CN107621459A - 气体分析装置 - Google Patents

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CN107621459A
CN107621459A CN201710397564.7A CN201710397564A CN107621459A CN 107621459 A CN107621459 A CN 107621459A CN 201710397564 A CN201710397564 A CN 201710397564A CN 107621459 A CN107621459 A CN 107621459A
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gas
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analyzing apparatus
cap
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CN201710397564.7A
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Inventor
赤尾幸造
谷口裕
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Fuji Electric Co Ltd
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Abstract

本发明减轻分析对象气体中的薄雾或灰尘的影响。本发明提供的气体分析装置具备:对烟道内流通的分析对象气体照射激光的照射部;与照射部相对配置为将烟道夹持,接受通过分析对象气体后的激光的受光部;以及一体型的筒,该筒配置在照射部和受光部之间,以供激光通过内部,在烟道内,形成有面向分析对象气体的上游侧的第一孔和面向分析对象气体的下游侧的第二孔。

Description

气体分析装置
技术领域
本发明涉及气体分析装置。
以往,已知有激光式的气体分析装置。气体分析装置具备向分析对象气体照射激光的照射部、和接受通过分析对象气体后的激光的受光部。气体分析装置根据受光部的受光量分析吸收频谱。气体分析装置根据吸收频谱,对分析对象气体中的对象物质的浓度进行分析(例如,参照专利文献1)。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2009-270917号公报
发明内容
本发明所要解决的技术问题
激光式气体分析装置中,在分析对象气体中包含薄雾或灰尘的情况下,激光因薄雾或灰尘而散射或被吸收。根据薄雾或灰尘的量,受光部中的激光的受光量可能减少,从而难以测定对象物质的浓度。
解决技术问题所采用的技术方案
本发明的一个实施方式中,气体分析装置可以具备照射部、受光部以及筒。照射部可以对烟道内流通的分析对象气体照射激光。受光部可以与照射部相对配置为将烟道夹持。受光部可以接受通过分析对象气体后的激光。筒可以是在照射部和受光部之间配置的一体型的筒,使激光通过内部。烟道内,可以在筒形成第一孔和第二孔。第一孔可以面向分析对象气体的上游侧。第二孔可以面向分析对象气体的下游侧。
气体分析装置可以具备照射部侧导入部和受光部侧导入部。照射部侧导入部可以从筒的照射部侧的端部向筒内导入吹扫气体(purge gas)。受光部侧导入部可以从筒的受光部侧的端部向筒内导入吹扫气体。
第二孔可以在分析对象气体的下游侧配置为与第一孔相对。第二孔的开口面积可以比第一孔的开口面积要大。
第一孔及第二孔可以具有长轴。长轴可以沿着筒的长度方向延伸。
气体分析装置可以还具备盖部。盖部可以与筒隔开距离而形成。盖部可以部分地覆盖第一孔。
盖部可以覆盖第一孔的长轴方向上的中央部。盖部可以不覆盖第一孔的长轴方向上的端部。第一孔可以具有沿着筒的长度方向延伸的长轴。
孔部可以在盖部形成。孔部可以使分析对象气体通过。
盖部可以将整个第一孔覆盖。孔部可以形成于盖部。
可以在盖部形成多个孔部。
盖部可以分割为多个。
盖部的下端可以比第一孔延伸得更靠下侧。
另外,上述的发明概要未列举出本发明的所有必要特征。另外,这些特征群的亚组合也可构成发明。
附图说明
图1是表示本发明的第一实施例中的气体分析装置100的概要的立体图。
图2是本发明的第一实施例中的气体分析装置100的截面图。
图3是筒30的侧视图。
图4是筒30的俯视图。
图5是本发明的第二实施例中的气体分析装置100的侧视图。
图6是沿着本发明的第二实施例中的气体分析装置100的A‐A′线的截面图。
图7是表示第二实施例中的气体分析装置100的变形例的侧视图。
图8是表示第二实施例中的气体分析装置100的其他变形例的侧视图。
图9是表示第二实施例中的气体分析装置100的其他变形例的侧视图。
具体实施方式
以下,通过发明的实施例来说明本发明,但是以下的实施例不对涉及权利要求的范围的发明进行限定。另外,实施例中说明的所有特征的组合不是发明的解决手段所必须的。
本说明书中,用X轴、Y轴及Z轴的直角座标轴说明技术事项。直角座标轴只是确定构成要素的相对位置,并不限定特定的方向。例如,Z轴不限于是相对于地面的高度方向。另外,+Z轴方向和-Z轴方向是相互逆向的方向。在不标注正负,而记载为Z轴方向的情况下,是指与+Z轴及-Z轴平行的方向。
图1是表示本发明的第一实施例中的气体分析装置100的概要的立体图。气体分析装置100分析烟道60内流通的分析对象气体1。本例中,分析对象气体1沿着Z轴方向流通。烟道60可以是从锅炉或燃烧炉排放出的气体的流路。锅炉或燃烧炉可以燃烧石炭、重油或垃圾。但烟道60不限于气体流路。本说明书中的烟道60只要是包含分析对象气体1流通的内部空间的设备即可,可以是容器、烟囱、排气管道、脱硝装置、化工厂设备、钢铁厂设备及加热炉等各种设备。
气体分析装置100可以是无需将测定用气体向烟道60外部抽出的直接插入式的激光式气体分析计。气体分析装置100具备照射部10及受光部20。照射部10及受光部20配置在烟道60的外部。照射部10和受光部20夹持着烟道60而相对配置。本例中,照射部10和受光部20沿X轴方向配置。照射部10对烟道60内流通的分析对象气体1照射激光2。受光部20接受通过分析对象气体1后的激光2。
本例的气体分析装置100具备在照射部10和受光部20之间配置的一体型的筒30。一体型的筒30是指将照射部10和受光部20连结的管状体。一体型的筒30只要未在照射部10和受光部20之间断开即可,可以由多个筒结合构成。筒30配置为使激光2通过内部。本例的筒30的长度方向配置为与X轴方向平行。为了使激光2不会因筒30的内壁而干涉,激光2优选在筒30的中心轴附近通过。
在筒30的管壁,形成有第一孔32及第二孔34。第一孔32面对分析对象气体1的上游侧。另一方面,第二孔34面对分析对象气体1的下游侧。第二孔34设于与第一孔32相对的位置。分析对象气体1从第一孔32流入,从第二孔34流出。从而,被第一孔32和第二孔34夹持的空间区域被暴露在分析对象气体气氛中。被第一孔32和第二孔34夹持的空间区域中,激光2通过分析对象气体1。另外,为了使分析对象气体1不流入照射部10侧及受光部20侧,可以从筒30的X轴方向上的两端朝向中央,向筒30内导入吹扫气体6及吹扫气体8。
气体分析装置100根据受光部20的受光量来分析吸收频谱。气体分析装置100从吸收频谱分析在分析对象气体1中包含的对象物质的浓度。对象物质可以是HCl、NH3、O2、CO、CO2、HF、CH4、NOX及H2O等气体成分。本说明书中分析对象气体1没有特别限定。分析对象气体1可以是干馏气体、发生气体、排放气体、钢铁厂气体、处理气体及炉内气体等各种气体。
气体分析装置100可以根据激光2在特定波长中的衰减量来分析对象物质的浓度。具体地说,根据朗伯‐比尔(Lambert‐Beer)的定律,激光2的衰减量依赖于对象物质的浓度和该对象物质所存在的区域的测定光路长。朗伯‐比尔的式子如[式1]所示。本例中,测定光路长Ls由第一孔32在X轴方向上的长度规定。气体分析装置100进行的处理本身与现有的激光式气体分析装置相同,因此省略详细说明。
[式1]
I(L)=I(O)·exp[-ks·ns·Ls]
这里,I(L)是受光量。
I(O)是照射光量(发光量)。
ks是气体系数。
ns是对象物质的浓度(vol/%)。
Ls是测定光路长。
图2是本发明的第一实施例中的气体分析装置100的截面图。图2示出了安装于烟道60的状态下的气体分析装置100。本例中,烟道60形成为沿着Z轴方向延伸的圆筒管状。烟道60的形状不限于圆筒形状。安装有气体分析装置100的烟道60可以具有0.5m以上的烟道宽度。一例中,烟道宽度为2m以上20m以下。烟道宽度可以是与分析对象气体1的流通方向垂直的方向的烟道的侧壁间的间隔。
烟道60中,在相互相对的侧壁62a及侧壁62b的各部分形成孔。侧壁62a及侧壁62b分别是照射部10侧及受光部20侧的侧壁。可以将筒30插入形成于侧壁62a及侧壁62b的孔,从而将筒30固定于烟道60。从防腐蚀性的观点考虑,筒30可以由不锈钢形成。但筒30的材质没有限定。筒30的内径可以大到使筒30中通过的激光2不会与筒30的内侧面干涉的程度,小到不会使筒30内流通的吹扫气体6、8的流速过低的程度。一例中,筒30的内径为1cm以上5cm以下。
筒30从烟道60的侧壁62a及侧壁62b向烟道60的外部突出。筒30在照射部10侧的突出部分可以具有法兰36a。在法兰36a和照射部10之间,可以设置照射部侧连结管30a。在本例的照射部侧连结管30a设置有法兰37a。本例中,通过连结法兰36a和法兰37a,使筒30和照射部侧连结管30a连通。
筒30在受光部20侧的部分也可以具有与照射部10侧的部分同样的结构。具体而言,筒30可以在受光部20侧的突出部分具有法兰36b。法兰36b和受光部20之间可以设置受光部侧连结管30b。本例中,通过连结法兰36b和法兰37b,使筒30和受光部侧连结管30b连通。另外,照射部侧连结管30a、法兰37a、法兰36a、筒30、法兰36b、法兰37b及受光部侧连结管30b按照该排列顺序构成将照射部10和受光部20相连结的管状体,因此,可以说这些构件整体构成一体型的筒。
如上所述,通过采用法兰36(36a,36b)及法兰37(37a,37b),能够分别进行如下施工:将筒30安装至烟道60、以及经由法兰37安装照射部10及受光部20。因此,本例的气体分析装置100容易安装到烟道60。但气体分析装置100不限于该情况,筒30也可以直接与照射部10及受光部20连接。
照射部10包含激光元件12、准直透镜14、框体16及照射部侧透光窗18。激光元件12可以是分布反馈型(DFB)激光,也可以是垂直腔面发射激光器(Vertical Cavity SurfaceEmitting LASER)。激光元件12可以是能够改变所输出的激光2的波长的波长可变激光元件。准直透镜14使从激光元件12射出的激光2成为平行光线。
框体16在内部收纳激光元件12及准直透镜14。在框体16的一部分,设置照射部侧透光窗18。通过准直透镜14后的激光2通过照射部侧透光窗18进入框体16的外部。照射部侧透光窗18可以设置成相对于激光2的光轴从光轴的垂直面倾斜。照射部侧连结管30a以包围照射部侧透光窗18的方式固定于框体16。照射部侧连结管30a的端部可以由照射部侧透光窗18及框体16密封。
受光部20包含会聚透镜22、受光元件24、信号处理部25、框体26及受光部侧透光窗28。会聚透镜22使通过分析对象气体1的激光2会聚到受光元件24。受光元件24是根据受光量输出电信号的元件。例如,受光元件24具有光电二极管或光电晶体管。受光元件24可以输出与受光量相应的电流。信号处理部25可以接受来自受光元件24的电流,将接受到的电流变换为电压。信号处理部25可以对变换后的电压进行检波及滤波处理,生成除去了噪音的信号。信号处理部25可以采用除去了噪音的信号,算出对象物质的浓度。
框体26在内部收纳会聚透镜22、受光元件24及信号处理部25。在框体26的一部分设置受光部侧透光窗28。通过受光部侧透光窗28后的激光2入射到框体26内。受光部侧透光窗28可以设置成相对于激光2的光轴从光轴的垂直面倾斜。受光部侧连结管30b以包围受光部侧透光窗28的方式固定于框体26。受光部侧连结管30b的端部可以由受光部侧透光窗28及框体26密封。
气体分析装置100具有用于导入吹扫气体6、8的照射部侧导入部42及受光部侧导入部44。照射部侧导入部42从筒30的照射部10侧的端部向筒30内导入吹扫气体6。另一方面,受光部侧导入部44从筒30的受光部20侧的端部向筒30内导入吹扫气体8。吹扫气体6、8可以是空气或氮气。
本说明书中,筒30的照射部10侧的端部是指以第一孔32为基准位于照射部10侧的筒30的区域,特别地说,是指侧壁62a和照射部10间的筒30(或者,照射部侧连结管30a)的区域。本说明书中,筒30的受光部20侧的端部是指以第一孔32为基准位于受光部20侧的筒30的区域,特别地说,是指侧壁62b和受光部20间的筒30(或者受光部侧连结管30b)的区域。
照射部侧导入部42及受光部侧导入部44可以分别是吹扫气体流入口。本例中,照射部侧导入部42及受光部侧导入部44设于烟道60的外部。本例的照射部侧导入部42设于照射部侧连结管30a,本例的受光部侧导入部44设于受光部侧连结管30b。从照射部侧导入部42导入的吹扫气体6充满筒30内的同时,向烟道60的中央流通。同样,从受光部侧导入部44导入的吹扫气体8也向烟道60的中央流通。吹扫气体6及吹扫气体8被从第二孔34向筒30的外部排放。
图3是筒30的侧视图。第二孔34在分析对象气体1的下游侧配置为与第一孔32相对。第二孔34可以被配置成从Z轴方向观察到的筒30的外形将第一孔32的外形包含。第二孔34的开口面积比第一孔32大。通过形成这样的第一孔32及第二孔34,能够降低通过第一孔32后的分析对象气体1通过第二孔34时的压力损失。从而,能够使分析对象气体1不易不通过第二孔34而在筒30内流入照射部10侧及受光部20侧。
第一孔32和第二孔34在X轴方向上的中心位置可以一致,在Y轴方向上的中心位置可以一致。第一孔32在X轴方向(长轴方向)的长度L1可以比第二孔34在X轴方向的长度L2短。第一孔32在长轴方向的长度L1可以为0.3m以上1m以下。作为一例,长度L1为0.5m。本例的气体分析装置100中,第一孔32的跨越长轴方向的长度L1的区域暴露于分析对象气体1。根据长度L1来确定测定光路长Ls。
第一孔32可以是筒30的表面的缺口。作为一例,从Y轴方向观察筒30时的第一孔32的缺口的厚度D2是筒30的外径D1的1/4。第二孔34的缺口的厚度D3也可以是筒30的外径D1的1/4。其中,厚度D3也可以比厚度D2大。该情况下,第二孔34在Y轴方向的宽度变得比第一孔32大,能够降低通过第一孔32时的压力损失。
图4是筒30的俯视图。第一孔32可以形成为长方形。但是,不同于本例,第一孔32也可以形成为椭圆形。第一孔32可以具有沿着筒30的长度方向(X轴方向)延伸的长轴、以及沿着Y轴方向延伸的短轴。第二孔34也可以形成为具有沿着X轴方向延伸的长轴的长方形或椭圆形。由于第一孔32及第二孔34的长轴沿着筒30的长度方向延伸,因此即使在筒30的直径较细的情况下,也能够确保可维持分析灵敏度的测定光路长Ls。
根据本例的气体分析装置100,能够减轻分析对象气体1中存在的薄雾及灰尘对分析结果的影响。本例中,薄雾及灰尘的影响被限定在由第一孔32及第二孔34开口的区域。特别地说,即使是烟道60的宽度大而不扩大照射部10和受光部20的距离就无法设置气体分析装置100的环境下,也能够将测定光路长Ls设为比烟道60的宽度短的长度,从而,能够减轻薄雾及灰尘的影响。由于薄雾及灰尘的影响减轻,因此,气体分析装置100能够稳定分析对象物质的浓度。
根据本例的气体分析装置100,从照射部10到第一孔32的区域中,筒30内被吹扫气体6充满。同样,从受光部20到第一孔32的区域中,筒30内由吹扫气体8充满。从而,分析对象气体1不从第一孔32及第二孔34流入照射部10侧及受光部20侧,因此能够防止激光2在测定光路长Ls以外的区域中衰减。
第一孔32和第二孔34配置为沿着烟道60内的分析对象气体1的流通方向(Z轴方向)排列,因此,分析对象气体1有效地从第一孔32流入,从第二孔34流出。从而,在筒30内,与测定光路长Ls对应的区域中,沿着从第一孔32向第二孔34的方向,产生分析对象气体1的气体流。由此,与测定光路长Ls对应的区域中,吹扫气体6、8借助分析对象气体1的气体流而在Z轴方向流动,从第二孔34排放。因此,能够防止吹扫气体6、8深度进入与测定光路长Ls对应的区域。
根据本例的气体分析装置100,筒30是在照射部10和受光部20之间配置以供激光2通过其内部的一体型的筒,因此,在烟道60的照射部10侧的侧壁62a和受光部20侧的侧壁62b之间,其两侧得到支撑。从而,与筒30的单侧得到支撑的情况相比,能够减轻筒30的变形和弯曲,防止激光2的光轴的偏移。
图5是本发明的第二实施例中的气体分析装置100的侧视图。图6是沿着本发明的第二实施例中的气体分析装置100的A‐A′线的截面图。本例的气体分析装置100具有盖部50。其他构造与第一实施例的气体分析装置100同样。盖部50是用于减轻灰尘及薄雾的影响的檐部。从防腐蚀性的观点考虑,盖部50可以由不锈钢形成。但是筒30的材质不限。
盖部50与筒30隔开距离而形成。盖部50与筒30隔开距离而形成是指盖部50和筒30沿着Z轴方向隔开距离而设置。本例中,如图6所示,筒30的外侧面和盖部50的内侧面在Z轴方向隔开间隔距离H1。作为一例,间隔距离H1可以是筒30的直径以上。盖部50可以经由支撑部52固定于筒30。
盖部50与筒30隔开距离而形成,因此,分析对象气体1通过扩散能够充分进入设有第一孔32的区域即与测定光路长Ls对应的区域。从而,与测定光路长Ls对应的区域中,能够防止对象物质的浓度不同于本来的浓度。另一方面,灰尘及薄雾与作为对象物质的分子比,粒径大且重。因此,灰尘及薄雾与作为对象物质的分子相比,不易扩散,因此,难以充分进入设有第一孔32的区域。从而,通过设置盖部50,能够减轻灰尘及薄雾的影响,从而能准确地分析对象物质的浓度。
盖部50的下端54可以比第一孔32延伸得更靠下侧。本例中,以分析对象气体1的上游侧为上方,以分析对象气体1的下游侧为下方。本例中,盖部50的下端54的位置P2比第一孔32的缺口的上表面的位置P1要低。由此,盖部50的下端54通过比第一孔32延伸得更靠下侧,能够防止在盖部50堆积的灰尘落入第一孔32内。
如图5所示,本例的盖部50覆盖第一孔32的长轴方向(X轴方向)上的中央部。盖部50不覆盖第一孔32的长轴方向上的端部38a、38b。由于盖部50不覆盖第一孔32的端部38a,因此,第一孔32的端部38a处,盖部50不遮挡分析对象气体1的流通,从而确保分析对象气体1的流通。从而,吹扫气体6借助第一孔32的端部38a附近的分析对象气体1的气体流而沿着Z轴方向流动,从第二孔34排放。因此,防止吹扫气体6深度进入与测定光路长Ls对应的区域。同样,也能防止吹扫气体8深度进入与测定光路长Ls对应的区域。
图7是表示第二实施例中的气体分析装置100的变形例的侧视图。本例的气体分析装置100中,盖部50覆盖整个第一孔32。本说明书中,盖部50覆盖整个第一孔32是指盖部50的X轴方向的长度比第一孔32的X轴方向的长度要长,且盖部50的Y轴方向的长度比第一孔32的Y轴方向的长度要长。在盖部50形成有供分析对象气体1通过的孔部56。除了盖部50不同,其他结构与图5所示气体分析装置100同样。
孔部56可以在盖部50的X轴方向上的中央部形成。本例的孔部56的大小比第一孔32的Y轴方向的宽度要小。孔部56的大小可以定为不会被灰尘及薄雾堵塞。
根据本例的气体分析装置100,起到檐部的功能的盖部50比第一孔32大,盖部50覆盖整个第一孔32。从而,能够进一步降低薄雾及灰尘的影响。由孔部56能够确保从第一孔32到第二孔34的分析对象气体1的流通,因此,防止吹扫气体6、8深度进入形成第一孔32的区域。
本例的气体分析装置100中,如图5所示,盖部50可以形成为覆盖第一孔32的长轴方向上的中央部而不覆盖第一孔32的长轴方向上的端部38的同时,设置孔部56。
图8是表示第二实施例中的气体分析装置100的其他变形例的侧视图。本例的气体分析装置100在盖部50形成有孔部56a、孔部56b及孔部56c。其他结构与图7所示示例同样。多个孔部56中,孔部56b形成在盖部50的X轴方向上的中央部。孔部56a及孔部56c也可以形成在与第一孔32的长轴方向上的端部38a及端部38b相对的位置。但是,在盖部50形成的多个孔部的数目及位置没有限制。也可以在盖部50形成孔部56a和孔部56c,不形成孔部56b。
通过在盖部50形成多个孔部56,与形成一个孔部56的情况相比,容易防止吹扫气体6、8深度进入形成第一孔32的区域。特别地说,由于孔部56a及孔部56c形成在与第一孔32的长轴方向上的端部38a、38b相对的位置,因此容易防止吹扫气体6、8深度进入与光路测定长L1对应的区域。
第一孔32的端部38a处,盖部50不遮挡分析对象气体1的气体流,能够确保分析对象气体1的气体流。从而,吹扫气体6借助通过孔部56a后的分析对象气体1的气体流而沿着Z轴方向流动,从第二孔34排出。因此,吹扫气体6不会深度进入与测定光路长Ls对应的区域。同样,吹扫气体8也不会深度进入与测定光路长Ls对应的区域。
图9是表示第二实施例中的气体分析装置100的其他变形例的侧视图。本例的气体分析装置100中,盖部50分割为多个盖部50a、50b。多个盖部50a及盖部50b可以隔开预定间隙沿着X轴方向排列。其他结构与图5所示示例同样。相邻的多个盖部50a、50b间的间隙不遮挡分析对象气体1的气体流,起到与孔部56b同样的功能。从而,根据本变形例,也可防止吹扫气体6及吹扫气体8深度进入与测定光路长对应的区域。本例中,盖部50分割为2个盖部50a及50b,但是盖部50也可以分割为3个以上的盖部。
以上,用实施例说明了本发明,但是本发明的技术范围不限于上述实施例记载的范围。各实施例及各变形例能够相互组合。本领域技术人员应该明白上述实施例能够添加各种各样的变更或改良。从权利要求的范围的记载可知,添加了这样的变更或改良的实施方式也是包含于本发明的技术范围的。
【符号的说明】
1…分析对象气体,2…激光,6…吹扫气体,8…吹扫气体,10…照射部,12…激光元件,14…准直透镜,16…框体,18…照射部侧透光窗,20…受光部,22…会聚透镜,24…受光元件,25…信号处理部,26…框体,28…受光部侧透光窗,30…筒,30a…照射部侧连结管,30b…受光部侧连结管,32…第一孔,34…第二孔,36…法兰,37…法兰,38…端部,42…照射部侧导入部,44…受光部侧导入部,50…盖部,52…支撑部,54…下端,56…孔部,60…烟道,62…侧壁,100…气体分析装置。

Claims (11)

1.一种气体分析装置,其特征在于,具备:
照射部,该照射部对烟道内流通的分析对象气体照射激光;
受光部,该受光部与所述照射部相对配置为将所述烟道夹持,接受通过所述分析对象气体后的所述激光;以及
一体型的筒,该筒配置在所述照射部和所述受光部之间,以供所述激光通过内部,在所述烟道内形成有面向所述分析对象气体的上游侧的第一孔和面向所述分析对象气体的下游侧的第二孔。
2.权利要求1所述的气体分析装置,其特征在于,具备:
照射部侧导入部,该照射部侧导入部从所述筒的照射部侧的端部向所述筒内导入吹扫气体;
受光部侧导入部,该受光部侧导入部从所述筒的受光部侧的端部向所述筒内导入吹扫气体。
3.权利要求1或2所述的气体分析装置,其特征在于,
所述第二孔在所述分析对象气体的下游侧配置为与所述第一孔相对,且开口面积比所述第一孔大。
4.权利要求1到3的任一项所述的气体分析装置,其特征在于,
所述第一孔及所述第二孔具有沿着所述筒的长度方向延伸的长轴。
5.权利要求1到4的任一项所述的气体分析装置,其特征在于,
还具备与所述筒隔开距离而形成且部分覆盖所述第一孔的盖部。
6.权利要求5所述的气体分析装置,其特征在于,
所述盖部覆盖具有沿着所述筒的长度方向延伸的长轴的所述第一孔的长轴方向上的中央部,而未覆盖所述第一孔的长轴方向上的端部。
7.权利要求5所述的气体分析装置,其特征在于,
在所述盖部形成供所述分析对象气体通过的孔部。
8.权利要求7所述的气体分析装置,其特征在于,
所述盖部覆盖整个所述第一孔,在所述盖部形成所述孔部。
9.权利要求7或8所述的气体分析装置,其特征在于,
在所述盖部形成多个所述孔部。
10.权利要求5到9的任一项所述的气体分析装置,其特征在于,
所述盖部分割为多个。
11.权利要求5到10的任一项所述的气体分析装置,其特征在于,
所述盖部的下端比所述第一孔延伸得更靠下侧。
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Citations (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62184458U (zh) * 1986-05-13 1987-11-24
CN1075549A (zh) * 1991-11-18 1993-08-25 葛兹国际有限公司 改进的气体取样室
DE4443016A1 (de) * 1994-12-02 1996-06-05 Sick Optik Elektronik Erwin Gasanalytisches Meßgerät
AU2809599A (en) * 1998-05-15 1999-11-25 Trevor Richard Voevodin Air shield for a particle detection system
CN1462874A (zh) * 2003-06-24 2003-12-24 清华大学 一种测量燃烧设备烟道气中一氧化碳浓度的方法及装置
US20080011049A1 (en) * 2004-06-04 2008-01-17 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. Device and Method for Optical Detecting Substances Contained in Waste Gases of Chemical Processes
US20080190175A1 (en) * 2006-07-19 2008-08-14 Denso Corporation Optical gas concentration detector and method of producing structure used in the detector
CN201298012Y (zh) * 2008-09-26 2009-08-26 朱一川 一种微电脑激光粉尘仪
CN201402247Y (zh) * 2008-12-30 2010-02-10 中国科学院安徽光学精密机械研究所 可调谐激光二极管双光程工业烟道在线监测装置
EP2416146A2 (en) * 2010-08-04 2012-02-08 HORIBA, Ltd. Probe for gas analysis
CN102539365A (zh) * 2011-12-28 2012-07-04 昆明理工大学 一种氮气分子激光器的机动车尾气检测装置及其使用方法
CN103091285A (zh) * 2012-12-29 2013-05-08 聚光科技(杭州)股份有限公司 激光气体分析装置及方法
CN103175799A (zh) * 2011-12-22 2013-06-26 株式会社堀场制作所 水分浓度测定装置的校正方法以及校正装置
CN103185693A (zh) * 2011-12-27 2013-07-03 株式会社堀场制作所 气体分析装置
CN203216845U (zh) * 2012-12-29 2013-09-25 聚光科技(杭州)股份有限公司 激光气体分析装置
CN103733046A (zh) * 2011-08-12 2014-04-16 株式会社堀场制作所 气体分析装置
CN104914070A (zh) * 2015-06-18 2015-09-16 武汉新烽光电科技有限公司 一种防爆防雾型激光气体检测仪气室
CN105486652A (zh) * 2015-10-23 2016-04-13 成都市亿泰科技有限公司 基于光子晶体的可控非色散红外气体传感器
CN205157410U (zh) * 2015-11-14 2016-04-13 杭州绰美科技有限公司 一种烟气监测装置
CN105531580A (zh) * 2014-05-30 2016-04-27 富士电机株式会社 多成分用激光式气体分析计
US20160131795A1 (en) * 2014-11-11 2016-05-12 Iball Instruments Llc Mudlogging Device with Dual Interferometers
CN105738310A (zh) * 2016-04-20 2016-07-06 华北理工大学 一种含粉尘环境中检测包含so2、no2和no三种气体浓度的装置及方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0745000Y2 (ja) * 1989-11-02 1995-10-11 アマノ株式会社 粉塵濃度測定装置
AUPP352098A0 (en) * 1998-05-15 1998-06-04 Voevodin, Trevor Richard Air shield for a particle detection system
JP6077743B2 (ja) * 2011-12-27 2017-02-08 株式会社堀場製作所 ガス分析装置
JP5992683B2 (ja) * 2011-12-27 2016-09-14 株式会社堀場製作所 ガス分析装置
DE102013213730B4 (de) * 2013-07-12 2020-09-24 Siemens Aktiengesellschaft Prozess-Schnittstelle eines nach dem Durchlichtverfahren arbeitenden Prozess-Gasanalysators

Patent Citations (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62184458U (zh) * 1986-05-13 1987-11-24
CN1075549A (zh) * 1991-11-18 1993-08-25 葛兹国际有限公司 改进的气体取样室
CN1032666C (zh) * 1991-11-18 1996-08-28 葛兹国际有限公司 改进的气体取样室
DE4443016A1 (de) * 1994-12-02 1996-06-05 Sick Optik Elektronik Erwin Gasanalytisches Meßgerät
AU2809599A (en) * 1998-05-15 1999-11-25 Trevor Richard Voevodin Air shield for a particle detection system
CN1462874A (zh) * 2003-06-24 2003-12-24 清华大学 一种测量燃烧设备烟道气中一氧化碳浓度的方法及装置
US20080011049A1 (en) * 2004-06-04 2008-01-17 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Der Angewandten Forschung E.V. Device and Method for Optical Detecting Substances Contained in Waste Gases of Chemical Processes
US20080190175A1 (en) * 2006-07-19 2008-08-14 Denso Corporation Optical gas concentration detector and method of producing structure used in the detector
JP4984706B2 (ja) * 2006-07-19 2012-07-25 株式会社デンソー マイクロ構造体の製造方法
CN201298012Y (zh) * 2008-09-26 2009-08-26 朱一川 一种微电脑激光粉尘仪
CN201402247Y (zh) * 2008-12-30 2010-02-10 中国科学院安徽光学精密机械研究所 可调谐激光二极管双光程工业烟道在线监测装置
EP2416146A2 (en) * 2010-08-04 2012-02-08 HORIBA, Ltd. Probe for gas analysis
US20120033219A1 (en) * 2010-08-04 2012-02-09 Horiba, Ltd. Probe for gas analysis
CN103733046A (zh) * 2011-08-12 2014-04-16 株式会社堀场制作所 气体分析装置
CN103175799A (zh) * 2011-12-22 2013-06-26 株式会社堀场制作所 水分浓度测定装置的校正方法以及校正装置
CN103185693A (zh) * 2011-12-27 2013-07-03 株式会社堀场制作所 气体分析装置
CN102539365A (zh) * 2011-12-28 2012-07-04 昆明理工大学 一种氮气分子激光器的机动车尾气检测装置及其使用方法
CN103091285A (zh) * 2012-12-29 2013-05-08 聚光科技(杭州)股份有限公司 激光气体分析装置及方法
CN203216845U (zh) * 2012-12-29 2013-09-25 聚光科技(杭州)股份有限公司 激光气体分析装置
CN105531580A (zh) * 2014-05-30 2016-04-27 富士电机株式会社 多成分用激光式气体分析计
US20160131795A1 (en) * 2014-11-11 2016-05-12 Iball Instruments Llc Mudlogging Device with Dual Interferometers
CN104914070A (zh) * 2015-06-18 2015-09-16 武汉新烽光电科技有限公司 一种防爆防雾型激光气体检测仪气室
CN105486652A (zh) * 2015-10-23 2016-04-13 成都市亿泰科技有限公司 基于光子晶体的可控非色散红外气体传感器
CN205157410U (zh) * 2015-11-14 2016-04-13 杭州绰美科技有限公司 一种烟气监测装置
CN105738310A (zh) * 2016-04-20 2016-07-06 华北理工大学 一种含粉尘环境中检测包含so2、no2和no三种气体浓度的装置及方法

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