichen optischen Komponenten jedoch mit entsprechend vordefiniert einzustellendem, erstem Kippwinkel in einem Arbeitsgang zu schaffen.
Das Werkzeug kann eine sphärische oder im Hinblick auf die zuschaffende optische Fläche anders ausgeführte Arbeitsfläche aufweisen. Als Bearbeitungsprozesse sind zumindest Schleifen und/oder Polieren möglich.
Das Werkzeug ist vorzugsweise durch eine großflächige Arbeitsfläche charakterisiert, mittels welcher die optischen Flächen einer Mehrzahl von Facetten, vorzugsweise von Facetten in Facettenblöcken eingearbeitet wird.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte Facetten werden vorzugsweise in einer facettierten optischen Komponente, insbesondere Facettenkomponente, insbesondere in Form eines Facettenspiegels eingesetzt.
Dazu wird eine Mehrzahl von derartigen Einzelfacetten, deren optische Flächen durch einen definierten ersten Kippwinkel, vorzugsweise einen Kippwinkel φ_x um die Längsachse charakterisiert sind auf einer Trägereinheit angeordnet und montiert, wobei die Einzelfacetten an ihren Anlageflächen einander anliegen. Die Kippung um die Querachse ist für jede einzelne Facette durch Kippung während der Montage individuell einstellbar. Ein derartig facettierter Spiegel besteht vorzugsweise aus einer Mehrzahl von hinsichtlich der einzelnen Kippwinkel der Normalenrichtung der optischen Fläche ähnlich oder identisch ausgerichteten Facetten. In diesem Fall können diese auf einfache Art und Weise gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt werden. Bezüglich der Materialwahl bestehen keine Restriktionen. Vorzugsweise bestehen die Facetten aus nachfolgenden Komponenten: Si, Ni, Al. Die Facetten selbst, insbesondere die Facettengrundkörper vor der Einarbeitung der optischen Flächen, können durch galvanische Abformungen hergestellt werden.
Die einzelnen Facetten werden dabei an der Trägereinheit der facettierten Komponente gelagert beziehungsweise stützen sich an dieser ab. Zur Einstellung des Kippwinkels um die Querachse der einzelnen Facette ist dabei eine entsprechende Stell- oder Justiereinrichtung vorgesehen. Dabei kann jeder einzelnen Facette eine einzelne Stell- oder Justiereinrichtung zugeordnet sein oder aber einer Vielzahl von Facetten eine gemeinsam. Vorzugsweise werden die Facetten in Facettenblöcken zusammengefasst, die dann in ihrer Lage gegenüber der Montagefläche an der Trägereinheit über ein einem einzelnen Facettenblock zugeordnete Stelleinrichtung fixiert werden.
Vorzugsweise werden die der optischen Fläche gegenüberliegenden Basisflächen der einzelnen Facetten zylindrisch, ballig oder parabolisch ausgeführt. Dadurch ist es möglich, eine Winkeljustage um die kurze Achse in einer Montage- und Justiervorrichtung auf einfache Art und Weise vorzunehmen. Die kurze Achse entspricht dabei der Querachse der optischen Facette. Die Querachse verläuft dabei parallel zur Erstreckung der optischen Fläche in Breitenrichtung. Die Verkippung um die Querachse kann dabei

a) außerhalb der Trägereinheit
b) in der Trägereinheit vorgenommen werden.

Beide Möglichkeiten können auch miteinander kombiniert werden.
Die Montage erfolgt dabei in den nachfolgenden Schritten:

1. Herstellung einer optischen Fläche und Einarbeitung eines Kippwinkels um die Längsachse, beispielsweise, jedoch nicht zwingend notwendig gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren zur gleichzeitigen Erzeugung optischer Flächen an wenigstens zwei Facettengrundkörpern.
2. Winkeljustage um die Querachse durch Anordnung der einzelnen gemäß 1. hergestellten Facette in einer Montage- und Justiervorrichtung.

Erfolgt die Justierung um die Querachse an der Trägereinheit, sind entsprechende Stell- oder Justiervorrichtungen direkt an der Montagefläche der Trägereinheit vorzusehen. Vorzugsweise ist diese dann integraler Bestandteil der Trägereinheit, wobei diese in der Trägereinheit eingearbeitete Winkelanschläge für die Verkippung um die Querachse bilden. Vorzugsweise sind die Winkelanschläge dazu in Querrichtung der Feldfacetten in der späteren Einbaulage ausgerichteten Fassungs- bzw. Führungsnuten angeordnet. Die Fassungs- und Führungsnuten sind vorzugsweise symmetrisch ausgeführt und parallel zueinander angeordnet. Erfolgt die Justierung gemäß 2. bereits außerhalb der Trägereinheit, ist eine entsprechende Montage- und Justiervorrichtung vorgesehen, welche vorzugsweise ebenfalls Winkelanschläge aufweist, die denen an der Trägereinheit entsprechen. Dabei werden die einzelnen Facetten bis auf die gewünschte Blocklänge hintereinander angeordnet bzw. gestapelt, hinsichtlich ihrer Lage zueinander im Block eingestellt und die Lage der einzelnen Facetten eines Blockes zueinander durch Kraft- oder Formschluss fixiert. Der so fixierte Facettenblock wird dann an der Trägereinheit angeordnet, wobei dann der gesamte Facettenblock nur noch auf das Trägerelement übertragen wird und in diesem integriert und die Winkeleinstellung bereits in der Justiervorrichtung vorgenommen wurde. Zur einfachen Integration in die Trägereinheit entsprechen die in der Justiervorrichtung vorgesehenen Anschläge, hinsichtlich derer die einzelnen Facetten ausgerichtet sind, in ihrer Geometrie und Dimensionierung in der Fassungs- bzw. Führungsnut an der Trägereinheit vorgesehenen Anschlägen, insbesondere Winkelanschlägen, an denen sich die Facetten im Bereich ihrer Basisfläche zumindest mit einem Flächenkontakt abstützen.
Die Trägereinheit kann dabei einteilig oder mehrteilig aus einzelnen Trägerelementen ausgeführt sein. Die mehrteilige Ausführung bietet den Vorteil, dass insbesondere die Fassungs- und Führungsnuten – bei Unterteilung in diesem Bereich – beliebig zusammensetzbar sind. Die mehrteilige Ausführung bietet ferner den Vorteil, dass unterschiedliche Geometrien der einzelnen Facetten hinsichtlich ihrer Erstreckung in Längs- und Höhenrichtung, das heißt in Richtung der X- und Z-Achsen möglich sind und die einzelnen Trägereinheitselemente individuell zusammengesetzt werden können.
Bei der Justierung der einzelnen Feldfacetten in Facettenblöcken außerhalb der Trägereinheit erfolgt dabei die Justierung vorzugsweise derart, dass die Lage der einzelnen Feldfacetten um die Querachse gegenüber einer beliebigen, vorzugsweise eine in Stapelrichtung ersten Feldfacette eines Blockes erfolgt und beim Einbau beziehungsweise der Integration in die Trägereinheit dann nur noch die erste Feldfacette eines Blockes ausjustiert werden muss.
Die erfindungsgemäße Möglichkeit der Fertigung von facettierten Komponenten aus Einzelfacetten, deren optische Fläche in einem Arbeitsgang hinsichtlich einer vordefinierten Kippachse verkippt ist und Verlagerung der Ausrichtung um die zweite Kippachse in die Montage, insbesondere die Ausrichtung außerhalb oder innerhalb der Trageinheit ermöglicht neben einer erheblichen Kostenreduktion bei der Herstellung aufgrund der nur noch geforderten Genauigkeit hinsichtlich der einen ersten Kippachse die Schaffung eines serientauglichen Designs sowie eine hohe Kanaldichte pro Flächeneinheit.
Gemäß einer besonders vorteilhaften Ausführung ist die einzelne Trägereinheit mit einer integrierten Kühleinrichtung, vorzugsweise in Form von Kühlkanälen zur indirekten Kühlung der Feldfacetten, zur Abfuhr hoher Wärmelasten ausgebildet.
Derartige facettierte optische Komponenten finden in Beleuchtungssystemen mit einem Wabenkondensor Verwendung.
Die erfindungsgemäße Lösung wird nachfolgend anhand von Figuren erläutert. Darin ist im einzelnen folgendes dargestellt:
1 verdeutlicht eine Ausführung einer erfindungsgemäß hergestellten Feldfacette;
2a bis 2c verdeutlichen anhand eines bekannten Fertigungsverfahrens für Feldfacetten die Nachteile der Fertigung gemäß dem Stand der Technik;
3a bis 3c verdeutlichen eine Ausführung eines erfindungsgemäßen Fertigungsverfahrens zur Herstellung optischer Flächen an Facettengrundkörpern und damit von Feldfacetten;
4a und 4b verdeutlichen in schematisiert vereinfachter Darstellung eine facettierte Komponente in Form eines Feldfacettenspiegels in zwei unterschiedlichen Ebenen;
5 verdeutlicht in schematisiert vereinfachter Darstellung beispielhaft einen Ausschnitt aus einer facettierten Komponente in Form eines Feldfacettenspiegels in einer Perspektivsansicht mit verschieden hinsichtlich der Geometrie ausgeführten Facettenblöcken;
6a und 6b verdeutlichen in schematisiert vereinfachter Darstellung die Justierung der einzelnen gemäß den in den 3a bis 3c dargestellten Verfahren hergestellten Feldfacetten zur Realisierung beziehungsweise Einstellung des Kippwinkels um die Querachse in einer Justiervorrichtung;
7 verdeutlicht in schematisiert vereinfachter Darstellung anhand eines Ausschnittes aus einer facettierten Komponente die Möglichkeit einer kraftschlüssigen Verbindung zwischen einem einzelnen Feldfacettenblock und der Trägereinheit.
Die 1 verdeutlicht in schematisiert vereinfachter Darstellung eine optisches Element 1 in Form einer Feldfacette 2. Diese weist eine optische Fläche 3 auf, die hinsichtlich ihrer Form verschiedenartig ausgebildet sein kann, wobei diese jedoch durch eine hohe Randschärfe, hochgenaue Kippwinkel und eine bestimmte vordefinierte Mikrorauheit, für den EUV-Bereich vorzugsweise kleiner 50 μm charakterisiert ist. Diese Eigenschaften der optischen Fläche werden durch das erfindungsgemäße Fertigungsverfahren in den Facettengrundkörper eingearbeitet. Unter Facettengrundkörper wird dabei das Element vor der Einarbeitung der optischen Fläche 3 verstanden, der Begriff Facette beschreibt den Zustand nach Erzeugung der optischen Fläche 3.
1 verdeutlicht ein optisches Element 1 in Form einer Feldfacette 2, wie es nach Einarbeitung der optischen Fläche 3 vorliegt. Der optischen Fläche 3 an der Feldfacette 2 gegenüberliegend ist eine Basisfläche 4, welche entgegengesetzt zur optischen Fläche 3 ausgerichtet ist, angeordnet. Senkrecht oder in einem Winkel zur Basisfläche 4 und optischen Fläche 3 sind Anlageflächen 5 und 6 vorgesehen. Die Basisfläche 4 dient der Anbindung an ein Grundelement 19 bei Anordnung und Montage zu einer optischen Einrichtung in Form einer facettierten Komponente 17, insbesondere eines Reflexionsspiegels 20, wie in schematisiert vereinfachter Darstellung in 4 wiedergegeben. Die Anlageflächen 5 und 6 kontaktieren in diesem Fall die benachbart angeordneten optischen Elemente in Form von weiteren Feldfacetten 2i, 2j mit i = 1 bis n und j = i + 1, im dargestellten Fall beispielhaft die einzelnen Feldfacetten 2₁ bis 2₄ in 4a.
Die optische Fläche 3 ist im dargestellten Fall sphärisch, besitzt ein hohes Aspektverhältnis, d. h. Verhältnis von Länge l zu Breite b. Die Feldfacette 2 weist beispielsweise eine Länge von 10 mm bis einschließlich 60 mm und eine Breite zwischen 2 und 5 mm auf. Die Flächennormale ist für die einzelne Feldfacette 2 um Kippwinkel Φ_x und Φ_y verkippt. Der Kippwinkel Φ_x beschreibt den Winkel der Verkippung der optischen Fläche 3 um die Längsachse der Feldfacette 2, d. h. die x-Achse während Φ_y für die Verkippung der optischen Fläche 3 um die als Querachse fungierende y-Achse der Feldfacette 2 steht. 1 verdeutlicht dabei das Koordinatensystem und dessen Ausrichtung. Die Lage des Ursprungs des Koordinatensystems erfolgt dabei vorzugsweise im Mittelpunkt der optischen Fläche 2 oder aber an einer Position, gegenüber welcher die Kippwinkel Φ_x und Φ_y definiert werden.
Die 2 verdeutlicht beispielhaft die Problematik der Fertigung von Feldfacetten 2', 2'' und 2''' aus Facettengrundkörpers durch Einarbeitung der optischen Flächen 3', 3'' und 3''' gemäß dem Stand der Technik.
2a und 2b zeigen dabei die Anordnung, insbesondere erforderliche Positionierung der Facettengrundkörper auf einem Tragkörper 7, insbesondere Poliertragkörper 8 in Längs- und Querrichtung beziehungsweise bezogen auf ein dem Tragkörper 7 zugeordnetes Koordinatensystem. Die optischen Flächen 3', 3'' und 3''' werden mittels eines Werkzeuges 9, hier einer Polierschale 10 in die Oberfläche der Facettengrundkörper eingearbeitet. Das Werkzeug 9 rotiert um eine feststehende Achse AP, welche senkrecht zur zum Werkzeug 9 gerichteten Grundfläche 11 des Tragkörpers 7 ausgerichtet ist. Die Polierschale 10 weist eine Arbeitsfläche 12 auf, welche mit der der Basisfläche 4', 4'', 4''' gegenüberliegenden Fläche des Facettengrundkörpers zusammenwirkt und somit die optische Fläche 3', 3'', 3''' erzeugt. Werkzeug 9 und Tragkörper 7 sind Bestandteil einer Vorrichtung 13 zur Erzeugung der optischen Flächen 3', 3'', 3''', insbesondere Poliervorrichtung.
2a verdeutlicht in schematisierter Darstellung anhand eines Axialschnittes in der X-Z-Ebene durch die Vorrichtung 13 die erforderliche Anordnung der einzelnen Facetten 2, 2'' gegenüber dem Tragkörper 7 und der Achse AP in X-Richtung, d. h. der gewählten X-Position für die Facettengrundkörper auf der Grundfläche 11 des Tragkörpers 7, welche im Zusammenwirken mit dem Werkzeug 9 die Verkippung der optischen Fläche 3', 3'' um die Längsachse des Facettengrundkörpers und damit den Kippwinkel Φ_y bestimmt. Der Facettengrundkörper der Facette 2''' ist durch eine Anordnung mit der gleichen X-Koordinate wie 2'' charakterisiert, liegt jedoch in Y-Richtung dahinter, d. h. ist durch eine unterschiedliche Y-Koordinate zu 2'' charakterisiert.
2b verdeutlicht demgegenüber anhand eines Axialschnittes in der Y-Z-Ebene durch die Vorrichtung 13 die erforderliche Anordnung der einzelnen Facetten 2, 2'', 2''' gegenüber dem Tragkörper 7 und der Achse AP in y-Richtung, d. h. der gewählten Y-Position für die Facettengrundkörper auf der Grundfläche 11 des Tragkörpers 7, welche im Zusammenwirken mit dem Werkzeug 9 die Verkippung der optischen Fläche 3', 3'', 3''' um die Querachse des Facettengrundkörpers, d. h. Y-Achse den Kippwinkel Φ_x bestimmt. Daraus ergibt sich, dass die Anzahl der in einem Prozessschritt, beispielsweise Schleifen und/oder Polieren bearbeitbaren Feldfacetten begrenzt ist, da die Einarbeitung der unterschiedlichen Kippwinkel Φ_x' und Φ_y', Φ_x'' und Φ_y'' sowie Φ_x''' und Φ_y''' eine entsprechende Positionierung der Facettengrundkörper in der Vorrichtung 13 erfordern, die aufgrund der Winkellagen relativ ungeordnet wirkt. Die einzelnen Facettengrundkörper sind gegeneinander verkippt und verdreht. Die sich daraus ergebenden Lagen sind sehr platzintensiv. Dies ist beispielhaft in 2c für die Facetten 2' bis 2'''''' wiedergegeben. Jede einzelne Facette 2' bis 2'''''' benötigt dabei eigene Mittel 15 zur Befestigung, insbesondere Lagefixierung auf dem Tragkörper 7. Diese umfassen vorzugsweise jeweils einem Facettengrundkörper zugeordnete Klemmeinrichtungen als Lager- und/oder Fixiereinrichtung 14 zur Positionierung auf dem Tragkörper 7, die auch Mittel zur Befestigung 15 bilden, hier nur schematisiert stark vereinfacht angedeutet.
Aufgrund der ungeordneten Anordnung ist eine optimale Ausnutzung der zur Verfügung stehenden Grundfläche 11 nicht gegeben. Zur Fertigung der erforderlichen Anzahl an Facetten für eine optische Komponente in Form einer facettierten Komponente 16, insbesondere eine Reflexionsspiegel sind damit die in einem Prozessschritt bearbeitbaren Facettengrundkörper hinsichtlich der Anzahl begrenzt, so dass die Vorrichtung 13 mehrmals bestückt werden muss, was zu einer Erhöhung der erforderlichen Gesamtprozesszeit führt. Ferner ist der Aufwand für die Fixierung der einzelnen Facettengrundkörper sehr hoch.
Erfindungsgemäß wird daher vorgeschlagen, nur noch einen ersten Kippwinkel, als welcher sowohl Φ_x als auch Φ_y fungieren können, in den einzelnen Facettengrundkörper mit der im Einbauzustand geforderten Genauigkeit einzuarbeiten und den jeweils anderen zweiten Kippwinkel Φ_y oder Φ_x erst während des Montageprozesses der facettierten Komponente, d. h. nach Einarbeitung des ersten Kippwinkels einzustellen bzw. einzujustieren. Der zweite Kippwinkel Φ_y und Φ_x kann dabei bei allen in einem Arbeitsgang bearbeitbaren Facettengrundkörpern gleich eingestellt werden, wobei die Größe des zweiten Kippwinkels Φ_x oder Φ_y beliebig wählbar ist, vorzugsweise jedoch Null beträgt.
Die 3a bis 3c verdeutlichen dazu in schematisiert vereinfachter Darstellung anhand der Schnittebenendarstellungen gemäß der 2a und 2b sowie einer Ansicht gemäß 2c eine Ausführung gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren.
Erfindungsgemäß erfolgt aktiv die Einarbeitung nur eines ersten Kippwinkels – Φ_x oder φ_y. Der andere zweite Kippwinkel Φ_y oder Φ_x wird während der Fertigung der optischen Fläche 3 beliebig eingestellt und erst bei der Montage bzw. dem Zusammensetzen der optischen Komponente 16 einjustiert. Da eine nachträgliche Einstellung von Φ_x aufgrund der schmalen Facettenbasis in y-Richtung, d. h. Querrichtung und der Packungsdichte der einzelnen Feldfacetten 2 im Einbauzustand in der Regel nur schwer möglich ist, ist dies für Φ_y in der geforderten Genauigkeit einfacher zu realisieren. Daher wird gemäß einer besonders vorteilhaften Ausführung nur der Kippwinkel Φ_x als erster Kippwinkel in der geforderten Genauigkeitwährend des Prozessschrittes durch Abschleifen und/oder Polieren an der optischen Fläche 3 eingestellt, während der zweite Kippwinkel Φ_y in beliebiger Größe erzeugt wird, vorzugsweise hinsichtlich seiner Größe auf Null eingestellt wird. Aufgrund der daraus resultierenden Unabhängigkeit der Anordnung der Facettengrundkörper von einer X-Position auf dem Tragkörper 7 kann eine geordnete Anordnung der zu bearbeitenden Facettengrundkörper auf dem Tragkörper 7 zueinander unter weitestgehender Ausnutzung des theoretisch zur Verfügung stehenden Raumes erfolgen, welche besonders Platz sparend ist. Vorzugsweise werden dazu erfindungsgemäß wenigstens jeweils zwei einzelne Facettengrundkörper zu einem Facettenblock 17 zusammengefasst. Die einzelnen noch nicht bearbeiteten Facettengrundkörper eines derartigen Facettenblockes 17 werden dazu einander benachbart angeordnet, insbesondere mit ihren Anlageflächen 5 und 6 jeweils aneinander gepackt. Jeder Facettenblock 17 umfasst wenigstens 1 bis n mit n ≥ 2 Facettengrundkörper, die alle über, dem Facettenblock 17 zugeordnete Mittel 15 zur Befestigung, insbesondere in Form einer Lager- bzw. Fixiereinrichtung 14 gemeinsam in ihrer Position zueinander und gegenüber dem Tragkörper 7 gehalten werden. Die Lager- bzw. Fixiereinrichtung 14 ist im einfachsten Fall als Klemmkörpereinrichtung ausgeführt. Die Packung der einzelnen Facettengrundkörper in einem Facettenblock 17 kann unter Berührung der einander benachbart angeordneten und zueinander weisenden Anlageflächen oder frei von einer derartigen Berührung erfolgen. Im letztgenannten Fall erfolgt die Ausrichtung der Facettengrundkörper zueinander über die Mittel 15, insbesondere die Klemmeinrichtung.
3a verdeutlicht in schematisierter Darstellung anhand eines Axialschnittes in der X-Z-Ebene durch die Vorrichtung 13 die Anordnung der einzelnen Facettengrundkörper und damit nach erfolgter Einarbeitung der optischen Flächen 3 der Facetten 2 gegenüber dem Tragkörper 7 und der Achse AP in X-Richtung. Die X-Koordinate für die Definition der Lage des Facettengrundkörpers auf der Grundfläche 11 des Tragkörpers 7, welche im Zusammenwirken mit dem Werkzeug 9 die Verkippung der optischen Fläche 3 um die Längs- bzw. X-Achse des Facettengrundkörpers und damit den Kippwinkel Φ_y bestimmt ist frei gewählt, hat jedoch keinerlei Einfluss auf den später im Einbauzustand in einer optischen Komponente tatsächlich eingestellten Kippwinkel Φ_y.
3b verdeutlicht in einem Schnitt eine Ansicht auf die Y-Z-Ebene durch die Vorrichtung 13. Die einzelnen Facettengrundkörper und damit die nach der Bearbeitung vorliegenden Feldfacetten 2 sind hier zu Blöcken zusammengefasst. Diese sind mit 17_n mit n ≥ 1 bezeichnet. In 3b sind beispielhaft drei Facettenblöcke 17₁ , 17₂ und 17₃ dargestellt. Jeder Facettenblock 17_n umfasst wenigstens zwei Facettengrundkörper, nach der Einarbeitung der optischen Fläche 3 zwei Facetten 2. Diese sind parallel zueinander in Längsrichtung des Facettengrundkörpers bzw. der Facette frei von Versatz gruppiert.
Die einzelnen einander benachbart angeordneten Feldfacetten eines Facettenblocks 17 sind hier jeweils mit 2ni und 2nj gekennzeichnet. Im dargestellten Fall umfasst ein Facettenblock 17_n beispielhaft jeweils vier Facettengrundkörper vor der Einarbeitung der optischen Flächen 3 bzw. Feldfacetten 2 nach der Einarbeitung der optischen Flächen 3. Die einzelnen einander benachbart angeordneten Feldfacetten 2ni und 2nj liegen dabei mit ihren Anlageflächen 5 und 6 aneinander über ihre Erstreckung in Längsrichtung, d. h. parallel zur Längsachse der einzelnen Feldfacette an. Im dargestellten Fall umfasst jeder Facettenblock 17_n beispielhaft vier Facettengrundkörper bzw. nach Bearbeitung vier Facetten, hier mit 2₁₁ bis 2₁₄ für 17₁ , 2₂₁ bis 2₂₄ für 17₂ und 2₃₁ bis 2₃₄ für 17₃ bezeichnet.
Da die X-Position und damit der durch Bearbeitung tatsächlich einstellbare Kippwinkel Φ_y aufgrund der möglichen Einstellung bzw. Nachjustierung während der Montage einer optischen facettierten Komponente 16 frei wählbar ist, kann die Anordnung der einzelnen Facettengrundkörper in Y-Richtung beliebig erfolgen und der theoretisch in dieser Richtung zur Verfügung stehende Platz kann weitestgehend ausgenutzt werden.
Vorzugsweise werden Facettengrundkörper mit der gleichen Geometrie und den gleichen Abmessungen in Längs- und Querrichtung in einem Facettenblock 17_n gruppiert. Diese Gruppierung erfolgt wie bereits ausgeführt vorzugsweise frei von Versatz zwischen den einzelnen Facettengrundkörpern in Längsrichtung zueinander, d. h. die in Längsrichtung ausgerichteten Flächen, welche vorzugsweise senkrecht zu den jeweiligen Anlageflächen 5 und 6 sowie der Basisfläche 4 und der optischen Fläche 3 eines Facettengrundkörpers ausgerichtet sind, liegen in einer Ebene.
Die erforderliche Anordnung der einzelnen Facetten 2ni und 2nj gegenüber dem Tragkörper 7 und der Achse AP in y-Richtung, d. h. der gewählten V-Position für die Facettengrundkörper auf der Grundfläche 11 des Tragkörpers 7, bestimmt im Zusammenwirken mit dem Werkzeug 9 die Verkippung der optischen Fläche 3ni beziehungsweise 3nj der einzelnen Facette 2ni bzw. 2nj, hier der optischen Flächen 3₁₁ bis 3₁₄ für 17₁ , 3₂₁ bis 3₂₄ für 17₂ und 3₃₁ bis 3₃₄ für 17₃ um die Querachse des Facettengrundkörpers und damit den Kippwinkel Φ_x.
Die in der 3b dargestellte dichte Packung der einzeln Facettengrundkörper und damit der Facetten 2ni, 2nj, beispielhaft für die Blöcke 17₁ bis 17₃ jeweils mit 2ni und 2nj bezeichnet, wobei i ≥ 1 und j = i + 1 bedingt eine Φ_x-Beziehung zwischen den einzelnen einander benachbart angeordneten Facetten eines Facettenblockes 17n. Diese lautet wie folgt:
mit

n ∊ Z, y0 ∊ R

R:: Radius der optischen Fläche

d ∊ R

Gemäß 3a erfolgt die Ausgestaltung der Basisfläche 4 in Längsrichtung betrachtet sphärisch. Dadurch kann eine einfachere Justierung von Φ_y während der Montage der facettierten Komponente erfolgen.
Um eventuell unterschiedliche Höhen zwischen einzelnen einander benachbart angeordneten Facettengrundkörpern und/oder zwischen den einzelnen Facettenblöcken auszugleichen und dem einzelnen Facettenblock stabilen Halt zu geben sind Hilfsvorrichtungen 18₁ bis 18n vorgesehen, die den einzelnen Facettengrundkörper an der Basisfläche 4 abstützen. Diese können Bestanteil der Mittel 15 zur Befestigung sein oder aber von separaten Elementen gebildet werden. Vorzugsweise erfolgt die Abstützung direkt in der Klemmeinrichtung.
Die 3c1 und 3c2 verdeutlichen beispielhaft in einer Ansicht von oben auf den Tragkörper 7 mögliche Anordnungen erfindungsgemäß gruppierter Facettengrundkörper in Facettenblöcken 17₁ bis 17₅ . Gemäß 3c1 sind die Blöcke 17₁ bis 17₃ parallel zueinander gruppiert und die einzelnen Facettengrundkörper sind in X-Richtung durch die gleiche Koordinate, d. h. X-Position charakterisiert. Die beiden Blöcke 17₄ und 17₅ sind in einem Winkel, hier senkrecht zu den Blöcken 17₁ bis 17₃ angeordnet und die in diesen vorliegenden und gruppierten Facettengrundkörper sind durch die gleiche Position, d. h. Koordinate in Y-Richtung charakterisiert, wobei jeder Facettengrundkörper durch unterschiedliche jedoch für die Einarbeitung des ersten Kippwinkels um die Längsachse nicht relevante X-Koordinaten charakterisiert ist. Gegenüber einer Ausführung aus dem Stand der Technik kann somit ein Mehrfaches an Facettengrundkörpern in einem Arbeitsgang bearbeitet werden.
3c2 verdeutlicht beispielhaft eine weitere Anordnung der einzelnen Blöcke. Auch hier sind ein Teil der Facettenblöcke 17₄ , 17₃ mit gleicher X-Koordinate angeordnet, während alle anderen Facettenblöcke durch unterschiedliche Koordinaten charakterisiert sind.
4a und 4b verdeutlichten beispielhaft eine facettierte Komponente 16 in Form eines Reflexionspiegels 20 in zwei Ebenen. Diese umfasst eine Mehrzahl von Feldfacetten 2₁ bis 2_n , die an einer Trägereinheit 19 angeordnet sind und sich an diesem abstützen. 4a verdeutlicht die Y-Z-Ebene. Daraus ist ersichtlich, dass die einzelnen Facetten 2₁ , 2₂ , 2₃ und 2₄ parallel zueinander benachbart auf einer Mantelfläche 21 der Trägereinheit 19 angeordnet sind, frei von Verdreh- oder kippungen um die Längsachse der einzelnen Facette 2₁ bis 2_n , d. h. die Facette selbst nicht gekippt ist, jedoch die optische Fläche 7 durch eine Verkippung der Normalen um einen Kippwinkel φ_x· charakterisiert ist
4b verdeutlicht die facettierte Komponente 16 in Form des Spiegels 20 in der X-Z-Ebene. Daraus ersichtlich ist, dass die Facette 2₄ mittels einer Justiereinrichtung 22 um die Querachse verkippt wurde und damit der erforderliche Kippwinkel φ_y für die Facette 2_n in der facettierten Komponente 16 eingestellt wurde.
Die 5 verdeutlicht in schematisiert stark vereinfachter Darstellung anhand einer Perspektivsansicht einen Ausschnitt aus einer facettierten Komponente 16 in Form eines Reflexionsspiegels 20. Dieser umfasst auch hier eine Trägereinheit 19, welche im dargestellten Fall aus einer Mehrzahl von einzelnen Trägereinheitssegmenten 19.1 bis 19.n besteht und die eine Mehrzahl von Montageflächen 21.1 bis 21.n für einzelne Facettenblöcke 17.1 bis 17.n aufweisen. Die einzelnen Montageflächen 21.1 bis 21.n sind vorzugsweise hinsichtlich ihrer Geometrie an die Ausführung der Basisfläche 4 der Feldfacette 2 angepasst beziehungsweise bilden zumindest einen, vorzugsweise zwei Abstützbereiche 24.1.1 bis 24.n.n, die der flächigen Abstützung der einzelnen Feldfacetten 2 beziehungsweise der Facettenblöcke 17.1 bis 17.n dient. Im dargestellten Fall ist die Trägereinheit 19 durch eine Mehrzahl von parallel zur Querachse, das heißt Y-Achse der einzelnen Feldfacetten 2 beziehungsweise der Feldfacettenblöcke 17.1 bis 17.n in gewünschter Einbaulage ausgerichtete Fassungs- und Führungsnuten 27.1 bis 27.n charakterisiert. Die Ausführung der Fassungs- und Führungsnuten 27.1 bis 27.n erfolgt hinsichtlich der Geometrie komplementär zur Geometrie der Basisflächen 4 der einzelnen Feldfacetten 2, insbesondere der Facettenblöcke 17.1 bis 17.n unter Ausbildung zumindest der einzelnen Abstützbereiche 24.1.1. bis 24.n.n. Vorzugsweise ist zumindest nur ein flächiger Abstützbereich vorgesehen.
Die Fassungs- und Führungsnuten 27.1 bis 27.n sind parallel zueinander angeordnet. Gemäß einer besonders vorteilhaften Ausführung ist die einzelne Fassungs- und Führungsnut 27.1 bis 27.n symmetrisch bezogen auf die Symmetrieachse der Führungsnut ausgeführt. Bezüglich der konkreten Ausgestaltung bestehen dann eine Vielzahl von Möglichkeiten. Im dargestellten Fall ist die einzelne Führungsnut an die Ausführung der Facetten 2 mit halbmondförmiger Ausgestaltung der Basisfläche 4, das heißt Halbringsegment, angepasst. Dabei schließt sich die Basisfläche 4 jeweils gleich an die optische Fläche 3 der einzelnen Facette 2 an.
Die dargestellten Feldfacettenblöcke 17.1 bis 17.n sind dabei beispielhaft verschiedenartig ausgeführt. Die facettierte Komponente 20 kann dabei aus hinsichtlich der Geometrie und der Dimensionierung identischen Einzelfacetten 2 bestehen oder aber wie im dargestellten Fall aus hinsichtlich der Geometrie unterschiedlichen Einzelfacetten 2.1 bis 2.n. Im dargestellten Fall sind die einzelnen Facettenblöcke 17.1 bis 17.3 als Mondfacettenblöcke ausgeführt, die durch eine bezüglich ihrer Erstreckung in Richtung der Längsachse gerade optische Fläche charakterisiert sind, während die Mondfacettenblöcke 17.4 bis 17.6 sichelförmig ausgestaltet sind, das heißt die optische Flächen 3 jeweils um die Vertikalachse gekrümmt ausgeführt sind.
Die Justierung in der Trägereinheit 19 erfolgt über in der Stell- und Justiervorrichtung 23, vorzugsweise in den Führungsnuten 27.1 bis 27.n angeordneten Winkelanschlägen, welche ortsfest oder individuell einstellbar sind.
Die einzelnen Facettenblöcke 17.1 bis 17.6 können dabei entsprechend dem in den 3a bis 3c dargestellten Verfahren hinsichtlich der Bereitstellung der optischen Fläche 7 mit Verkippung um die Längsachse erzeugt werden. Diese werden dann gemäß einer vorteilhaften Ausführung in einer separaten Justiervorrichtung 26 außerhalb der Trägereinheit 19 hinsichtlich ihrer Lage bezüglich der Querachse der einzelnen Feldfacetten 2 zueinanderjustiert und somit der gesamte Feldfacettenblock, hier beispielhaft 17.1 vorjustiert. Vorzugsweise erfolgt dabei die Justierung der einzelnen einander benachbart angeordneten Feldfacetten bezüglich einer in Anordnungsrichtung vorzugsweise in Richtung der Querachse y ersten Feldfacette 2.1, die vorzugsweise vorn im Block 17.1 angeordnet ist. Die einzelnen Feldfacetten 2.1 bis 2.n werden dabei in einer separaten Justiervorrichtung 26 hintereinander gestapelt und, wie aus der 6a ersichtlich, wird für die einzelne Feldfacette 2.1 bis 2.n der jeweiligen Kippwinkel φ_y eingestellt. Dies erfolgt durch Verkippung der optischen Fläche beziehungsweise der Flächennormale um die dargestellte Y-Achse.
Die Justiervorrichtung 26 selbst kann verschiedenartig ausgeführt sein. Vorzugsweise umfasst die Justiervorrichtung Winkelanschläge, anhand derer die Lage der einzelnen Basisflächen 4 in Bezug auf die Y-Achse ausgerichtet werden kann.
Die 6b verdeutlicht die Zusammenfassung der einzelnen Facetten 2.1 bis 2.n zu Blöcken, hier 17.1 über Zuganker 25 durch Kraftschluss. Die Verspannung und der Kraftschluss zwischen den einzelnen Facetten eines Feldfacettenblockes 17.1 bis 17.6 erfolgt in der Justiervorrichtung 26 bei Erreichen der erforderlichen Blocklänge. Der gesamte Block wird dann zur Trägereinheit 19 transportiert und an dieser fixiert, wobei in diesem Fall lediglich eine Ausrichtung hinsichtlich einer Feldfacette eines Blockes erfolgen muss.
7 verdeutlicht in schematisiert vereinfachter Darstellung eine Möglichkeit der Befestigung des Feldfacettenblockes 17.1 an der Trägereinheit 19. Erkennbar ist eine Abstützung der ersten Feldfacette 2.1 des Blockes 17.1 mit der Basisfläche 4 an den Abstützbereichen 24.1.1 der die Montagefläche 21.1 bildenden Fassungs- und Führungsnut 27.1. Die Befestigung erfolgt vorzugsweise kraftschlüssig über Befestigungselemente 28.

1: optisches Element
2: Feldfacette
3: optische Fläche
4: Basisfläche
5: Anlagefläche
6: Anlagefläche
7: Tragkörper
8: Poliertragkörper
9: Werkzeug
10: Polierschale
11: Grundfläche
12: Arbeitsfläche
13: Bearbeitungsvorrichtung
14: Lagereinrichtung
15: Mittel zur Befestigung
16: facettierte Komponente
17: Facettenblock
18: Hilfsvorrichtung
19: Trägerelement
20: Reflexionsspiegel
21: Montagefläche
22: Justiereinrichtung
23: Stelleinrichtung
24.1.1.–24.n.n: Abstützbereich
25: Zuganker
26: Justiervorrichtung
27.1–27.n: Fassungs- und Führungsnut
28: Befestigungselement

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

- WO 2005/006081 [0002]
- JP 2000098108 [0004]
- JP 2000098110 [0004]
- JP 2000098111 [0004]
- JP 2000098112 [0004]
- JP 2000098113 [0004]
- JP 20000981114 [0004]
- JP 2000162416 [0004, 0004]
- JP 2000162414 [0005]
- US 2003/0058555 A1 [0006]

Claims

Verfahren zur gleichzeitigen Erzeugung optischer Flächen (3) an wenigstens zwei Feldfacetten (2) für den Einsatz in Beleuchtungssystemen, insbesondere Beleuchtungssystemen für die EUV-Lithographie, wobei jede optische Fläche (3) durch eine Verkippung der Flächennormalen um einen Kippwinkel φ_x um eine Längsachse und einen Kippwinkel φ_y um eine Querachse der Feldfacette (2) charakterisierbar ist, mittels einer rotierenden Wirkfläche (12) eines Werkzeuges (9); gekennzeichnet durch die folgenden Merkmale: 1.1 bei welchem jeweils ein erster Kippwinkel – Kippwinkel φ_x um die Längsachse oder Kippwinkel φ_y um die Querachse – an wenigstens zwei Facettengrundkörpern in vordefinierter Größe in einem Arbeitsgang eingestellt wird, wobei die Einstellung des ersten Kippwinkels frei von einer aktiven Einstellung des jeweils anderen zweiten Kippwinkels – Kippwinkel φ_y um die Querachse oder Kippwinkel φ_x um die Längsachse erfolgt.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass bei der Einarbeitung des ersten Kippwinkels der Normalenrichtung der optischen Fläche ein zweiter Kippwinkel mit eingearbeitet wird.
Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Kippwinkel für wenigstens zwei Facettengrundkörper mit gleicher Größe eingearbeitet wird.
Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass der zweite Kippwinkel gleich 0 beträgt.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der für die einzelnen Facettengrundkörper mit gleicher Größe gewählte zweite Kippwinkel hinsichtlich der Größe beliebig eingestellt wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Kippwinkel vom Kippwinkel φ_x der Normalenrichtung der optischen Fläche (3) um die Längsachse der Feldfacette gebildet wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass der erste Kippwinkel vom Kippwinkel φ_y der Normalenrichtung der optischen Fläche (3) um die Querachse gebildet wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Einstellung der Kippwinkel φ_x, φ_x durch Positionierung der einzelnen Facettengrundkörper gegenüber der Rotationsachse (AP) eines rotierenden Werkzeuges (9), auf einem Tragkörper (7) und die Einwirkung der Werkzeugfläche (12) auf die optische Fläche (3) erfolgt.
Verfahren nach Anspruch 7 oder 8, gekennzeichnet durch die folgenden Merkmale: 9.1 jeweils wenigstens zwei Facettengrundkörper werden mit ihren seitlichen Anlageflächen (5, 6) einander benachbart unter Bildung eines Facettenblockes (17₁ bis 17n) zusammengefasst auf einem Tragkörper (7) angeordnet; 9.2 die einzelnen Facettengrundkörper eines Facettenblockes (17₁ bis 17n) werden derart auf dem Tragkörper (7) angeordnet, dass die einzelnen Facettengrundkörper eines Facettenblockes (17₁ bis 17n) hinsichtlich der Koordinaten der Lage der Quer- oder Längsachsen der einzelnen Facetten durch die gleiche Position gegenüber einem durch eine theoretisch ruhende Achse im Polierprozess des Werkzeuges (9) gelegten Koordinatensystem charakterisiert sind.
Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass eine Mehrzahl von Facettenblöcken (17₁ bis 17n) auf dem Tragkörper (7) angeordnet werden, wobei die Ausrichtung der einzelnen Facettenblöcke (17₁ bis 17n) derart erfolgt, dass die Facettengrundkörper eines einzelnen Facettenblockes (17₁ bis 17n) hinsichtlich der Koordinaten der Lage Ihrer Quer- oder Längsachsen durch die gleiche Position gegenüber einem durch eine theoretisch ruhende Achse im Polierprozess des Werkzeuges (9) gelegten Koordinatensystem charakterisiert sind.
Verfahren nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass Facettengrundkörper mit gleicher Geometrie und gleichen Abmessungen in einem Facettenblock (17₁ bis 17n) zusammengefasst werden.
Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass die ersten Kippwinkel vom Kippwinkel φ_x um die Längsachse gebildet werden und die einzustellenden Kippwinkel φ_xi und φ_xj zweier benachbart angeordneter Facettengrundkörper in folgender Winkelbeziehung zueinander stehen:
mit φ_xi, φ_xj φ_xi-Winkel zweier unterschiedlicher Facettengrundkörper in einem Facettenblock n ∊ Z, y0 ∊ R mit R: Radius der optischen Fläche und d ∊ R, wobei d: Dicke der Facette
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Facettengrundkörper eines Facettenblocks (17₁ bis 17n) mit einer ebenen der optischen Fläche (3) gegenüberliegenden Basisfläche (4) ausgeführt werden.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Facettengrundkörper eines Facettenblocks (17₁ bis 17n) mit einer um die Längsachse des einzelnen Facettengrundkörpers ausgeführten gekrümmten Basisfläche (4) ausgeführt werden.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die Facettengrundkörper eines Facettenblocks (17₁ bis 17n) mit Mitteln zur Befestigung auf dem Tragkörper (7) in ihrer Lage gegenüber dem Tragkörper (7) gehalten und fixiert werden.
Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittel (15) zur Befestigung wenigstens eine Klemmeinrichtung umfassen, wobei die Facettengrundkörper eines Facettenblockes (17₁ bis 17n) mit einer Klemmeinrichtung auf dem Tragkörper (7) fixiert sind.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass als Werkzeug (9) ein mit zur zu bearbeitenden Fläche weisender gekrümmt ausgeführten Wirkfläche (12) ausgeführtes Werkzeug verwendet wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Fläche (3) geschliffen wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Fläche (3) poliert wird.
Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, dass das Schleifen und das Polieren nacheinander erfolgen.
Bearbeitungsvorrichtungsvorrichtung (13), insbesondere Poliervorrichtung 21.1 mit einem Tragkörper (7) zur wenigstens mittelbaren Abstützung von Facettengrundkörpern bei Erzeugung eines ersten Kippwinkels einer optischen Fläche (3); 21.2 mit Mitteln (15) zur Befestigung der Facettengrundkörper auf dem Tragkörper (7), wobei die Mittel (15) derart ausgeführt sind, dass diese wenigstens jeweils zwei Facettengrundkörper hinsichtlich ihrer Lage auf dem Tragkörper (7) fixieren.
Bearbeitungsvorrichtung (13) nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittel (15) zur Befestigung der Facettengrundkörper als Mittel zur Befestigung eines aus einzelnen Facettengrundkörpern gebildeten Facettenblockes (17.1 bis 17.n) ausgeführt sind.
Bearbeitungsvorrichtung (13) nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittel (15) zur Befestigung eine Klemmvorrichtung für jeden Facettenblock (17₁ bis 17n) umfassen, die lösbar mit dem Tragkörper verbindbar ist.
Bearbeitungsvorrichtung (13) nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, dass die Klemmvorrichtung über Befestigungselemente an beliebiger Position auf dem Tragkörper (7) befestigbar ist.
Bearbeitungsvorrichtung (13) nach Anspruch 23 oder 24, dadurch gekennzeichnet, dass der Tragkörper (7) eine Rasterung zur Vorgabe möglicher Befestigungspositionen für die Mittel (15) aufweist.
Bearbeitungsvorrichtung (13) nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittel (15) zur Befestigung eine Klemmvorrichtung für jeden Facettenblock (17₁ bis 17n) umfassen, die unlösbar mit dem Tragkörper (7) verbindbar ist.
Bearbeitungsvorrichtung (13) nach einem der Ansprüche 23 bis 26, dadurch gekennzeichnet, dass die Klemmeinrichtung Klemmbacken umfasst, die zur Anpassung an die Breite des Facettenblockes gegeneinander verschiebbar sind.
Bearbeitungsvorrichtung (13) nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittel (15) zur Befestigung Aufnahmeeinrichtungen für die einzelnen Facettengrundkörper eines Facettenblockes (17₁ bis 17n) umfassen.
Bearbeitungsvorrichtung (13) nach einem der Ansprüche 21 bis 28, dadurch gekennzeichnet, dass die Mittel (15) zur Befestigung Justiermittel (22) zum Ausgleich unterschiedlicher Höhen der Facettengrundkörper umfassen.
Bearbeitungsvorrichtung (13) nach einem der Ansprüche 21 bis 29, dadurch gekennzeichnet, das das Werkzeug (9) eine um eine ortsfest gegenüber dem Tragkörper (7) angeordnete und senkrecht zu diesem ausgerichtete Achse (AP) drehbar gelagerte Arbeitsfläche (12) umfasst.
Verwendung einer Bearbeitungsvorrichtung (13) gemäß einem der Ansprüche 19 bis 30 in einem Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 20.
Facettierte optische Komponente (16), insbesondere Reflexionsspiegel (20) 32.1 mit einer Trägereinheit (19) zur Aufnahme und Abstützung mindestens zweier Einzelfacetten (2₁ bis 2n), umfassend jeweils eine wirksame optische Fläche (3), deren Normalenrichtung in Bezug auf ein durch die optische Fläche angrenzenden Flächen gebildetes Koordinatensystem um zwei definierte Winkel verkippt sein kann; 32.3 jede einzelne Facette (2₁ bis 2n) ist durch einen definierten Kippwinkel um eine Achse der Facette (2₁ bis 2n) – Längs- oder Querachse – charakterisiert, wobei die Kippung um die jeweils andere Achse – Querachse oder Längsachse – für jede einzelne Facette (2₁ bis 2n) durch Kippung während der Montage über eine wenigstens eine oder mehrere individuell einstellbare Winkelanschläge aufweisende Stelleinrichtung (23) an der Trägereinheit (19) einstellbar ist.
Facettierte optische Komponente (16) nach Anspruch 32, gekennzeichnet durch die folgenden Merkmale: 33.1 mit einer Mehrzahl von einander benachbart angeordneten Einzelfacetten (2₁ bis 2n), wobei die einzelnen Facetten (2₁ bis 2n) durch einen definierten Kippwinkel um eine Achse der Facette (2₁ bis 2_n ) – Längs- oder Querachse – charakterisiert sind; 33.2 die einzelnen Facetten (2₁ bis 2n) sind an ihren in einem Winkel zur optischen Fläche angeordneten Anlageflächen einander anliegend angeordnet; 33.3 die definierte Kippung um die jeweils andere Achse – Querachse oder Längsachse – ist für jede einzelne Facette (2₁ bis 2n) durch Kippung während der Montage über die Stelleinrichtung (23) am Trägerelement (19) einstellbar.
Facettierte optische Komponente (16) gemäß Anspruch 32 oder 33, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelnen Facetten (2₁ bis 2_n ) vor der Montage einen definierten Kippwinkel φ_x um die Längsachse der Facetten und einen beliebig freien Kippwinkel um die Querachse aufweisen.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 32 bis 34, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelne Facette (2₁ bis 2_n ) eine der optischen Fläche (3) gegenüberliegende Basisfläche (4) aufweist und die Stelleinrichtung (23) Mittel zur Justierung der Lage der Basisflächen (4) gegenüber einer Montagefläche (21) an der Trägereinheit (19) umfasst.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 32 bis 35, dadurch gekennzeichnet, dass die Stelleinrichtung (23) am Trägerelement (19) individuell einstellbare Winkelanschläge für jede einzelne Facette (2₁ bis 2_n ) oder eine Mehrzahl von einzelnen Facetten umfasst.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 35 bis 36, dadurch gekennzeichnet, dass die Stelleinrichtung (23) an der Trägereinheit (19) einer einzelnen Facette oder einem Facettenblock zugeordnet ist.
Facettierte optische Komponente (16), nach einem der Ansprüche 32 bis 37, gekennzeichnet durch die folgenden Merkmale: 38.1 die einzelnen Facetten (2₁ bis 2_n ) sind in Facettenblöcken (17.1 bis 17.n) zusammengefasst, umfassend eine erste Facette, deren zweiter definierter Kippwinkel der optischen Fläche (3) an den individuell einstellbaren Winkelanschlägen der Trägereinheit (19) eingestellt ist; 38.2 die einzelnen Facetten eines Facettenblockes (17.1 bis 17.6) sind form- oder kraftschlüssig miteinander gekoppelt; 38.3 die optischen Flächen der weiteren Einzelfacetten eines derartigen Facettenblockes (17.1 bis 17.6) sind um den zweiten Kippwinkel innerhalb des Facettenblockes (17.1 bis 17.n) durch Verkippung der Einzelfacetten gegenüber der ersten Einzelfacette charakterisiert.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 32 bis 38, dadurch gekennzeichnet, dass diese aus einer Vielzahl von einzelnen oder zu Facettenblöcken zusammengefassten Einzelfacetten besteht, deren optische Fläche gemäß einem Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 20 eingearbeitet ist.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 32 bis 39, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägereinheit (19) eine Mehrzahl von parallel zueinander angeordneter, die Abstützflächen für die Basisflächen (4) der einzelnen Facetten definierende Winkelanschläge aufweisende Fassungs- und Führungsnuten (27.1 bis 27.n) umfasst.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 32 bis 40, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelne Facette (2₁ bis 2_n ) und die Trägereinheit (19) stoffschlüssig verbunden sind.
Facettierte optische Komponente (16) nach Anspruch 41, dadurch gekennzeichnet, dass der Stoffschluss durch chemische Lote, Kleber, Wärmeleitkleber oder eine metallische Legierung erzeugt ist.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 32 bis 42, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindung zwischen der einzelnen Facette (2₁ bis 2_n ) und dem Trägerelement (19) kraftschlüssig erfolgt.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 41 bis 43, dadurch gekennzeichnet, dass die Verbindung thermisch stabil ist.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 32 bis 44, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägereinheit (19) monolithisch ist.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 32 bis 45, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägereinheit (19) aus wenigstens zwei Trägereinheitssegmenten besteht.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 32 bis 46, dadurch gekennzeichnet, dass Mittel zur Kühlung in der Trägereinheit (19) integriert sind.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 32 bis 47, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelnen Facetten (2₁ bis 2_n ) aus den nachfolgenden Komponenten besteht: Si, Ni, Al.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 32 bis 48, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelne Facette (2₁ bis 2_n ) galvanisch abgeformt ist.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 32 bis 49, dadurch gekennzeichnet, dass die Trägereinheit (19) und die einzelne Spiegelfacette (2₁ bis 2_n ) aus dem gleichen Material gefertigt sind.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 32 bis 50, dadurch gekennzeichnet, dass die einzelne Facette (2₁ bis 2_n ) mit einem Kunststoff beschichtet ist.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 32 bis 51, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Fläche (3) der einzelnen Facette (2₁ bis 2_n ) sphärisch ausgeführt ist.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 32 bis 51, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Fläche (3) der einzelnen Facette (2₁ bis 2_n ) plan ausgeführt ist.
Facettierte optische Komponente (16) nach einem der Ansprüche 32 bis 53, dadurch gekennzeichnet, dass die Basisfläche (4) der einzelnen Facette (2₁ bis 2_n ) von einer wenigstens teilweise zylindrischen, kegelförmigen oder kugelförmigen Fläche gebildet wird.
Facettierte optische Komponente nach einem der Ansprüche 32 bis 44, dadurch gekennzeichnet, dass die optische Fläche (3) eine mehrlagige Beschichtung aufweist.
Verfahren zur Montage einer facettierten Komponente (16) gemäß einem der Ansprüche 32 bis 55, gekennzeichnet durch die folgenden Merkmale: 56.1 bei welchem einzelnen Facetten (2₁ bis 2_n ) mit einer um einen ersten definierten Kippwinkel verkippten optischen Fläche (3), die gemäß einem der Ansprüche 1 bis 20 erzeugt sind zu Facettenblöcken unter Ausrichtung der optischen Fläche (3) der einzelnen Facetten um einen definierten zweiten Kippwinkel in ihrer Lage zueinander in einer außerhalb einer Trägereinheit vorgesehenen Stell- und Justiervorrichtung zusammengefasst werden und die einzelnen Einzelfacetten in ihrer Lage zueinander fixiert werden; 56.2 bei welchem der gemäß 56.1 gebildete Facettenblock als Einheit in die Trägereinrichtung der facettierten Komponente übertragen wird und der Facettenblock als Einheit hinsichtlich hinsichtlich der Lage gegenüber der Montagefläche (21) der Trägereinrichtung (19) ausgerichtet wird.
Beleuchtungssystem für die EUV-Lithographie; umfassend eine erste facettierte optische Komponente gemäß einem der Ansprüche 32 bis 55.
Mikrolithographieprojektor, umfassend ein Beleuchtungssystem gemäß Anspruch 57.