CN109401940A - 基因测序反应小室 - Google Patents

Abstract

本发明涉及基因测序领域，提供了一种基因测序反应小室，其包括弹性透明盖样片、刚性透明载样片以及刚性透明的抗压片，所述盖样片夹设在所述载样片和所述抗压片之间；所述盖样片上表面设置有试剂入口和试剂出口；所述盖样片的下表面设置有第二反应凹槽，所述试剂入口和试剂出口分别贯通所述第二反应凹槽的两端；所述载样片和盖样片的下表面通过范德华力粘合，以将第二反应凹槽封闭成反应通道；所述抗压片和盖样片的上表面通过范德华力粘合，所述抗压片对应试剂入口和试剂出口设置有入口通孔和出口通孔。本发明的基因测序反应小室的密封效果较好且受力形变较小。

Description

基因测序反应小室

技术领域

本发明涉及基因测序技术领域，更具体的说，本发明涉及一种基因测序反应小室。

背景技术

现有技术基因测序反应装置通常包括基因测序反应小室和温度控制装置，基因测序反应小室包括有反应通道，与反应通道相连通的试剂入口和试剂出口，通过试剂入口通入试剂，在反应通道中进行基因测序反应，试剂从反应出口排出。

现有技术中的一种基因测序反应小室，包括上层盖片、夹片以及底层盖片，夹片位于上层盖片和底层盖片之间，夹层上设置有长条形的通孔，上层盖片具有与长条形通孔相连通的试剂入口和试剂出口。这种结构的基因测序反应小室，在进行基因测序反应时，通过管道与试剂入口和试剂出口相连通，由于上层盖片的材质为玻璃，因此试剂入口与管道、试剂出口与管道之间较难实现密封。

将上层盖片改为软性的材料时，能够解决管道与试剂入口和试剂出口密封不佳的问题，但管道压紧在软性的上层盖片上时，如果压力过大，会造成反应通道的阻塞，如果压力过小，密封效果仍然不佳。

因此需要一种新的基因测序反应小室，能够使试剂入口与管道、试剂出口与管道之间的密封效果更佳，并且不影响基因测序反应的正常进行。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基因测序反应小室，旨在解决现有技术中试剂入口与管道、试剂出口与管道之间的密封效果不佳的问题。

一种基因测序反应小室，其包括弹性透明盖样片、刚性透明载样片以及刚性透明的抗压片，所述盖样片夹设在所述载样片和所述抗压片之间；

所述盖样片上表面设置有试剂入口和试剂出口；所述盖样片的下表面设置有第二反应凹槽，所述试剂入口和试剂出口分别贯通所述第二反应凹槽的两端；

所述载样片和盖样片的下表面通过范德华力粘合，以将第二反应凹槽封闭成反应通道；

所述抗压片和盖样片的上表面通过范德华力粘合，所述抗压片对应试剂入口和试剂出口设置有入口通孔和出口通孔。

优选地，所述盖样片为硅胶片，载样片为玻璃片。

优选地，所述抗压片和盖样片形状相同，且面积小于载样片的面积。

优选地，所述第二反应凹槽的数量为两个，每个第二反应凹槽的两端对应设置有贯通盖样片上表面的试剂入口和试剂出口。

优选地，所述第二反应凹槽的两端还分别设置有圆形凹腔，且圆形凹腔分别与所述的试剂入口和试剂出口相连通，所述的圆形凹腔内设置有多个朝向所述载样片的凸柱，相邻的凸柱之间具有预设间隙。

优选地，所述的多个凸柱呈环状的设置在圆形凹腔内。

优选地，所述第二反应凹槽两端邻近圆形凹腔设置有凸块，所述凸块的宽度小于第二反应凹槽的宽度。

优选地，所述凸块具有一上平面，所述盖样片的下表面贴合在载样片上时，所述的上平面即贴合在载样片的上表面，或者所述的上平面与载样片的上表面之间预留有间隙。

优选地，进一步包括金属缓冲层和陶瓷加热片，所述金属缓冲层夹在所述加热片和所述载样片之间。

优选地，进一步包括用于弹性接触基因测序反应小室载样片上表面的温度感测装置，以及对称设置的压力平衡装置，所述温度感测装置和压力平衡装置对称设置在第二反应凹槽两侧。

由上可知，盖样片采用软质的材料制成，在接头朝向反应小室压紧时，与接头之间具有良好的密封性，由于抗压片为刚性材料，接头通过抗压片压紧盖样片时,反应通道两端受到的压力被分散到整个盖样片的上表面,较大程度减少了反应通道两端发生局部形变的问题。另外同时由于凸柱与载样片的上表面之间预留有间隙，或者凸柱抵靠在载样片的上表面上，因此凸柱起到了支撑作用，防止接头的压力过大而使圆形凹腔的底面贴到载样片上，而导致反应通道闭塞，保证了基因测序反应的正常进行；相邻的凸柱之间预留有间隙，基因测序反应所需的试剂则从间隙中流入反应通道中。当在具有两个第二反应凹槽的盖样片上设置抗压片时，可防止接头的抵压件对相邻的两个试剂入口或试剂出口产生不同程度的挤压，进而导致两个第二反应凹槽定义的两个反应通道出现不一致的试剂流量，影响测序结果。

附图说明

图1为本发明第一实施例中基因测序反应小室的立体结构示意图。

图2为本发明一个实施例中基因测序反应小室的盖样片的结构示意图。

图3为图2中C处的局部放大图。

图4为本发明一个实施例中基因测序反应小室和管道的组装结构示意图。

图5为本发明另一个实施例中盖样片的结构示意图。

图6为图5中D处的局部放大图。

图7为本发明另一个实施例中基因测序反应小室的凸柱的结构示意图。

图8为本发明另一个实施例中基因测序反应小室的载样片的正面示意图。

图9为本发明一个实施例中基因测序反应小室的载样片的立体结构示意图。

图10为本发明另一个实施例中基因测序反应小室的爆炸结构示意图。

图11为本发明另一个实施例中基因测序反应小室和导电顶针的结构示意图。

图12为本发明一个实施例中盖样片的结构示意图。

图13为本发明另一个实施例中基因测序反应小室的正面示意图。

图14为图13中A-A处剖面示意图。

图15为图14中B处的局部放大图。

图16本发明第二实施例中基因测序反应小室的爆炸图。

图17本发明第二实施例中基因测序反应小室的立体结构图。

图18是图16中本发明第二实施例中基因测序反应小室的盖样片的立体结构示意图。

图19是本发明另一实施例中基因测序反应小室的盖样片和抗压片的结构示意图。

图20是本发明第三实施例中基因测序反应小室及其固定装置的结构示意图。

图21是图20沿C-C线的剖面结构示意图。

图22是图21中D部分的放大结构示意图。

图23是本发明第三实施例中接头与连接管的连接结构示意图。

图24是本发明第三实施例中的接头的结构示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。

本发明提出第一实施例，本实施例提出了一种基因测序反应小室，如图1、图2以及图3 所示，所述的基因测序反应小室100包括弹性透明盖样片10和刚性透明载样片20，其中，所述的盖样片10上设置有试剂入口101和试剂出口102，试剂入口101和试剂出口102为设置在盖样片10上的通孔；所述的盖样片10的下表面12设置有第二反应凹槽103，并且第二反应凹槽103 的两端分别与所述的试剂入口101和试剂出口102相连通。所述第二反应凹槽103的两端还分别设置有圆形凹腔104，圆形凹腔104与所述的试剂入口101和试剂出口102相连通，圆形凹腔104 的孔径分别大于所述试剂入口101和实际出口102的孔径。所述的圆形凹腔104内设置有多个朝向所述载样片20凸出的凸柱105，所述盖样片10贴合在载样片20上时，凸柱105与载样片20的上表面之间预留有间隙，或者凸柱105抵靠在载样片20的上表面上。在本实施例中，多个凸柱 105呈环状的设置在圆形凹腔104内，并且相邻的凸柱105之间预留有用于使试剂流过的间隙。

通过上述的此种结构，如图4所示，在基因测序反应小室进行基因测序反应时，需要将管道与基因测序反应小室的试剂入口101和试剂出口102连通，管道的接头压紧在试剂入口101 和试剂出口102处，便于实现盖样片10与接头之间的密封。盖样片10采用软质的材料制成，在接头2010、2020朝向反应小室压紧时，接头的通孔和小室的试剂入口101和试剂出口102连通并具有良好的密封性，同时由于凸柱105与载样片20的上表面之间预留有间隙，或者凸柱105 抵靠在载样片20的上表面上，因此凸柱105起到了支撑作用，防止接头的压力过大而使弹性透明盖样片10的圆形凹腔104的底面贴到载样片20上，而导致反应通道闭塞，保证了基因测序反应的正常进行；相邻的凸柱105之间预留有间隙，基因测序反应所需的试剂则从间隙中流入反应通道中。本实施例中，所述盖样片10为硅胶片，所述载样片20为包括相反的两个平整光滑表面的玻片。

在上述实施例的基础上，对于所述的盖样片10，如图3所示，所述试剂入口101和试剂出口102均为圆柱形的通孔。试剂入口101和试剂出口102在盖样片10上形成弧形的内壁，该内壁定义为第三弧形面1010；所述的凸柱105包括顶面1051和第一弧形面1052，其中第一弧形面 1052的直径与第三弧形面1010的直径相等，且第一弧形面1052与第三弧形面1010平行相接。另外，所述的凸柱105还包括第一侧面1053、第二侧面1054以及第二弧形面1055，其中第二弧形面1055所在圆的直径大于第一弧形面1052所在圆的直径，且第一弧形面1052的与第二弧形面1055的基本平行。第一侧面1053和第二侧面1054均与所述的顶面1051相垂直，且第一侧面 1053和第二侧面1054垂直于圆形凹腔104的底面。本实施例中，第一侧面1053所在的平面与第二侧面1054所在的平面相交后形成中心线，所述第一弧形面1052的圆心和第二弧形面1055的圆心即位于所述中心线上。

如图3所示，所述第二反应凹槽103邻近圆形凹腔104的两端各设置有一凸块106，该凸块106呈长方体形，所述凸块106的宽度小于第二反应凹槽103的宽度；所述凸块106具有一上平面1061，所述盖样片10贴合在载样片20上时，所述的上平面1061贴合在载样片 20的图10所示的第一反应凹槽201的底面上，或者所述的上平面1061与载样片20的第一反应凹槽201的底面之间预留有间隙。在接头朝向反应小室压紧时，凸块106能够防止接头的压力过大而导致第二反应凹槽103与第一反应凹槽201的底面接触，造成反应通道的阻塞。

如图5、图6所示，对于所述的凸块106，本发明还提出了一实施例，所述的凸块106包括上平面1061和对称的两个第四弧形面1062，两个第四弧形面1062相交形成两条垂直于圆形凹腔104底面的直线，并且试剂入口101的中心点位于这两条直线构成的平面上。试剂入口101 进入反应通道的试剂，在流经凸块106时，凸块106的此种结构能够避免对试剂的流动造成影响。

如图7所示，对于所述的凸柱105，在图2、图3所述实施例的基础上，本发明还提出了一实施例，所述圆形凹腔104内设置有多组凸柱105、108，且每组凸柱均呈环状的设置在圆形凹腔的底面上，在本实施例中，圆形凹腔104底面总共设置16个凸柱105，其中每8个为一组，其中第一组凸柱105呈环状的设置在圆形凹腔104内，第二组凸柱108也呈环状的设置在圆形凹腔 104内并包围第一组凸柱105；第一组凸柱105中，相邻的凸柱105之间预留有间隙，第二组凸柱108与该间隙一一对应设置；当试剂从试剂入口101流向反应通道中时，通过凸柱105的交错设置，能够对试剂进行缓冲，从而便于对试剂的流速进行控制。

对于所述的载样片，本发明提供了一替代实施例，如图8、图9所示，所述载样片20的上表面包括外围区域205(即图5中填充部分)和中心区域206(即图8中未填充部分)，中心区域206的位置设置有长条形的第一反应凹槽201，外围区域205围在第一反应凹槽的四周，并且在载样片20的外围区域上涂有加热涂层202。所述载样片20的外围区域205与盖样片10的下表面12相贴合，盖样片10将所述的第一反应凹槽201封闭形成反应通道，所述的试剂入口101和试剂出口102分别与反应通道的两端相连通；如图4所示，在进行基因测序反应时，试剂入口 101与通入试剂的接头2010相连通，试剂出口102与排出试剂的接头2020相连通，试剂从试剂入口101进入反应通道中，在反应通道内发生测序反应，并从试剂出口102处排出。

进一步的，如图1、图10、图11所示，所述的盖样片10和载样片20呈长方体形，所述盖样片10的长度小于载样片20的长度，盖样片10的宽度小于载样片20的宽度，所述载样片20的外围区域上涂布有用于对反应通道进行加热的加热涂层202，通过对加热涂层202进行通电，实现对基因测序反应小室的加热。本实施例中，当盖样片10贴合在载样片20上时，盖样片10 即位于载样片20的正中心位置上，载样片20上表面的外围区域205沿长度方向的两端分别设置有第一电接触点203和第二电接触点204，基因测序反应小室的载样片20上设置有与第一电接触点203和第二电接触点204接触的导电顶针30，通过对导电顶针30的通电，电流从加热涂层 202上流过，加热涂层202则发热，在本实施例中，该加热涂层202为ITO涂层。

通过上述的结构，本发明的基因测序反应小室将第一反应凹槽201和加热涂层202均设置在载样片20上，在需要对基因测序反应的温度进行调节时，通过第一电接触点203和第二电接触点204对加热涂层202进行通电，加热涂层202发出的热量能够直接传递到第一反应凹槽201 内，对第一反应凹槽201中的试剂进行加热。相比现有技术中通过加热片贴紧在测序反应小室上的加热方式，本发明加热涂层202上的温度能够直接传递到反应通道中，因此反应通道中试剂的温度与加热涂层202上温度的误差非常小，在对加热涂层202上的温度进行检测时，所检测的温度即可视为反应通道中试剂的温度，提高温度检测的精度，在对反应通道中试剂的温度进行调节时，能明显的提高试剂温度调节的精确性，提高基因测序反应的精确度，保证基因测序反应的正常进行。

进一步的，如图12至图15所示，当所述的盖样片10贴合在载样片20上时，所述第二反应凹槽103即位于第一反应凹槽201的正上方，且第一反应凹槽201的宽度大于第二反应凹槽103 的宽度，第一反应凹槽201和第二反应凹槽103合并后构成所述的反应通道。如果第一反应凹槽201与第二反应凹槽103的宽度相等，当盖样片10或载样片20加工时出现误差时，在将盖样片10和载样片20贴合的过程中，第一反应凹槽201和第二反应凹槽103的位置则容易出现偏差，此时，由于载样片20的上表面涂布有加热涂层202，加热涂层202则暴露在反应通道内，在向反应通道中通入试剂时，试剂则接触到加热涂层202，使得与加热涂层202接触的试剂的温度迅速上升，反应通道内的试剂则出现温度不均匀的状况，另外还可能会造成试剂的污染。

而在本发明的此实施例中，如图15所示，本实施例中，由于第一反应凹槽201的宽度大致为第二反应凹槽103的宽度的一倍，当盖样片10和/或载样片20出现加工误差时，此时将盖样片10贴合在载样片20时，通过第一反应凹槽201与第二反应凹槽103宽度的差值抵消了盖样片10和/或载样片20的加工误差，载样片20上涂布有加热涂层202的面则盖样片10的下表面12 紧贴，避免加热涂层202暴露在反应通道中，加热涂层202只能够与盖样片10和载样片20进行加热，另外，本实施例中，第一反应凹槽201增大了试剂与载样片20的接触面积，使得载样片20上的热量能够更为迅速的传递到试剂中，提高了对反应通道中试剂加热的均匀性和热量传导的速率。

为了解决盖样片受力变形的问题，本发明第二实施例进一步提供一基因测序反应小室 200。如图16-18所示，所述基因测序反应小室200包括弹性透明盖样片10、刚性透明载样片20以及刚性透明的抗压片30，所述盖样片10夹设在所述载样片20和所述抗压片30之间。所述盖样片10上表面11设置有试剂入口101和试剂出口102。所述盖样片10的下表面12设置有条状的第二反应凹槽103，所述试剂入口101和试剂出口102分别贯通所述第二反应凹槽103的两端。所述载样片20和盖样片10的下表面12通过范德华力粘合，以将第二反应凹槽103封闭成反应通道。所述抗压片30和盖样片10的上表面11通过范德华力粘合，以避免盖样片10受力产生局部形变。所述抗压片30对应试剂入口101和试剂出口102设置有入口通孔301和出口通孔302。

如果没有抗压片，由于弹性透明盖样片10质地较软，接头2010、2020朝向反应小室300 直接压紧盖样片10时，会使得弹性透明盖样片10两端试剂入口101和试剂出口102附近发生形变，进而第二反应凹槽103封闭成的反应通道两端发生形变，导致移液枪通过试剂入口 101注入的磁珠分布不均均匀，严重时还影响通过接头2010流入试剂的流动均匀性，恶化生化反应结果并导致小室拍摄荧光图效果差，无法正常测序。和现有技术相比较，第二实施例中增加了抗压片30后，由于抗压片30为刚性材料，接头2010、2020朝向基因测序反应小室 200通过抗压片30压紧盖样片10时,反应通道两端受到的压力被分散到整个盖样片10的上表面11,较大程度减少了反应通道两端发生局部形变的问题。

较佳实施例中，所述盖样片10为硅胶片，所述载样片20和所述抗压片30均为玻璃片。所述抗压片30和盖样片10都为长条方形，基本位载样片20的中心位置，且面积小于载样片 20的面积。

较佳实施例中，基因测序反应小室200的所述第二反应凹槽103的两端还分别设置有圆形凹腔104，圆形凹腔104与所述的试剂入口101和试剂出口102相连通，所述的圆形凹腔104内设置有多个朝向所述载样片20凸出的凸柱105。所述载样片20朝向盖样片10的表面可以为整体平面或设置有第一反应凹槽的平面。第二实施例圆形凹腔104和凸柱105的结构以及第一反应凹槽的结构和前述实施例相同，因此不再赘述。

作为第二实施例的替代实施例，请参阅图19，所述盖样片10的第二反应凹槽103的数量为两个且相互平行，每个第二反应凹槽103的两端对应设置有贯通盖样片10上表面的试剂入口101和试剂出口102。如果两个通道距离太近，会导致两个通道之间的盖样片10的表面和载样片20之间的接触面积太小，二者之间的范德华力减弱，通入试剂的压力会在两个通道之间产生试剂渗漏，影响测序结果。较佳实施例中，所述两个第二反应凹槽103之间的距离等于第二反应凹槽103宽度的2.5-3倍，以防止两个第二反应凹槽103之间漏液。替代实施例中，还可在载样片20的上表面对应两个第二反应凹槽103设置两个平行间隔的第一反应凹槽。

本替代实施例中，如图22所示，当在具有两个第二反应凹槽的盖样片10上设置抗压片30 时，可防止接头的抵压件70对相邻的两个试剂入口102或101产生不同程度的挤压，进而导致两个第二反应凹槽103定义的两个反应通道出现不一致的试剂流量，影响测序结果。

参阅图20-22，是本发明第三实施例提供的基因测序反应小室300及其固定装置400的结构示意图。图21是图20沿C-C线的剖面示意图。图22是图21局部D的放大结构示意图。所述基因测序反应小室300包括弹性透明盖样片10、刚性透明载样片20以及刚性透明的抗压片30，所述盖样片10夹设在所述载样片20和所述抗压片30之间。所述盖样片10上表面设置有试剂入口 101和试剂出口102。所述盖样片10的下表面12设置有条状的两条第二反应凹槽，所述试剂入口101和试剂出口102分别贯通每条第二反应凹槽的两端。所述载样片20和盖样片10的下表面 12通过范德华力粘合，以将两条第二反应凹槽封单独闭成不同的反应通道。所述抗压片30和盖样片10的上表面通过范德华力粘合，所述抗压片30对应试剂入口101和试剂出口102设置有入口通孔301和出口通孔302。

本实施例中所述基因测序反应小室300进一步包括金属缓冲层40和陶瓷加热片50。所述陶瓷加热片50施加电压后发热对反应通道进行加热，所述金属缓冲层40夹在所述加热片50和所述载样片20之间，用于避免陶瓷片不平整表面直接接触载样片20造成加热不均匀。

本实施例中，所述基因测序反应小室300进一步包括用于弹性接触基因测序反应小室300 载样片20上表面的温度感测装置61，以及对称设置的压力平衡装置62，所述温度感测装置61 和压力平衡装置62对称设置在第二反应凹槽两侧，且分别弹性抵压所述载样片20上表面，本实施例中，所述压力平衡装置62用于平衡温度感测装置61的弹性压力引起的载样片20的弹性形变，可以使反应通道的结构更加稳定。

所述固定装置400包括固定座410、转动架420、以及压紧座430，所述基因测序反应小室 300安装在固定座410上通过转动架420及压紧座410固定，反应小室300内部具有反应通道，反应小室300上还设置有与反应通道相连通的试剂入口和试剂出口；所述的转动架420通过转轴 415与所述固定座410转动连接。压紧座430可转动地设置在固定座410设置转轴415的另一端，通过转动方式打开转动架420将反应小室300放入固定座410对应的收容空间后，通过转动方式关闭转动架420，然后将压紧座430转动后抵紧转动架420的端部，以将反应小室300固定在固定座410对应的收容空间内。所述的转动架420上安装有入口连接管401和出口连接管402，入口连接管401与反应小室300的通过抵压件70与入口通孔301相对接，出口连接管402通过另一抵压件70与反应小室300的出口通孔302相对接，所述的入口连接管401和出口连接管402均通过管道与外部设备相连通，通过入口通孔301和入口连接管401向反应小室300的反应通道中通入试剂，在反应通道内进行基因测序反应，并通过出口通孔302和出口连接管402将反应后的试剂排出。

参考图23-34，一实施例中，所述接头2020弹性地安装至所述转动架420上，以方便接头 2020朝向抗压片30的端部能够弹性抵住抗压片30，避免抗压片30损坏或抗压片30各方向受力不均匀。本实施例中，所述接头2020大致呈柱状，其包括用于固定连接管402的端部，用于抵紧抗压片30的底部2022，以及连接端部2021和底部2022的收容部2023。所述端部2021设有用于固定卡簧的环形凹槽2025，所述底部2022直径略大于所述收容部2023和端部2021并形成台阶2026。转动架420上设置有对应端部2021外径的通孔，安装时将弹簧2024的一端从端部2021 套设至收容部2023并抵至所述台阶2026上，然后将端部2021穿过转动架420上对应的通孔，使弹簧2024的另一端抵住转动架420后被压缩，最后将卡簧2027固定在端部的环形凹槽2025内完成接头2020弹性安装至所述转动架420。使用状态时，接头2020端部2022能够弹性抵住抗压片 30。本实施例的替代实施方式中，所述抗压片30也可省略此时接头2020末端设置固定在端部 2022凹腔内的弹性密封圈结构，弹性密封圈直接抵压盖样片10。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (11)

1.一种基因测序反应小室，其特征在于：包括弹性透明盖样片、刚性透明载样片以及刚性透明的抗压片，所述盖样片夹设在所述载样片和所述抗压片之间；

所述盖样片上表面设置有试剂入口和试剂出口，所述盖样片的下表面设置有第二反应凹槽，所述试剂入口和试剂出口分别贯通所述第二反应凹槽的两端；

所述载样片和盖样片的下表面通过范德华力粘合，以将第二反应凹槽封闭成反应通道；

所述抗压片和盖样片的上表面通过范德华力粘合，所述抗压片对应试剂入口和试剂出口设置有入口通孔和出口通孔。

2.根据权利要求1所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述盖样片为硅胶片，载样片为玻璃片。

3.根据权利要求1所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述抗压片和盖样片形状相同，且面积小于载样片的面积。

4.根据权利要求1所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述第二反应凹槽的数量为两个，每个第二反应凹槽的两端对应设置有贯通盖样片上表面的试剂入口和试剂出口。

5.根据权利要求1所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述第二反应凹槽的两端还分别设置有圆形凹腔，且圆形凹腔分别与所述的试剂入口和试剂出口相连通，所述的圆形凹腔内设置有多个朝向所述载样片的凸柱，相邻的凸柱之间具有预设间隙。

6.根据权利要求5所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述的多个凸柱呈环状的设置在圆形凹腔内。

7.根据权利要求5所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述第二反应凹槽两端邻近圆形凹腔设置有凸块，所述凸块的宽度小于第二反应凹槽的宽度。

8.根据权利要求7所述的基因测序反应小室，其特征在于：所述凸块具有一上平面，所述盖样片的下表面贴合在载样片上时，所述的上平面即贴合在载样片的上表面，或者所述的上平面与载样片的上表面之间预留有间隙。

9.根据权利要求1所述的基因测序反应小室，其特征在于：进一步包括金属缓冲层和陶瓷加热片，所述金属缓冲层夹在所述加热片和所述载样片之间。

10.根据权利要求1所述的基因测序反应小室，其特征在于：进一步包括用于弹性接触基因测序反应小室载样片上表面的温度感测装置，以及对称设置的压力平衡装置，所述温度感测装置和压力平衡装置对称设置在第二反应凹槽两侧。

11.根据权利要求1所述的基因测序反应小室，其特征在于：进一步包括固定座、转动架、接头以及压紧座，所述基因测序反应小室安装在固定座上通过转动架及压紧座固定，所述接头弹性地安装至所述转动架上。