CN107628824B - 一种钧瓷施釉工艺 - Google Patents

Abstract

本发明一种钧瓷施釉工艺，包括一次施釉的步骤；在一次施釉表面进行激光刻纹的步骤；在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的步骤；本发明一种钧瓷施釉工艺，很好地实现了激光刻纹，刻纹的准确度和控制精度高，刻纹纹路深浅不一、凹凸有致，刻纹部分没有明显色差，过度平滑，并且能够根据多样的需求进行刻纹图案的选择，智能化和自动化程度高；另外，进行了一次施釉和激光刻纹纹路的二次施釉，使得出来的钧瓷透明、荧光相间，纹路色彩清晰，进而使得产品更加丰富，别具创意、更显优雅，并且明显提升档次，大大降低了成本、减少了工作量。

Description

一种钧瓷施釉工艺

技术领域

本发明涉及钧瓷施釉技术领域，具体涉及一种钧瓷施釉工艺。

背景技术

众所周知，陶瓷的发展与人类的进步有着密切而久远的联系，它是人类文明的时代标志。陶瓷中的钧瓷，经理了唐、宋、元、明、清的岁月洗礼，形成了独特的艺术表现形式，钧窑有着极美的色彩，釉在窑中变化万千，并具有自然美感，今天仍为各地瓷窑所继承和仿效，并不断创新，使钧窑这枝绚丽的花朵重放异彩。钧窑为北方青瓷窑系，目前仍然有着很大的成就，一般采用柴、煤、炭和天然气烧制，不同的烧制工艺产生的釉色变化也不同。外部是釉料在经过高温熔融时产生绚丽的色彩斑斓变化，原因主要在釉料的配方，这是影响钧瓷成品外色的重要因素，同时也是造成钧瓷入窑一色，出窑万彩的关键因素。

钧瓷发端于东汉，是宋代五大名窑瓷器之一，汉族传统制瓷工艺中的珍品，被称为国宝、瑰宝。以独特的窑变艺术而著称于世，素有“黄金有价钧无价”和“家有万贯，不如钧瓷一件”的美誉。施釉，也称上釉，指在坯体表面覆盖一层釉料的操作。钧瓷的施釉是指利用素坯的吸水性，采用不同的操作方法，在素坯器物表面附着一层钧釉翻浆。根据产品的形状和工艺要求，钧瓷上釉的方法一般有涮釉、浸釉、浇釉、刷釉和点釉。前四种方法用于钧瓷窑变单色釉和窑变花釉的上釉，后一种方法主要用于窑变彩斑釉的上釉。

涮釉，又称荡釉，用于钧瓷产品内部空腔的上釉。把釉浆舀入素坯空腔内，手拿素坯转动或摇荡，使翻浆均匀分布于器物的内表面，然后再把多余 的翻浆倒出。浸釉，又称蘸釉，把钧瓷素坯整个浸入翻浆中，片刻后取出，多用于产品外部的施釉，也有里外同时上釉的，如小碗的上釉，一次即可里外全部上满。釉层的厚度由钧瓷翻浆的浓度和浸入翻浆中时间的长短来决定。浇釉，又称淋釉，一手拿盛满釉的舀子，一手拿素坯，边转动素坯边把釉浇到素坯上，到把需上釉的表面浇全为止，多用于产品的外部上釉。大件产品，如一米以上的大花瓶，人无法拿得动，瓶内外均须用浇釉法。浇釉时，用一个大桶盛釉，把大瓶放在转轮上，边转动轮子，边把桶里的釉浇到瓶体上， 把瓶内外自上而下全部浇匀、浇全。刷釉，又称涂釉，浸或浇过釉的釉坯，釉层若达不到规定的厚度，经过充分干燥后，可用毛笔蘸釉在其釉面上再刷一层或两层釉，直到釉层厚度达到要求为止。点釉，又称滴釉，用毛笔蘸釉在浸或浇过釉的釉面上点滴成斑块。

钧瓷施釉的一般程序是：（1）检选。把经过素烧需上釉的素坯全部检查一遍，剔除有缺陷的素坯。(2)清灰渣。把素坯内外的灰渣用工具清除干净，以防止釉面上出现渣粒，影响釉面质量。(3)上水。用海绵蘸水抹去素坯上的浮灰，以使上釉后胎釉结合牢固。(4)量浓度。根据上釉的工艺要求，量出釉的合适浓度。浓度是指翻浆的稀稠，釉稠浓度大，釉稀浓度小。(5)上釉。根据素坯器型的不同和上釉的工艺要求，分别用前述的不同方法进行施釉。(6)清足。上完釉后进行清足，把釉坯足底部不需要的釉清除干净。(7) 上芝麻酱釉。灰白胎产品在上完釉后，还要在足底部露胎处刷上一层芝麻酱釉。

但现有的钧瓷施釉方法大部分需要人工操作完成，工作量较大，且不能保证整个施釉工序的准确度，导致钧瓷上釉不均匀，影响最终钧瓷产品的质量。另外现有技术中，有的钧瓷在施釉之前本身具有刻纹或者印花，但是在进行施釉和釉烧之后出来的效果很不理想。因此，现有的钧瓷施釉工艺还存在以下缺陷：

其一，只有单次施釉，耐磨性和耐用性不好；

其二，施釉前不能进行刻纹，或者不能根据多样的需求进行刻纹图案的选择，或者不能进行自动刻纹，刻纹的准确度和控制精度不够；

其三，大部分工作需要人工操作完成，任务巨大，智能化和自动化程度不高；

其四，施釉的处理工艺不够准确，导致釉烧出来的钧瓷效果不好，不均匀，质量差，浪费大量的成本，企业效益低。

发明内容

为解决上述现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种钧瓷施釉工艺，很好地实现了激光刻纹，刻纹的准确度和控制精度高，纹路深浅不一、凹凸有致，刻纹部分没有明显色差，过度平滑，并且能够根据多样的需求进行刻纹图案的选择，智能化和自动化程度高；另外，进行了一次施釉和激光刻纹纹路的二次施釉，使得出来的钧瓷透明、荧光相间，纹路色彩清晰，进而使得产品更加丰富，别具创意、更显优雅，并且明显提升档次，大大降低了成本、减少了工作量。

为实现上述目的，本发明所采用的技术方案是：

一种钧瓷施釉工艺，包括一次施釉的步骤；在一次施釉表面进行激光刻纹的步骤；在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的步骤；

所述一次施釉的步骤，具体操作方法如下：

（1）选出合格钧瓷素坯，将合格钧瓷素坯进行抛磨、清灰处理；

（2）将透明釉料与水按照重量比1:3~1:5混合，搅拌均匀，置于-25~-23℃的无尘环境下冷冻7-9小时，取出后加入透明釉料重量的1-3倍量的水，研磨均匀，粒径为50-60μm，得到透明釉料混合物A；将透明釉料混合物A置于-20~-18℃的无尘环境下冷冻11-13小时，取出后将透明釉料混合物A与无水酒精按照重量比为1:3混合，并研磨均匀，再加入透明釉料混合物A重量的0.1-0.2倍量的纤维素溶液，继续研磨均匀，粒径为40-50μm，得到一次喷施透明釉料；

（3）将一次喷施透明釉料均匀喷到素坯表面，喷施厚度为0.6-0.9㎜，置于温度为38-40℃、湿度为70-80%的环境中静置8-10小时，然后放入窑炉中，加热至1450～1550℃，保温10-12分钟，以2~ 3℃/分钟的速度降温至70~80℃，取出，冷却10-12小时，得到一次透明施釉坯体；

所述在一次施釉表面进行激光刻纹的步骤，具体操作方法如下：

（1）设置激光刻纹系统，所述激光刻纹系统包括激光刻纹算法、单片机控制器、光纤激光器、打印机驱动程序和报警模块；在计算机中设置激光刻纹算法，并存储到单片机控制器中，所述单片机控制器连接光纤激光器，所述单片机控制器控制所述打印机驱动程序来调节光纤激光器激光头的雕刻速度，所述光纤激光器激光头的雕刻速度为0-72m/min可调、调整幅度为0.5%-1%；需要说明的是，本发明中中光纤激光器激光头的雕刻速度不一，当光纤激光器激光头的雕刻强度一定时，其雕刻速度越慢，雕刻深度越深；其雕刻速度越快，雕刻深度越浅；因此，单片机控制器控制打印机驱动程序来调节光纤激光器激光头的雕刻速度，光纤激光器激光头的雕刻速度为0-72m/min可调、调整幅度为0.5%-1%，则激光刻纹出来的纹路深浅不一，得到纹路清晰、深浅不一的刻纹坯体；

（2）将得到的一次透明施釉坯体进行表面除油、除水处理，用白纸隔开表面；

（3）按照激光刻纹算法，光纤激光器对一次透明施釉坯体进行激光刻纹，激光刻纹深度为0.08-0.14㎜，所述单片机控制器控制所述光纤激光器的激光头三维方向，所述单片机控制器对光纤激光器激光头的雕刻强度作定性控制，所述打印机驱动程序对光纤激光器激光头的雕刻速度作大小改变，使得一次透明施釉坯体的表面发生高温物理或化学的变化，形成深浅不一的纹路，得到刻纹坯体；

所述在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的步骤，具体操作方法如下：

（1）将得到的刻纹坯体进行清灰处理；

（2）将一次喷施透明釉料冷冻干燥至含水量为5%-8%，加入一次喷施透明釉料重量的0.2-0.4倍量的动物骨灰，研磨均匀，粒径为8-15μm，继续加入一次喷施透明釉料重量的0.5-0.8倍量的萤石粉，研磨均匀，粒径为3-6μm，得到二次施釉釉料；

（3）将二次施釉釉料均匀喷到刻纹坯体的激光刻纹表面的纹路上，施釉厚度为0.05-0.10㎜，置于温度为32-39℃、湿度为81-86%的环境中静置10-12小时，得到二次施釉坯体B；

（4）将二次施釉釉料继续均匀喷到二次施釉坯体B表面的纹路上，施釉厚度为0.10-0.25㎜，置于温度为28-35℃、湿度为80-87%的环境中静置6-8小时，得到二次施釉坯体；

（5）将二次施釉坯体置于窑炉中，加热1000-1080℃，保温12-15分钟，以2~ 3℃/分钟的速度降温至70~80℃，取出，冷却12-16小时，得到钧瓷。

作为优选方案，所述的透明釉料，按原料的质量百分比包括如下组分：10～20％熔块、10～20％钾长石、15～40％ 锂辉石、5～20％烧滑石、8～15％碳酸钡、10～20％硅灰石、5～10％高岭土、0.5～5％ 白刚玉、5～10％氧化锌，0.1～0.2％氧化锆。

作为优选方案，所述熔块为高铝质耐磨熔块，所述高铝质耐磨熔块的熔制温度为1450～1550℃，所述高铝质耐磨熔块的原料按照质量百分比包括如下组分：20～30％钾长石、3～6％硅灰石、4～8％生滑石、5～8％碳酸钡、15～20％方解石、18～22％石英、10~14％氧化铝、2～4％ 氧化锌、1～3％碳酸钾、1～2％碳酸锶。

作为优选方案，所述激光刻纹算法，包括以下步骤：

（1）将钧瓷的一次透明施釉坯体的三维信息扫描并存储至所述单片机控制器中，所述单片机控制器根据三维信息计算出光纤激光器激光头的激光雕刻范围，进而所述单片机控制器控制所述光纤激光器的激光头三维方向；

（2）所述单片机控制器定义光纤激光器激光头的雕刻强度为定值，所述单片机控制器控制打印机驱动程序，使得光纤激光器激光头的雕刻速度在0.5%-1%的调整幅度内，进行0-72m/min速度可调；

（3）所述单片机控制器监控光纤激光器激光头的雕刻轨迹，并实时记录激光雕刻范围的覆盖率C；

（4）判断覆盖率C：0≦C≦1，所述单片机控制器继续发出动作指令，使得光纤激光器激光头动作；

（5）否则，C<0或者C>1，所述单片机控制器发出指令并控制报警模块发出报警提示，进而进行现场调整或者关闭电源。

作为优选方案，所述激光刻纹的最薄厚度为0.6㎜，即一次施釉的表面厚度最薄为0.6㎜。

作为优选方案，所述在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的具体操作方法中，步骤（5）的加热为：从室温以2-3℃/分钟提高至500℃，保温15-20分钟；从500℃以3-4℃/分钟提高至700℃，保温15-20分钟；再从700℃以2-3℃/分钟提高至1000-1080℃。

作为优选方案，所述的研磨温度为35~45℃。

作为优选方案，所述的冷冻温度为-45~-35℃。

作为优选方案，所述干燥的加热温度为35~40℃。

本发明的有益效果是：

（1）一次施釉，先在钧瓷素坯上进行一次透明施釉，增加了钧瓷的耐磨性和耐用性，并且能够使得经过后续步骤后得到的产品透明相间，增加了观赏性；

（2）在一次施釉表面进行激光刻纹，采用单片机控制器和激光刻纹算法，准确、高效，很好地实现了激光刻纹，刻纹的准确度和控制精度高，纹路深浅不一、凹凸有致，刻纹部分没有明显色差，过度平滑，并且能够根据多样的需求进行刻纹图案的选择，智能化和自动化程度高；

（3）在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉，使得刻纹纹路的施釉准确清晰，进而使得出来的钧瓷透明、荧光相间，纹路色彩清晰，使得产品更加丰富，别具创意、更显优雅，并且明显提升档次，大大降低了成本、减少了工作量。

具体实施方式

下面给出具体实施例，对本发明的技术方案作进一步详细说明。以下的实施例是以本发明技术方案为前提的多个实施例，但本发明的保护范围不限于下述的实施例。

实施例1

一种钧瓷施釉工艺，包括一次施釉的步骤；在一次施釉表面进行激光刻纹的步骤；在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的步骤；

一次施釉的步骤，具体操作方法如下：

（1）选出合格钧瓷素坯，将合格钧瓷素坯进行抛磨、清灰处理；

（2）将透明釉料与水按照重量比1:3混合，搅拌均匀，置于-25℃的无尘环境下冷冻7小时，取出后加入透明釉料重量的1倍量的水，研磨均匀，粒径为50μm，得到透明釉料混合物A；将透明釉料混合物A置于-20℃的无尘环境下冷冻11小时，取出后将透明釉料混合物A与无水酒精按照重量比为1:3混合，并研磨均匀，再加入透明釉料混合物A重量的0.1倍量的纤维素溶液，继续研磨均匀，粒径为40μm，得到一次喷施透明釉料；

（3）将一次喷施透明釉料均匀喷到素坯表面，喷施厚度为0.7㎜，置于温度为38℃、湿度为70%的环境中静置8小时，然后放入窑炉中，加热至1450℃，保温10分钟，以2℃/分钟的速度降温至70℃，取出，冷却10小时，得到一次透明施釉坯体；

本发明中一次施釉的步骤，先在钧瓷素坯上进行一次透明施釉，增加了钧瓷的耐磨性和耐用性，并且能够使得经过后续步骤后得到的产品透明相间，增加了观赏性；

在一次施釉表面进行激光刻纹的步骤，具体操作方法如下：

（1）设置激光刻纹系统，激光刻纹系统包括激光刻纹算法、单片机控制器、光纤激光器、打印机驱动程序和报警模块；在计算机中设置激光刻纹算法，并存储到单片机控制器中，单片机控制器连接光纤激光器，单片机控制器控制打印机驱动程序来调节光纤激光器激光头的雕刻速度，光纤激光器激光头的雕刻速度为0-72m/min可调、调整幅度为0.5%-1%，需要说明的是，本发明中中光纤激光器激光头的雕刻速度不一，当光纤激光器激光头的雕刻强度一定时，其雕刻速度越慢，雕刻深度越深；其雕刻速度越快，雕刻深度越浅；因此，单片机控制器控制打印机驱动程序来调节光纤激光器激光头的雕刻速度，光纤激光器激光头的雕刻速度为0-72m/min可调、调整幅度为0.5%-1%，则激光刻纹出来的纹路深浅不一，得到纹路清晰、深浅不一的刻纹坯体；

（2）将得到的一次透明施釉坯体进行表面除油、除水处理，用白纸隔开表面；

（3）按照激光刻纹算法，光纤激光器对一次透明施釉坯体进行激光刻纹，激光刻纹深度为0.08-0.14㎜，所述单片机控制器控制所述光纤激光器的激光头三维方向，所述单片机控制器对光纤激光器激光头的雕刻强度作定性控制，所述打印机驱动程序对光纤激光器激光头的雕刻速度作大小改变，使得一次透明施釉坯体的表面发生高温物理或化学的变化，形成深浅不一的纹路，得到刻纹坯体；

本发明中在一次施釉表面进行激光刻纹的步骤，很好地实现了激光刻纹，刻纹的准确度和控制精度高，刻纹部分没有明显色差，过度平滑，并且能够根据多样的需求进行刻纹图案的选择，智能化和自动化程度高；

所述在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的步骤，具体操作方法如下：

（1）将得到的刻纹坯体进行清灰处理；

（2）将一次喷施透明釉料冷冻干燥至含水量为5%，加入一次喷施透明釉料重量的0.2倍量的动物骨灰，研磨均匀，粒径为10μm，继续加入一次喷施透明釉料重量的0.5倍量的萤石粉，研磨均匀，粒径为3μm，得到二次施釉釉料；

（3）将二次施釉釉料均匀喷到刻纹坯体的激光刻纹表面的纹路上，施釉厚度为0.05㎜，置于温度为32℃、湿度为81%的环境中静置10小时，得到二次施釉坯体B；

（4）将二次施釉釉料继续均匀喷到二次施釉坯体B表面的纹路上，施釉厚度为0.10㎜，置于温度为28℃、湿度为80%的环境中静置6小时，得到二次施釉坯体；

（5）将二次施釉坯体置于窑炉中，加热1000℃，保温12分钟，以2℃/分钟的速度降温至70℃，取出，冷却12小时，得到钧瓷。

本发明中，在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的步骤，使得刻纹纹路的施釉准确清晰，进而使得出来的钧瓷透明、荧光相间，纹路色彩清晰，使得产品更加丰富，别具创意、更显优雅，并且明显提升档次，大大降低了成本、减少了工作量。

作为优选方案，本发明中的透明釉料，按原料的质量百分比包括如下组分：10％熔块、20％钾长石、20％ 锂辉石、15％烧滑石、10％碳酸钡、14.3％硅灰石、5％高岭土、0.5％白刚玉、5％氧化锌，0.2％氧化锆。

作为优选方案，熔块为高铝质耐磨熔块，高铝质耐磨熔块的熔制温度为1450～1550℃，高铝质耐磨熔块的原料按照质量百分比包括如下组分：22％钾长石、6％硅灰石、8％生滑石、8％碳酸钡、20％方解石、18％石英、10％氧化铝、4％ 氧化锌、3％碳酸钾、1％碳酸锶。

作为优选方案，激光刻纹算法，包括以下步骤：

（1）将钧瓷的一次透明施釉坯体的三维信息扫描并存储至所述单片机控制器中，单片机控制器根据三维信息计算出光纤激光器激光头的激光雕刻范围，进而单片机控制器控制光纤激光器的激光头三维方向；

（2）单片机控制器定义光纤激光器激光头的雕刻强度为定值，单片机控制器控制打印机驱动程序，使得光纤激光器激光头的雕刻速度在0.5%-1%的调整幅度内，进行0-72m/min速度可调；

（3）单片机控制器监控光纤激光器激光头的雕刻轨迹，并实时记录激光雕刻范围的覆盖率C；

（4）判断覆盖率C：0≦C≦1，单片机控制器继续发出动作指令，使得光纤激光器激光头动作；

（5）否则，C<0或者C>1，单片机控制器发出指令并控制报警模块发出报警提示，进而进行现场调整或者关闭电源。

作为优选方案，所述激光刻纹的最薄厚度为0.6㎜，即一次施釉的表面厚度最薄为0.6㎜。

作为优选方案，在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的具体操作方法中，步骤（5）的加热为：从室温以2℃/分钟提高至500℃，保温15分钟；从500℃以3℃/分钟提高至700℃，保温15分钟；再从700℃以2℃/分钟提高至1000℃。

作为优选方案，研磨温度为35℃。

作为优选方案，冷冻温度为-45℃。

作为优选方案，干燥的加热温度为35℃。

实施例2

一种钧瓷施釉工艺，包括一次施釉的步骤；在一次施釉表面进行激光刻纹的步骤；在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的步骤；

一次施釉的步骤，具体操作方法如下：

（1）选出合格钧瓷素坯，将合格钧瓷素坯进行抛磨、清灰处理；

（2）将透明釉料与水按照重量比1:4混合，搅拌均匀，置于-24℃的无尘环境下冷冻8小时，取出后加入透明釉料重量的2倍量的水，研磨均匀，粒径为55μm，得到透明釉料混合物A；将透明釉料混合物A置于-18℃的无尘环境下冷冻12小时，取出后将透明釉料混合物A与无水酒精按照重量比为1:3混合，并研磨均匀，再加入透明釉料混合物A重量的0.15倍量的纤维素溶液，继续研磨均匀，粒径为45μm，得到一次喷施透明釉料；

（3）将一次喷施透明釉料均匀喷到素坯表面，喷施厚度为0.8㎜，置于温度为39℃、湿度为70%的环境中静置9小时，然后放入窑炉中，加热至1500℃，保温11分钟，以2.5℃/分钟的速度降温至75℃，取出，冷却11小时，得到一次透明施釉坯体；

本发明中一次施釉的步骤，先在钧瓷素坯上进行一次透明施釉，增加了钧瓷的耐磨性和耐用性，并且能够使得经过后续步骤后得到的产品透明相间，增加了观赏性；

在一次施釉表面进行激光刻纹的步骤，具体操作方法如下：

（1）设置激光刻纹系统，激光刻纹系统包括激光刻纹算法、单片机控制器、光纤激光器、打印机驱动程序和报警模块；在计算机中设置激光刻纹算法，并存储到单片机控制器中，单片机控制器连接光纤激光器，单片机控制器控制打印机驱动程序来调节光纤激光器激光头的雕刻速度，光纤激光器激光头的雕刻速度为0-72m/min可调、调整幅度为0.5%-1%，需要说明的是，本发明中中光纤激光器激光头的雕刻速度不一，当光纤激光器激光头的雕刻强度一定时，其雕刻速度越慢，雕刻深度越深；其雕刻速度越快，雕刻深度越浅；因此，单片机控制器控制打印机驱动程序来调节光纤激光器激光头的雕刻速度，光纤激光器激光头的雕刻速度为0-72m/min可调、调整幅度为0.5%-1%，则激光刻纹出来的纹路深浅不一，得到纹路清晰、深浅不一的刻纹坯体；

（2）将得到的一次透明施釉坯体进行表面除油、除水处理，用白纸隔开表面；

（3）按照激光刻纹算法，光纤激光器对一次透明施釉坯体进行激光刻纹，激光刻纹深度为0.08-0.14㎜，所述单片机控制器控制所述光纤激光器的激光头三维方向，所述单片机控制器对光纤激光器激光头的雕刻强度作定性控制，所述打印机驱动程序对光纤激光器激光头的雕刻速度作大小改变，使得一次透明施釉坯体的表面发生高温物理或化学的变化，形成深浅不一的纹路，得到刻纹坯体；

本发明中在一次施釉表面进行激光刻纹的步骤，很好地实现了激光刻纹，刻纹的准确度和控制精度高，刻纹部分没有明显色差，过度平滑，并且能够根据多样的需求进行刻纹图案的选择，智能化和自动化程度高；

所述在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的步骤，具体操作方法如下：

（1）将得到的刻纹坯体进行清灰处理；

（2）将一次喷施透明釉料冷冻干燥至含水量为6%，加入一次喷施透明釉料重量的0.3倍量的动物骨灰，研磨均匀，粒径为12μm，继续加入一次喷施透明釉料重量的0.6倍量的萤石粉，研磨均匀，粒径为4μm，得到二次施釉釉料；

（3）将二次施釉釉料均匀喷到刻纹坯体的激光刻纹表面的纹路上，施釉厚度为0.08㎜，置于温度为32℃、湿度为81%的环境中静置10小时，得到二次施釉坯体B；

（4）将二次施釉釉料继续均匀喷到二次施釉坯体B表面的纹路上，施釉厚度为0.18㎜，置于温度为28℃、湿度为85%的环境中静置7小时，得到二次施釉坯体；

（5）将二次施釉坯体置于窑炉中，加热1050℃，保温13分钟，以2.5℃/分钟的速度降温至75℃，取出，冷却14小时，得到钧瓷。

本发明中，在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的步骤，使得刻纹纹路的施釉准确清晰，进而使得出来的钧瓷透明、荧光相间，纹路色彩清晰，使得产品更加丰富，别具创意、更显优雅，并且明显提升档次，大大降低了成本、减少了工作量。

作为优选方案，本发明中的透明釉料，按原料的质量百分比包括如下组分：15％熔块、20％钾长石、15％ 锂辉石、12％烧滑石、8％碳酸钡、10％硅灰石、6.9％高岭土、3％ 白刚玉、10％氧化锌，0.1％氧化锆。

作为优选方案，熔块为高铝质耐磨熔块，高铝质耐磨熔块的熔制温度为1450～1550℃，高铝质耐磨熔块的原料按照质量百分比包括如下组分：30％钾长石、3％硅灰石、5％生滑石、5％碳酸钡、15％方解石、22％石英、14％氧化铝、3％ 氧化锌、1.5％碳酸钾、1.5％碳酸锶。

作为优选方案，激光刻纹算法，包括以下步骤：

（1）将钧瓷的一次透明施釉坯体的三维信息扫描并存储至所述单片机控制器中，单片机控制器根据三维信息计算出光纤激光器激光头的激光雕刻范围，进而单片机控制器控制光纤激光器的激光头三维方向；

（2）单片机控制器定义光纤激光器激光头的雕刻强度为定值，单片机控制器控制打印机驱动程序，使得光纤激光器激光头的雕刻速度在0.5%-1%的调整幅度内，进行0-72m/min速度可调；

（3）单片机控制器监控光纤激光器激光头的雕刻轨迹，并实时记录激光雕刻范围的覆盖率C；

（4）判断覆盖率C：0≦C≦1，单片机控制器继续发出动作指令，使得光纤激光器激光头动作；

（5）否则，C<0或者C>1，单片机控制器发出指令并控制报警模块发出报警提示，进而进行现场调整或者关闭电源。

作为优选方案，所述激光刻纹的最薄厚度为0.6㎜，即一次施釉的表面厚度最薄为0.6㎜。

作为优选方案，在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的具体操作方法中，步骤（5）的加热为：从室温以2.5℃/分钟提高至500℃，保温18分钟；从500℃以3.5℃/分钟提高至700℃，保温18分钟；再从700℃以2.5℃/分钟提高至1050℃。

作为优选方案，研磨温度为40℃。

作为优选方案，冷冻温度为-40℃。

作为优选方案，干燥的加热温度为38℃。

实施例3

一种钧瓷施釉工艺，包括一次施釉的步骤；在一次施釉表面进行激光刻纹的步骤；在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的步骤；

一次施釉的步骤，具体操作方法如下：

（1）选出合格钧瓷素坯，将合格钧瓷素坯进行抛磨、清灰处理；

（2）将透明釉料与水按照重量比1:5混合，搅拌均匀，置于-23℃的无尘环境下冷冻9小时，取出后加入透明釉料重量的3倍量的水，研磨均匀，粒径为60μm，得到透明釉料混合物A；将透明釉料混合物A置于-19℃的无尘环境下冷冻13小时，取出后将透明釉料混合物A与无水酒精按照重量比为1:3混合，并研磨均匀，再加入透明釉料混合物A重量的0.2倍量的纤维素溶液，继续研磨均匀，粒径为50μm，得到一次喷施透明釉料；

（3）将一次喷施透明釉料均匀喷到素坯表面，喷施厚度为0.9㎜，置于温度为40℃、湿度为80%的环境中静置10小时，然后放入窑炉中，加热至1550℃，保温12分钟，以3℃/分钟的速度降温至75℃，取出，冷却12小时，得到一次透明施釉坯体；

本发明中一次施釉的步骤，先在钧瓷素坯上进行一次透明施釉，增加了钧瓷的耐磨性和耐用性，并且能够使得经过后续步骤后得到的产品透明相间，增加了观赏性；

在一次施釉表面进行激光刻纹的步骤，具体操作方法如下：

（1）设置激光刻纹系统，激光刻纹系统包括激光刻纹算法、单片机控制器、光纤激光器、打印机驱动程序和报警模块；在计算机中设置激光刻纹算法，并存储到单片机控制器中，单片机控制器连接光纤激光器，单片机控制器控制打印机驱动程序来调节光纤激光器激光头的雕刻速度，光纤激光器激光头的雕刻速度为0-72m/min可调、调整幅度为0.5%-1%，需要说明的是，本发明中中光纤激光器激光头的雕刻速度不一，当光纤激光器激光头的雕刻强度一定时，其雕刻速度越慢，雕刻深度越深；其雕刻速度越快，雕刻深度越浅；因此，单片机控制器控制打印机驱动程序来调节光纤激光器激光头的雕刻速度，光纤激光器激光头的雕刻速度为0-72m/min可调、调整幅度为0.5%-1%，则激光刻纹出来的纹路深浅不一，得到纹路清晰、深浅不一的刻纹坯体；

（2）将得到的一次透明施釉坯体进行表面除油、除水处理，用白纸隔开表面；

（3）按照激光刻纹算法，光纤激光器对一次透明施釉坯体进行激光刻纹，激光刻纹深度为0.08-0.14㎜，所述单片机控制器控制所述光纤激光器的激光头三维方向，所述单片机控制器对光纤激光器激光头的雕刻强度作定性控制，所述打印机驱动程序对光纤激光器激光头的雕刻速度作大小改变，使得一次透明施釉坯体的表面发生高温物理或化学的变化，形成深浅不一的纹路，得到刻纹坯体；

本发明中在一次施釉表面进行激光刻纹的步骤，很好地实现了激光刻纹，刻纹的准确度和控制精度高，刻纹部分没有明显色差，过度平滑，并且能够根据多样的需求进行刻纹图案的选择，智能化和自动化程度高；

所述在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的步骤，具体操作方法如下：

（1）将得到的刻纹坯体进行清灰处理；

（2）将一次喷施透明釉料冷冻干燥至含水量为7%，加入一次喷施透明釉料重量的0.4倍量的动物骨灰，研磨均匀，粒径为15μm，继续加入一次喷施透明釉料重量的0.8倍量的萤石粉，研磨均匀，粒径为6μm，得到二次施釉釉料；

（3）将二次施釉釉料均匀喷到刻纹坯体的激光刻纹表面的纹路上，施釉厚度为0.10㎜，置于温度为39℃、湿度为85%的环境中静置12小时，得到二次施釉坯体B；

（4）将二次施釉釉料继续均匀喷到二次施釉坯体B表面的纹路上，施釉厚度为0.2㎜，置于温度为35℃、湿度为87%的环境中静置8小时，得到二次施釉坯体；

（5）将二次施釉坯体置于窑炉中，加热1080℃，保温15分钟，以3℃/分钟的速度降温至80℃，取出，冷却16小时，得到钧瓷。

本发明中，在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的步骤，使得刻纹纹路的施釉准确清晰，进而使得出来的钧瓷透明、荧光相间，纹路色彩清晰，使得产品更加丰富，别具创意、更显优雅，并且明显提升档次，大大降低了成本、减少了工作量。

作为优选方案，本发明中的透明釉料，按原料的质量百分比包括如下组分：10％熔块、10％钾长石、25％ 锂辉石、5％烧滑石、15％碳酸钡、12％硅灰石、10％高岭土、5％ 白刚玉、7.9％氧化锌，0.1％氧化锆。

作为优选方案，熔块为高铝质耐磨熔块，高铝质耐磨熔块的熔制温度为1450～1550℃，高铝质耐磨熔块的原料按照质量百分比包括如下组分：29％钾长石、3％硅灰石、4％生滑石、5％碳酸钡、20％方解石、20％石英、12％氧化铝、4％ 氧化锌、1％碳酸钾、2％碳酸锶。

作为优选方案，激光刻纹算法，包括以下步骤：

（1）将钧瓷的一次透明施釉坯体的三维信息扫描并存储至所述单片机控制器中，单片机控制器根据三维信息计算出光纤激光器激光头的激光雕刻范围，进而单片机控制器控制光纤激光器的激光头三维方向；

（2）单片机控制器定义光纤激光器激光头的雕刻强度为定值，单片机控制器控制打印机驱动程序，使得光纤激光器激光头的雕刻速度在0.5%-1%的调整幅度内，进行0-72m/min速度可调；

（3）单片机控制器监控光纤激光器激光头的雕刻轨迹，并实时记录激光雕刻范围的覆盖率C；

（4）判断覆盖率C：0≦C≦1，单片机控制器继续发出动作指令，使得光纤激光器激光头动作；

（5）否则，C<0或者C>1，单片机控制器发出指令并控制报警模块发出报警提示，进而进行现场调整或者关闭电源。

作为优选方案，所述激光刻纹的最薄厚度为0.6㎜，即一次施釉的表面厚度最薄为0.6㎜。

作为优选方案，在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的具体操作方法中，步骤（5）的加热为：从室温以3℃/分钟提高至500℃，保温20分钟；从500℃以4℃/分钟提高至700℃，保温20分钟；再从700℃以3℃/分钟提高至1080℃。

作为优选方案，研磨温度为45℃。

作为优选方案，冷冻温度为-35℃。

作为优选方案，干燥的加热温度为40℃。

以上显示和描述了本发明的主要特征、基本原理以及本发明的优点。本行业技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会根据实际情况有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (4)

1.一种钧瓷施釉工艺，其特征在于：包括一次施釉的步骤；在一次施釉表面进行激光刻纹的步骤；在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的步骤；

所述一次施釉的步骤，具体操作方法如下：

（1）选出合格钧瓷素坯，将合格钧瓷素坯进行抛磨、清灰处理；

（2）将透明釉料与水按照重量比1:3~1:5混合，搅拌均匀，置于-25~-23℃的无尘环境下冷冻7-9小时，取出后加入透明釉料重量的1-3倍量的水，研磨均匀，粒径为50-60μm，得到透明釉料混合物A；将透明釉料混合物A置于-20~-18℃的无尘环境下冷冻11-13小时，取出后将透明釉料混合物A与无水酒精按照重量比为1:3混合，并研磨均匀，再加入透明釉料混合物A重量的0.1-0.2倍量的纤维素溶液，继续研磨均匀，粒径为40-50μm，得到一次喷施透明釉料；

（3）将一次喷施透明釉料均匀喷到素坯表面，喷施厚度为0.6-0.9㎜，置于温度为38-40℃、湿度为70-80%的环境中静置8-10小时，然后放入窑炉中，加热至1450～1550℃，保温10-12分钟，以2~ 3℃/分钟的速度降温至70~80℃，取出，冷却10-12小时，得到一次透明施釉坯体；

所述在一次施釉表面进行激光刻纹的步骤，具体操作方法如下：

（1）设置激光刻纹系统，所述激光刻纹系统包括激光刻纹算法、单片机控制器、光纤激光器、打印机驱动程序和报警模块；在计算机中设置激光刻纹算法，并存储到单片机控制器中，所述单片机控制器连接光纤激光器，所述单片机控制器控制所述打印机驱动程序来调节光纤激光器激光头的雕刻速度，所述光纤激光器激光头的雕刻速度为0-72m/min可调、调整幅度为0.5%-1%；

（2）将得到的一次透明施釉坯体进行表面除油、除水处理，用白纸隔开表面；

（3）按照激光刻纹算法，光纤激光器对一次透明施釉坯体进行激光刻纹，激光刻纹深度为0.08-0.14㎜，所述单片机控制器控制所述光纤激光器的激光头三维方向，所述单片机控制器对光纤激光器激光头的雕刻强度作定性控制，所述打印机驱动程序对光纤激光器激光头的雕刻速度作大小改变，使得一次透明施釉坯体的表面发生高温物理或化学的变化，形成深浅不一的纹路，得到刻纹坯体；

其中，所述激光刻纹算法，包括以下步骤：

（1）将钧瓷的一次透明施釉坯体的三维信息扫描并存储至所述单片机控制器中，所述单片机控制器根据三维信息计算出光纤激光器激光头的激光雕刻范围，进而所述单片机控制器控制所述光纤激光器的激光头三维方向；

（2）所述单片机控制器定义光纤激光器激光头的雕刻强度为定值，所述单片机控制器控制打印机驱动程序，使得光纤激光器激光头的雕刻速度在0.5%-1%的调整幅度内，进行0-72m/min速度可调；

（3）所述单片机控制器监控光纤激光器激光头的雕刻轨迹，并实时记录激光雕刻范围的覆盖率C；

（4）判断覆盖率C：0≦C≦1，所述单片机控制器继续发出动作指令，使得光纤激光器激光头动作；

（5）否则，C<0或者C>1，所述单片机控制器发出指令并控制报警模块发出报警提示，进而进行现场调整或者关闭电源；

所述在激光刻纹表面的纹路上进行二次施釉的步骤，具体操作方法如下：

（1）将得到的刻纹坯体进行清灰处理；

（2）将一次喷施透明釉料冷冻干燥至含水量为5%-8%，加入一次喷施透明釉料重量的0.2-0.4倍量的动物骨灰，研磨均匀，粒径为8-15μm，继续加入一次喷施透明釉料重量的0.5-0.8倍量的萤石粉，研磨均匀，粒径为3-6μm，得到二次施釉釉料；

（3）将二次施釉釉料均匀喷到刻纹坯体的激光刻纹表面的纹路上，施釉厚度为0.05-0.10㎜，置于温度为32-39℃、湿度为81-86%的环境中静置10-12小时，得到二次施釉坯体B；

（4）将二次施釉釉料继续均匀喷到二次施釉坯体B表面的纹路上，施釉厚度为0.10-0.25㎜，置于温度为28-35℃、湿度为80-87%的环境中静置6-8小时，得到二次施釉坯体；

（5）将二次施釉坯体置于窑炉中，加热1000-1080℃，保温12-15分钟，以2~ 3℃/分钟的速度降温至70~80℃，取出，冷却12-16小时，得到钧瓷；

其中，加热1000-1080℃具体包括：从室温以2-3℃/分钟提高至500℃，保温15-20分钟；从500℃以3-4℃/分钟提高至700℃，保温15-20分钟；再从700℃以2-3℃/分钟提高至1000-1080℃。

2.根据权利要求1所述的一种钧瓷施釉工艺，其特征在于：所述的透明釉料，按原料的质量百分比包括如下组分：10～20％熔块、10～20％钾长石、15～40％ 锂辉石、5～20％烧滑石、8～15％碳酸钡、10～20％硅灰石、5～10％高岭土、0.5～5％ 白刚玉、5～10％氧化锌，0.1～0.2％氧化锆。

3.根据权利要求2所述的一种钧瓷施釉工艺，其特征在于：所述熔块为高铝质耐磨熔块，所述高铝质耐磨熔块的熔制温度为1450～1550℃，所述高铝质耐磨熔块的原料按照质量百分比包括如下组分：20～30％钾长石、3～6％硅灰石、4～8％生滑石、5～8％碳酸钡、15～20％方解石、18～22％石英、10~14％氧化铝、2～4％ 氧化锌、1～3％碳酸钾、1～2％碳酸锶。

4.根据权利要求1所述的一种钧瓷施釉工艺，其特征在于：所述的研磨温度为35~45℃。