CN107541449A - 流体温控基因测序反应小室 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种流体温控基因测序反应小室，涉及生化设备技术领域；包括底层、反应层以及温控层；所述反应层设置在底层与温控层之间，且所述反应层与底层之间设置有用于通入试剂进行基因测序反应的反应通道；所述温控层贴合在所述的反应层上，温控层上设置有流体入口和流体出口，所述温控层与反应层之间设置有温控通道，所述流体入口和流体出口均与所述的温控通道相连通，所述温控通道用于通入流体，对反应通道中的试剂进行温度的调节；本发明的有益效果是：能够非常方便的实现对基因测序反应小室进行温度的调节，简化了测序反应小室的温度调节的结构。

Description

流体温控基因测序反应小室

技术领域

本发明涉及生化设备技术领域，更具体地说，涉及一种流体温控基因测序反应小室。

背景技术

在基因测序反应过程中，需要对进行基因测序反应的反应小室进行实时温度的调节，例如进行加热或者降温，以满足基因测序反应的需求。

现有技术中的一种基因测序反应设备，包括测序反应小室和温控组件，其中，所述的温控组件包括制冷片、散热片和测温装置，制冷片的一面紧贴在测序反应小室上，散热片设置在制冷片的另一面上，通过制冷片对测序反应小室进行温度的调节，当需要对测序反应小室降温时，制冷片贴在测序反应小室的一面为制冷面，对测序反应小室进行降温，制冷片的制热面则通过散热片进行散热；当需要对测序反应小室升温时，则改变制冷片的电流方向，制冷片贴在测序反应小室的一面为制热面，对测序反应小室进行升温；必要的时候，还可以在散热片的一旁设置风扇。这种基因测序反应设备，其温控组件的组成部件较多，导致基因测序反应设备的结构复杂、繁琐。

现有技术中还有一种核酸检测反应台，包括温控组件和测序反应小室，温控组件包括加热玻璃和导电棒，加热玻璃贴在测序反应小室上，导电棒的顶端顶在加热玻璃上，通电后，通过加热玻璃对测序反应小室进行加热。这种结构的核酸检测反应台，导电棒不可避免的会接触到各种试剂，使用时间过长后，导电棒则会出现锈蚀，导电棒的使用寿命短，对测序反应小室的加热效果不佳。

因此需要一种新的基因测序反应小室，能够非常方便的实现对基因测序反应小室进行温度的调节，简化测序反应小室的结构，同时避免出现导电棒锈蚀的情况。

发明内容

本发明的目的在于提供一种流体温控基因测序反应小室，旨在解决现有技术中基因测序反应小室的温控组件部件多，导致基因测序反应设备的结构复杂、繁琐的问题。

为了实现发明目的，一种流体温控基因测序反应小室，其改进之处在于：包括底层、反应层以及温控层；

所述反应层设置在底层与温控层之间，且所述反应层与底层之间设置有用于通入试剂进行基因测序反应的反应通道；

所述温控层贴合在所述的反应层上，温控层上设置有流体入口和流体出口，所述温控层与反应层之间设置有温控通道，所述流体入口和流体出口均与所述的温控通道相连通，所述温控通道用于通入流体，对反应通道中的试剂进行温度的调节。

在上述的结构中，所述温控层为一温控基片，所述反应层包括反应基片，所述反应基片的上表面设置有朝向温控基片的第一凹槽，所述温控基片贴合在反应基片上后，所述第一凹槽即形成封闭的温控通道。

在上述的结构中，所述温控层为一温控基片，所述温控基片的下表面设置有第一凹槽，所述温控基片贴合在反应层上后，所述第一凹槽即形成封闭的温控通道。

进一步的，所述温控基片由顶层玻片和夹层玻片贴合而成，且所述夹层玻片位于顶层玻片和反应层之间；

所述温控基片下表面设置的第一凹槽为所述夹层玻片上设置的第三通孔，所述顶层玻片、反应层与第三通孔围合后构成所述的温控通道。

进一步的，所述流体入口和流体出口设置在顶层玻片上，所述流体入口和流体出口均与所述第三通孔相连通。

所述反应层上设置有与反应通道相连通的试剂入口和试剂出口，所述温控基片上设置有与试剂入口相连通的第一通孔，温控基片上设置有与试剂出口相连通的第二通孔；

所述第一通孔上连接有试剂进入管道，所述第二通孔上连接有试剂排出管道；

所述流体入口上连接有流体进入管道，所述流体出口上连接有流体排出管道。

进一步的，所述第三通孔呈方形，所述顶层玻片和夹层玻片贴合后，第三通孔在所述顶层玻片上形成一方形区域，所述流体入口和流体出口位于所述方形区域的拐角处。

进一步的，所述第一凹槽的宽度大于所述反应通道的宽度。

进一步的，所述第一凹槽呈方形或呈椭圆形或呈树叶状。

进一步的，所述顶层玻片的材质为玻璃，所述夹层玻片的材质为PDMS，所述顶层玻片通过键合的方式固定在夹层玻片上。

进一步的，所述反应层由盖玻片和导液片构成，所述底层为载玻片，所述盖玻片和载玻片的材质为玻璃，所述导液片的材质为PDMS，所述盖玻片通过键合的方式固定在导液片上，所述导液片通过键合的方式固定在载玻片上；

所述反应层的夹层玻片通过键合的方式固定在所述盖玻片上。

在上述的结构中，所述反应层由盖玻片和导液片构成，所述底层为载玻片，所述导液片位于盖玻片和载玻片之间，所述导液片上设置有第四通孔；

所述温控层为一温控基片，温控基片贴合在所述的盖玻片上，且温控基片朝向盖玻片的一面上设置有两个第三凹槽，流体入口与其中一个第三凹槽相连通，流体出口与另一个第三凹槽相连通；

所述盖玻片、导液片以及载玻片上均设置有与其中一个第三凹槽相连通的第一循环通孔，所述盖玻片、导液片以及载玻片上均还设置有与另一个第三凹槽相连通的第二循环通孔；

所述流体温控基因测序反应小室还包括流体循环基片，所述流体循环基片贴合在所述载玻片的底面上，流体循环基片朝向载玻片的一面上设置有流体循环凹槽，所述的第一循环通孔、第二循环通孔均与所述的流体循环凹槽相连通。

进一步的，所述温控基片由顶层玻片和夹层玻片贴合而成，所述第三凹槽即为设置在夹层玻片上的第五通孔和第六通孔；

所述流体循环基片由第一循环玻片和第二循环玻片构成，所述第二循环玻片位于载玻片和第一循环玻片之间，所述流体循环凹槽即为设置在所述第二循环玻片上的第七通孔。

由上可知，本发明通过温控通道的结构设计，流体在流经温控通道时，对反应通道内的试剂进行温度的调节，能够非常方便的实现对基因测序反应小室进行温度的调节，简化了测序反应小室的温度调节的结构，同时省去了导电棒，避免出现导电棒锈蚀的情况。

附图说明

图1、图2为本发明一个实施例中流体温控基因测序反应小室的结构示意图。

图3为本发明一个示例中流体温控基因测序反应小室的结构示意图。

图4、图5为本发明另一个示例中流体温控基因测序反应小室的结构示意图。

图6、图7为本发明一个示例中试剂入口、试剂出口、第一通孔以及第二通孔连接有管道的结构示意图。

图8为本发明一个示例中温控通道的结构示意图。

图9为本发明另一个示例中温控通道的结构示意图。

图10为本发明一个示例中反应通道投影到温控层上的结构示意图。

图11为本发明另一帖示例中反应通道投影到温控层上的结构示意图。

图12、图13为本发明另一个示例中流体温控基因测序反应小室的结构示意图。

图14为本发明另一个示例中流体温控基因测序反应小室的结构示意图。

图15为图14所述的示例中顶层玻片和夹层玻片贴合后的主视图。

图16为本发明另一个示例中试剂入口、试剂出口、第一通孔以及第二通孔连接有管道的结构示意图。

图17为本发明的另一个实施例中流体温控基因测序反应小室的结构示意图。

图18为图17中的流体温控基因测序反应小室的流体循环基片的结构示意图。

图19为本发明的另一个实施例中流体温控基因测序反应小室的结构示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。

本发明提出第一实施例，本实施例提出了一种流体温控基因测序反应小室，如图1、图2所示，所述的流体温控基因测序反应小室包括底层10、反应层20以及温控层30，所述反应层20设置在底层10与温控层30之间，并且在反应层20与底层10之间设置有用于通入试剂进行基因测序反应的反应通道201，对于反应层20上的反应通道201，下文中将会作出详细的说明。所述的温控层30贴合在所述的反应层20上，在本实施例中，所述的温控层30为一温控基片，所述温控基片上设置有流体入口301和流体出口302；所述温控层30与所述反应层20之间设置有温控通道309，所述流体入口301和流体出口302均与所述的温控通道309相连通，所述的温控通道309用于通入流体，对反应通道201中的试剂进行温度的调节。

本实施例中，如图1、图2所示，所述温控基片30朝向反应层20的下表面设置有第一凹槽303，流体入口301和流体出口302分别连通在第一凹槽303的首尾端上，当温控基片30贴合在反应层20上之后，第一凹槽303的开口被反应层20的表面覆盖形成了封闭的温控通道309，即第一凹槽303定义所述的温控通道309；所述的流体入口301连接在外部用于提供流体的管道上，流体出口302连接在外部用于排出流体的管道上，经流体入口301通入的流体，进入第一凹槽303内，流体则从反应层20的上表面流过，对反应通道201内的试剂进行温度的调节本发明的流体温控基因测序反应小室可以省去现有技术用于加热导电棒，简化了测序反应小室的温度调节的结构。

由于测序反应小室有一定的厚度，会导致测序反应小室内外有温差，为了消除测序反应小室内外温差，本实施例提供一种补偿加热方法，通过加热或制冷目标温度预先对流体的温度进行设置和调节，以补偿测序反应小室内外温差及环境带来的影响，较佳实施例中，当通过流体对反应通道中的试剂进行加热时，调节流体的温度略大于试剂所需的温度，此时流体的温度与试剂所需温度的差值为0.5-1℃；当通过流体对反应通道中的试剂进行降温时，调节流体的温度略小于试剂所需的温度，此时试剂所需的温度与流体的温度的差值为0.5-1℃。在一具体的实施例中，当通过流体对反应通道中的试剂进行加热时，试剂所需的温度为40℃，调节流体的温度为40.7℃；当通过流体对反应通道中的试剂进行降温时，试剂所需的温度为10℃，调节流体的温度为9.3℃。这种温度控制的方式，根据测序反应小室的内外温差，针对性的对设置温度进行调整，从而使测序反应的温度控制更为精确，大大提高测序反应的质量。

对于所述的温控通道309，本发明提出了一示例，如图3所示，同样的，在本示例中，流体温控基因测序反应小室包括底层10、反应层20以及温控层30，反应层20设置在温控层30与底层10之间，反应层20与底层10之间设置有用于进行基因测序反应的反应通道201，温控层30与反应层20之间设置有用于对反应通道201中的试剂进行温度调节的温控通道309。本示例中，所述温控层30为一温控基片，所述反应层20为一反应基片，本实施例中，反应通道201由设置在反应基片下表面的凹槽定义。所述反应基片的上表面设置有第一凹槽303，当温控基片贴合在反应基片上后，温控基片与第一凹槽303围合构成温控通道309；所述的温控基片上还设置有与反应通道连通的流体入口301和流体出口302，流体入口301与外部通入流体的管道相连通，流体出口302与外部排出流体的管道相连通，当通入流体后，流体进入第一凹槽303内，从第一凹槽303的底面上流过，从而对反应通道201中的试剂进行温度的调节。这种结构的设计，将第一凹槽303设置在反应基片的上表面，反应基片与温控基片贴合后则构成了温控通道309，反应通道201设置在反应基片与底层10之间，通过温控通道309中的流体对反应通道中的试剂进行温度的调节，这种结构使得反应基片的厚度较薄，可以加快温度调节的速度，减少小室内外的温差对温度调节的影响。

对于所述的温控通道，本发明还提出了一示例，如图4、图5所示，本示例中，流体温控基因测序反应小室包括底层10、反应层20以及温控层30，反应层20设置在温控层30与底层10之间，反应层20与底层10之间设置有用于进行基因测序反应的反应通道201，温控层30与反应层20之间设置有用于对反应通道中的试剂进行温度调节的温控通道309。本示例中，所述温控层30为一温控基片，并且温控基片由顶层玻片304和夹层玻片305构成，且夹层玻片305位于顶层玻片304和反应层20之间，所述夹层玻片305上设置有第三通孔306，当夹层玻片305贴紧在反应层20上，同时顶层玻片304贴紧在夹层玻片305上后，第三通孔306的开口分别被顶层玻片305和反应层20覆盖形成了封闭的温控通道309，即第一凹槽303定义所述的温控通道；同时，在顶层玻片304上设置有流体入口301和流体出口302，并且流体入口301和流体出口302分别与温控通道的首尾端相连通，通过流体入口301通入的流体，进入温控通道309中，从反应层20的上表面流过，并通过流体出口302处的管道排出，在流体流经温控通道309时，通过热传递，对反应层20进行温度的调节，从而实现反应通道201中试剂温度的调节。因此，能够非常方便的实现对基因测序反应小室进行温度的调节，同时，温控层30由顶层玻片304和夹层玻片305构成，并在夹层玻片305上设置有第三通孔306，这种结构便于加工，降低加工难度。

对于所述温控通道309的形状，在图1和图2所述的示例、图3所述的示例、图4和图5所述的示例中，所述温控通道309均呈方形。例如，在图5所述的示例中，夹层玻片305上的第三通孔306呈方形，夹层玻片305贴紧在反应层20上，同时顶层玻片304贴紧在夹层玻片305上后，顶层玻片304和反应层20则将第三通孔306围合构成了温控通道309，因此温控通道则呈方形。但是，对于所述温控通道的形状，本发明不作具体的限制，只需满足能够通入进行温度调节的流体，对流经反应通道中的试剂进行温度的调节即可。对于温控通道的形状，本发明还提出了一示例，如图8所示，夹层玻片305上设置有椭圆形的第三通孔，所述的所述温控通道309即呈椭圆形。另外，如图9所示，夹层玻片305上设置有呈树叶状的第三通孔，所述的温控通道309即呈树叶状。

另外，对于温控通道309与反应通道的位置关系，如图10所示，当所述温控层30上的温控通道309呈方形时，所述反应通道投影在温控层30上的形状如图10中所示的阴影部分200，所述温控通道309的宽度大于所述反应通道的宽度，因此，所述反应通道的在温控层30上的投影位于所述温控通道309的区域内。如图11所示，当所述温控层30上的温控通道呈椭圆形时，所述反应通道投影在温控层30上的形状如图11中所示的阴影部分200，从图中可以看出，椭圆沿长轴方向上的宽度均大于反应通道的宽度，因此所述反应通道在温控层30上的投影200基本位于所述温控通道309的区域内。在向温控通道309中通入流体对反应层20进行温度调节的过程中，所述温控通道309在反应层20上形成了一定范围的温控区域，该温控区域的大小与温控通道309的形状、大小相当，而通过上述结构的设计，将所述反应通道的投影200设置在温控通道309的区域内，因此便于温控区域对反应通道中的试剂进行温度的调节，使得反应通道内的试剂的温度均相同，反应通道内的试剂温度的一致性较好。

在上述的任意示例中，均需要通过流体入口向温控通道中通入流体，对反应通道中的试剂进行温度的调节，在一具体的示例中，所述流体为水，在需要对反应通道中的试剂调温时，通过对水进行加热或制冷后，通入温控通道中，从而调节反应通道中试剂的温度；在另一具体的示例中，所述流体为导热油。

对于所述的反应通道，在图1和图2所述的示例、图3所述的示例、图4和图5所述的示例中，所述反应层20均包括一反应基片；为了详细的对反应通道进行说明，我们结合图4、图5进行说明，所述反应基片的下表面设置有第二凹槽，当所述的反应基片贴合在底层10上后，底层10将第二凹槽围合构成所述反应通道201，所述反应基片上还设置有试剂入口202和试剂出口203，试剂入口202和试剂出口203均与第二凹槽相连通，并且分别位于第二凹槽的首尾端上，通过通入试剂，在反应通道201内进行基因测序反应；另外，所述顶层玻片304和夹层玻片305上还设置有与试剂入口202相对应的第一通孔307，所述顶层玻片304和夹层玻片305上还设置有与试剂出口203相对应的第二通孔308，第一通孔307与提供试剂的管道相连通，第二通孔308与排出试剂的管道相连通，试剂从第一通孔307和试剂入口202进入反应通道内，在反应通道201内发生基因测序反应，同时在此过程中，流体入口301通入流体，对反应通道201中的试剂进行温度的调节。另外，在图3所述的示例中，反应层20包括反应基片，反应基片的上表面设置有第一凹槽303，当温控基片贴合在反应基片上后，温控基片将第一凹槽303封闭构成温控通道309；反应基片的下表面设置有第二凹槽，底层贴合在反应基片上后，底层将第二凹槽封闭构成反应通道201，由于第一凹槽303和第二凹槽均设置在反应基片上，因此从温控通道中流过的流体与反应通道中流过的试剂更为接近，温控通道中的流体对于试剂温度的调节更为灵敏，因此，本示例中此种结构的设计，提高了温度调节的灵敏度，减小了温度调节的误差。

如图6、图7所示，对于流体入口301和流体出口302上连接的管道，顶层玻片304上的第一通孔307和顶层玻片304上的第二通孔308上连接的管道，提供了一实施例，所述的流体入口301上连接有流体进入管道3010，流体进入管道3010连通至用于提供流体的装置上；所述流体出口302上连接有流体排出管道3020，流体排出管道3020连通至用于回收流体的装置上。顶层玻片304上的第一通孔307上连接有试剂进入管道3070，顶层玻片304上的第二通孔308上连接有试剂排出管道3080。本实施例中，通过将流体入口301、流出出口302、第一通孔307以及第二通孔308均设置在顶层玻片304上，使得试剂进入管道3070、试剂排出管道3080、流体进入管道3010以及流体排出管道3020均处于测序反应小室的同一侧，实现了单侧通入反应试剂和流体，从而使得夹持或固定基因测序反应小室的结构更为简单，同时，将用于对基因测序反应进行采图的采图装置设置在基因测序反应小室未设置管道的一侧，能够防止管道挡住采图装置拍摄的视角，避免管道对于采图装置的采图效果的影响。

需要进一步说明的是，对于所述的反应通道，本发明还提出了一示例，如图12、图13所示，所述的反应层20由盖玻片204和导液片205构成，所述底层10为一载玻片，所述导液片205上设置有第四通孔2051，当导液片205贴合在载玻片上，盖玻片204贴合在导液片205上之后，盖玻片204、载玻片以及第四通孔2051则围合构成了所述的反应通道；在所述盖玻片204上设置有试剂入口202和试剂出口203，且试剂入口202、试剂出口203均与反应通道相连通，且分别设置在反应通道的首尾端上，另外，所述温控层30上对应于试剂入口202的位置设置有第一通孔307，温控层30上对应于试剂出口203的位置设置有第二通孔308，对于所述的温控层30，与图4和图5的示例中完全相同，因此在本示例则不再对温控层30进行详细的说明。本示例中，通过流经温控通道309中的流体对流经反应通道中的试剂进行温度的调节，这种实现温度调节的方式更为简单，从而简化了基因测序反应小室的结构；另外，所述反应层20由盖玻片204和导液片205贴合而成，并且在导液片205上设置有第四通孔2051，便于对反应层20进行加工，降低了加工难度。

在上述的示例中，所述的流体入口301和流体出口302，与所述试剂入口和试剂出口处于一条直线上，但是，所述流体入口和流体出口的位置，可根据需求进行设定；本发明提供了一具体实施例，如图14、图16所示，本实施例与图13所述的实施例相比，夹层玻片305、底层10、反应层20的结构均相同，则不再详细说明，其不同之处在于所述流体入口301和流体出口302都设置在顶层玻片304靠近侧边处，图15为顶层玻片304和夹层玻片305贴合后的主视图，方形的第三通孔306则在顶层玻片304形成方形区域，所述的流体入口301和流体出口302都位于该方形区域内的拐角处，具体在本示例中，流体入口301和流体出口302位于方形区域的对角处，流体流入温控通道内后，能够充分对反应通道内的试剂进行温度的调节，反应通道内试剂温度调节的效率更高；另外需要说明的是，所述的流体入口301和流体出口302还可以设置在方形区域的其他拐角处，本本发明则不再详细说明。通过将流体入口301和流体出口302设置在方形区域的拐角处，避免连通在流体入口301处的流体进入管道3010，与连通在第一通孔307上的试剂进入管道3070由于两者的间隔太近而导致的干涉，也避免连通在流体出口302处的流体排出管道3020，与连通在第二通孔308处的试剂排出管道3080由于两者的间隔太近而导致的干涉；将用于对基因测序反应进行采图的采图装置设置在基因测序反应小室未设置管道的一侧，能够防止管道挡住采图装置拍摄的视角，避免管道对于采图装置的采图效果的影响。

需要进一步说明的是，在图4和图5、图12和图13以及图14和图15所述的三个示例中，所述顶层玻片304、夹层玻片305和材料均为玻璃。在另一示例中，所述夹层玻片305的材质为PDMS，即聚二甲基硅氧烷，顶层玻片304的材质为玻璃，由于PDMS材料的质地较软，因此在夹层玻片305上加工第三通孔306的工艺较为简单；所述顶层玻片304与夹层玻片305贴合的表面经等离子处理，以形成羟基，顶层玻片304通过键合的方式固定在夹层玻片305上。另外，在图12和图13、图14所述的示例中，所述反应层由盖玻片204和导液片205构成，所述底层10为载玻片，顶层玻片304、夹层玻片305、盖玻片204、导液片205以及载玻片的材质均为玻璃。在另一示例中，所述顶层玻片304、盖玻片204、以及载玻片的材质均为玻璃，所述夹层玻片305和导液片205的材质为PDMS。

对于所述温控层30、反应层20以及底层10的贴合方式，本发明提出了一示例，所述温控层30采用压合的方式紧贴在反应层20上，反应层20也通过压合的方式紧贴在底层10上。在图14所示示例的基础上，所述温控层30由顶层玻片304和夹层玻片305构成，反应层由盖玻片204、导液片205构成时，在所述顶层玻片304、夹层玻片305、盖玻片204、导液片205以及载玻片需要贴合的表面上进行等离子处理，形成羟基，顶层玻片304通过键合的方式贴合在夹层玻片305上，以形成温控层；所述温控层通过键合的方式固定在盖玻片204上；所述盖玻片204与导液片205通过键合的方式贴合，以形成反应层，所述反应层通过键合的方式贴合在载玻片上。通过键合的方式实现各层之间的贴合，其密闭性更好。

本发明提出了另一实施例，本实施例提出了一种流体温控基因测序反应小室，如图17所示，所述的流体温控基因测序反应小室包括底层10、反应层以及温控层，在本实施例中，所述的底层10为载玻片，所述的反应层由盖玻片204和导液片205构成，所述导液片205设置在盖玻片204和载玻片之间；所述的温控层为一温控基片30，所述温控基片30贴合在所述的盖玻片204上。温控基片30上设置有试剂入口202、试剂出口203、流体入口301以及流体出口302，温控基片30朝向盖玻片204的一面上设置有两个第三凹槽，其中的一个第三凹槽与流体入口301相连通，这个第三凹槽即为形成流体进入区310；另一个第三凹槽与流体出口302相连通，这个第三凹槽即形成流体排出区311。对于所述的盖玻片204、导液片205以及载玻片，其结构与图14所述的实施例中基本相同，其不同之处是，在所述的盖玻片204、导液片205和载玻片上分别设置有第一循环通孔206和第二循环通孔207，其中第一循环通孔与流体进入区310相连通，第二循环通孔与流体排出区311相连通。

另外，所述流体温控基因测序反应小室还包括一流体循环基片40，所述流体循环基片40贴合在所述的载玻片上；如图18所述，即为流体循环基片40的结构示意图，所述的流体循环基片40朝向载玻片的一面上设置有流体循环凹槽401，当流体循环基片贴在载玻片上时，所述的第一循环通孔206和第二循环通孔207则与流体循环凹槽401相连通。

本实施例中，对反应通道中的试剂进行温度的调节过程如下，从流体入口301通入的流体进入所述的流体进入区310，在流体进入区310中的流体通过盖玻片304的热传递作用，对反应通道中的试剂进行温度的调节；流体沿第一循环通孔206进入流体循环基片40上的流体循环凹槽401内，通过载玻片的热传递作用，对反应通道中的试剂进行温度的调节；此后流体循环凹槽401内的流体从第二循环通孔207进入流体排出区311，同样的，流体排出区311中的流体通过盖玻片204的热传递作用，对反应通道中的试剂进行温度的调节，流体排出区311的流体通过流体出口302的作用实现排出。本实施例中，通过温控基片30的流体进入区310和流体排出区311的作用，以及流体循环基片40上的流体循环凹槽401的作用，从反应通道的两侧均对试剂的温度进行调节，在盖玻片、导液片以及载玻片上形成一温度调节区，温度调节区将所述的反应通道包覆，从而使反应通道中的温度迅速的达到所需的温度，温度调节的方式更为迅速，调节效率更高。

本发明还提出了一实施例，本实施例提出了一种流体温控基因测序反应小室，如图19所示，本实施例中，所述的盖玻片204、导液片205以及载玻片的结构与图17所述的实施例中的结构完全相同，因此本实施例中则不再详细描述。所述的温控基片30由顶层玻片304和夹层玻片305构成，顶层玻片304和夹层玻片305上均设置有试剂入口和试剂出口，所述的顶层玻片304上还设置有流体入口301和流体出口302；所述的夹层玻片305上设置有第五通孔3050和第六通孔3051，当顶层玻片304、夹层玻片305以及盖玻片204贴合后，将第五通孔3050封闭成流体进入区，将第六通孔3051封闭呈流体排出区。所述流体温控基因测序反应小室还包括一流体循环基片40，所述的流体循环基片40由第一循环玻片4011和第二循环玻片4012构成，第二循环玻片4012贴合在所述的载玻片与第一循环玻片4011之间，所述的第二循环玻片4012上设置有第七通孔4013，第二循环玻片4012贴合在第一循环玻片4011上之后，第七通孔4013与第一循环玻片4011构成了流体循环凹槽。本实施例中，通入流体对反应通道中的试剂进行温度调节的过程与图17所述示例中的过程完全相同，因此本发明则不再详细的描述。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (13)

1.一种流体温控基因测序反应小室，其特征在于：包括底层、反应层以及温控层；

所述反应层设置在底层与温控层之间，且所述反应层与底层之间设置有用于通入试剂进行基因测序反应的反应通道；

所述温控层贴合在所述的反应层上，温控层上设置有流体入口和流体出口，所述温控层与反应层之间设置有温控通道，所述流体入口和流体出口均与所述的温控通道相连通，所述温控通道用于通入流体，对反应通道中的试剂进行温度的调节。

2.根据权利要求1所述的流体温控基因测序反应小室，其特征在于：所述温控层为一温控基片，所述反应层包括反应基片，所述反应基片的上表面设置有朝向温控基片的第一凹槽，所述温控基片贴合在反应基片上后，所述第一凹槽即形成封闭的温控通道。

3.根据权利要求1所述的流体温控基因测序反应小室，其特征在于：所述温控层为一温控基片，所述温控基片的下表面设置有朝向反应层的第一凹槽，所述温控基片贴合在反应层上后，所述第一凹槽即形成封闭的温控通道。

4.根据权利要求3所述的流体温控基因测序反应小室，其特征在于：所述温控基片由顶层玻片和夹层玻片贴合而成；

所述温控基片下表面设置的第一凹槽为所述夹层玻片上设置的第三通孔，所述夹层玻片位于顶层玻片和反应层之间，所述第三通孔定义所述的温控通道。

5.根据权利要求4所述的流体温控基因测序反应小室，其特征在于：所述流体入口和流体出口设置在顶层玻片上，所述流体入口和流体出口均与所述第三通孔相连通。

6.根据权利要求4所述的流体温控基因测序反应小室，其特征在于：所述反应层上设置有与反应通道相连通的试剂入口和试剂出口，所述温控基片上设置有与试剂入口相连通的第一通孔，温控基片上设置有与试剂出口相连通的第二通孔；

所述第一通孔上连接有试剂进入管道，所述第二通孔上连接有试剂排出管道；

所述流体入口上连接有流体进入管道，所述流体出口上连接有流体排出管道。

7.根据权利要求6所述的流体温控基因测序反应小室，其特征在于：所述第三通孔呈方形，所述顶层玻片和夹层玻片贴合后，第三通孔在所述顶层玻片上形成一方形区域，所述流体入口和流体出口位于所述方形区域的拐角处。

8.根据权利要求3或4所述的流体温控基因测序反应小室，其特征在于：所述第一凹槽的宽度大于所述反应通道的宽度。

9.根据权利要求3或4所述的流体温控基因测序反应小室，其特征在于：所述第一凹槽呈方形或呈椭圆形或呈树叶状。

10.根据权利要求4所述的流体温控基因测序反应小室，其特征在于：所述顶层玻片的材质为玻璃，所述夹层玻片的材质为PDMS，所述顶层玻片通过键合的方式固定在夹层玻片上。

11.根据权利要求10所述的流体温控基因测序反应小室，其特征在于：所述反应层由盖玻片和导液片构成，所述底层为载玻片，所述盖玻片和载玻片的材质为玻璃，所述导液片的材质为PDMS，所述盖玻片通过键合的方式固定在导液片上，所述导液片通过键合的方式固定在载玻片上；

所述反应层的夹层玻片通过键合的方式固定在所述盖玻片上。

12.根据权利要求1所述的流体温控基因测序反应小室，其特征在于：所述反应层由盖玻片和导液片构成，所述底层为载玻片，所述导液片位于盖玻片和载玻片之间，所述导液片上设置有第四通孔；

所述温控层为一温控基片，温控基片贴合在所述的盖玻片上，且温控基片朝向盖玻片的一面上设置有两个第三凹槽，流体入口与其中一个第三凹槽相连通，流体出口与另一个第三凹槽相连通；

所述盖玻片、导液片以及载玻片上均设置有与其中一个第三凹槽相连通的第一循环通孔，所述盖玻片、导液片以及载玻片上均还设置有与另一个第三凹槽相连通的第二循环通孔；

所述流体温控基因测序反应小室还包括流体循环基片，所述流体循环基片贴合在所述载玻片的底面上，流体循环基片朝向载玻片的一面上设置有流体循环凹槽，所述的第一循环通孔、第二循环通孔均与所述的流体循环凹槽相连通。

13.根据权利要求12所述的流体温控基因测序反应小室，其特征在于：所述温控基片由顶层玻片和夹层玻片贴合而成，所述第三凹槽即为设置在夹层玻片上的第五通孔和第六通孔；

所述流体循环基片由第一循环玻片和第二循环玻片构成，所述第二循环玻片位于载玻片和第一循环玻片之间，所述流体循环凹槽即为设置在所述第二循环玻片上的第七通孔。