CN107530749A - 用于去除铸锭或轧材的表面的氧化皮的装置 - Google Patents

用于去除铸锭或轧材的表面的氧化皮的装置 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种用于清洁物体的表面的装置。这种类型的已知的装置具有带压力腔(1)的壳体(10)。借助于转子轴使喷嘴支架旋转,该喷嘴支架具有至少一个喷射嘴用于将压力介质喷到所述物体(20)的表面。在所述压力腔和所述喷嘴支架之间设有第一盘,该第一盘在一侧限定所述压力腔。为了避免在所述装置中以及在壳体中在所述压力腔之外出现大的轴向力,本发明规定,转子在所述转子轴旁边具有第一盘和第二盘(11、11a),所述第一盘和第二盘(11、11a)彼此具有轴向距离(d)地分别通过径向延伸部分固定在所述转子轴(12)上,其中,所述压力腔(1)在由所述两个盘跨越的间隙中延伸。

Description

用于去除铸锭或轧材的表面的氧化皮的装置
技术领域
本发明涉及一种用于清洁物体表面的装置,特别是用于去除轧材或铸锭、即轧制机中连铸坯一部分的氧化皮的装置。
背景技术
在现有技术中这种装置原则上已知,例如由奥地利专利文献AT406234B已知。该文献公开的装置包括壳体,在壳体中构造有用于压力介质的压力腔。经由输入管路给压力腔供给压力介质。转子轴借助于至少一个轴承可旋转地支承在壳体之内。在转子轴上固定有喷嘴支架,该喷嘴支架具有至少一个喷射嘴用于将压力介质喷到物体的表面上。在压力腔和喷嘴支架之间设有在一侧限定压力腔的第一盘。第一盘和喷嘴支架具有相互平齐的输送通道,用于将压力介质从压力腔输送到所述至少一个喷射嘴。
特别地当该已知的装置用于去除铸锭的氧化皮时,其被加载相对非常高的几百bar的压力,因为压力介质以该高压喷到铸锭上。
在所描述的已知的用于清洁铸锭的表面的装置中,存在如下缺点,由所描述的结构方式所决定,当旋转的喷嘴支架被加载用于其喷射嘴的压力介质时,其承受非常高的轴向力。在已知的装置中,该轴向力必须由壳体所承担,因此壳体不仅在压力腔的区域中而且在其他区域中必须相应构造得稳定且能承受负荷。
发明内容
以现有技术为出发点,基于本发明的目的在于,改进已知的用于清洁物体表面的装置,使得避免轴向力出现到旋转的喷嘴支架上。
该目的通过权利要求1的对象得以实现。根据本发明的装置的特征在于,转子在转子轴旁边具有第一盘和第二盘,第一盘和第二盘相对彼此有轴向距离地分别通过径向延伸部分固定在转子轴上,其中压力腔在由两个盘跨越的间隙中延伸,以及喷嘴支架在背离压力腔的一侧上固定在第一盘上。
通过在两个旋转盘之间形成压力腔,两个盘在压力腔被加载处于高压下的压力介质时分别被加载数值上相同的、但方向相反的轴向力。因为两个盘分别固定在转子轴上,作用到盘上的反向的力相抵消或这些力由转子轴吸收。特别是转子支架由于其固定在第一盘的背离压力腔的一侧上,有利地不再承受高的轴向力。由于所述的轴向力的吸收,仅壳体的沿径向方向限定压力腔的区域、两个盘以及设置在盘和壳体之间的可能的环形密封件还必须设计用于所述的高压;与迄今在现有技术中的情况相比,所要求的装置的所有其他远离压力腔布置的元件都可以实施得明显更轻和具有较少稳固性。
此外,在流动技术上产生优点,因为在没有转向的情况下引入处于高压下的介质。
根据本发明的第一实施例,设有至少一个环形密封件,用于相对于壳体或相对于密封衬套密封第一盘和第二盘,该密封衬套在所述盘之中的至少一个盘的高度上设置在壳体的壁中。如所述的,密封件必须设计用于高的压力负荷。当是这种情况时,密封件提高整个装置的效率。由于高的压力负荷,壳体在压力腔的区域中并且特别是在盘或环形密封件的高度上承受并非无足轻重的磨损。因此有利的是,壳体在该区域中具有密封衬套,该密封衬套在磨损情况下可相对轻松地进行更换,而不必在此时更换整个壳体。
根据另一实施例,在盘的高度上与转子轴同轴地且圆柱形地构造有盘和壳体或密封衬套的彼此对置的密封面。盘和壳体或密封衬套的密封面于是平行地对立。环形密封件可以固定到盘的密封面中或壳体的密封面中或密封衬套的密封面中。
由于非常高的压力,在盘的区域中不可总是确保压力腔通过环形密封件的密封。因此,根据本发明的装置在壳体之内在第二盘的背离压力腔的一侧上设置了一个空间,用于容纳压力介质,只要其可通过在分配给第二盘的环形密封件中的裂缝从压力腔漏出到所述空间中。在所述空间的区域中,壳体有利地具有隙孔用于使压力介质从该空间流出。
根据另一实施例,与压力腔接触的旋转部件在结构上接合成一个部件或构造为一件式。
为了保护用于转子轴的轴承免受压力介质,有利地,防喷件布置在所述空间的沿轴向方向与第二盘对置的一侧上。
喷嘴支架在第一盘上的可松开的固定具有如下优点:例如为了维护目的,喷嘴支架的可更换性得到简化。
用于转子轴的轴承例如构造为轴向轴承或径向轴承或组合的轴向和径向轴承。
第一盘和第二盘、环形密封件、转子轴在压力腔的区域中;以及壳体至少在其沿径向限定压力腔的区域中必须设计用于将压力介质引入压力腔并且应通过喷嘴施加到物体表面上的压力。对于铸锭去除氧化皮,该压力最高至1000bar,优选最高至600bar。
最后,必须设有驱动装置用于旋转驱动上面固定有两个盘的转子轴和旋转驱动上面固定有喷嘴支架。
附图说明
说明书附有两幅图,其中
图1示出了根据本发明的用于清洁物体表面的装置;以及
图2示出了根据本发明的装置的替代实施方式。
具体实施方式
下面参照所述的图以实施例的方式详细说明本发明。
图1示出了根据本发明的用于清洁物体20、例如应清洁掉氧化皮的铸锭的表面的装置。所述装置包括壳体10,在壳体中转子通过转子轴12支承在轴承6、6a中,轴承构造为径向或轴向轴承。第一盘11和第二盘11a分别以径向延伸和以相对于彼此的轴向距离d固定在转子轴12上。在第一盘和第二盘之间的间隙形成压力腔1,该压力腔可经由输入管路4用压力介质30、例如水填充。为了实现高压清洁,压力腔1的压力介质通常在例如600bar的高压下输送。压力腔1在轴向方向上通过两个盘11、11a限定,其在径向方向上通过壳体10限定。在第一盘和第二盘11、11a的区域中,压力腔1通过环形密封件2、2a密封。具体地,环形密封件2、2a用于密封在盘的呈边缘形式的彼此对置的密封面和对置的壳体部件或对置的引入到壳体壁中的密封衬套之间的环形间隙。盘边缘以及壳体或密封衬套的彼此对置的这种密封面例如构造为同轴的或圆柱形的,使得各个密封面平行地彼此对立。为了可以承受提及的例如几百bar的压力介质压力,第一盘11和第二盘11a、环形密封件2、2a、转子轴12至少在压力腔1的区域中,并且壳体至少在其径向地限定压力腔的区域中必须设计用于所述的压力。壳体10的其他部件、特别是在用于转子轴12的轴承6、6a的区域中,可以设计得更轻和具有较少稳固性,特别是因为在压力腔的区域中在加载压力介质时出现的高的轴向力由第一盘和第二盘或转子轴12(两个盘固定在该转子轴上)承担。
在第二盘11a的背离压力腔1的一侧上,在壳体10之内构造有空间13用于容纳压力介质30,只要其通过在分配给第二盘的环形密封件2a中可能的裂缝到达该空间13。为了将压力介质从该空间13引出,壳体具有隙孔5。
为了保护轴承6a,在空间13的沿轴向方向与第二盘11a对置的一侧上设置防喷件16。
驱动装置7用于转子轴12以及固定在该转子轴上的第一盘11和第二盘11a和喷嘴支架9的旋转驱动。
喷嘴支架9优选地可松开地固定在第一盘11的背离压力腔1的一侧上。喷嘴支架承载至少一个、通常为多个用于将压力介质喷到物体的表面上的喷射嘴。由于其与第一盘的联接,具有喷射嘴的喷嘴支架由转子轴12驱动旋转。为了从压力腔1给喷射嘴8供给压力介质30,第一盘11和喷嘴支架9具有相互对齐的输送通道3。
图2示出了根据本发明的装置的下部区域的剖视图。在此,旋转部件接合为一个部件。在本实施例中,旋转部件,即盘11和11a、转子轴12和喷嘴支架9形成一个制造技术上的单元。
在本实施例中示出了两个输入管路4用于将压力介质输入到压力腔1中。
附图标记列表
1 压力腔
2、2a 环形密封件
3 输送通道
4 输入管路
5 隙孔
6、6a 轴向轴承和/或径向轴承
7 驱动装置
8 喷射嘴
9 喷嘴支架
10 壳体
11、11a 盘
12 转子轴
13 用于泄漏水的空间
14、14a 密封衬套
15、15a 密封面
16 防喷件
20 物体、例如铸锭
30 压力介质

Claims (10)

1.用于清洁物体(20)的表面的装置,特别是用于去除铸锭或轧材的表面的氧化皮的装置,该装置具有:
壳体(10),
构造在所述壳体(10)中的压力腔(1),该压力腔具有用于压力介质(30)的至少一个输入管路(4);
具有转子轴(12)的转子,所述转子轴借助于至少一个轴承(6、6a)以能旋转的方式支承在所述壳体(10)中;
与所述转子联接的喷嘴支架(9),该喷嘴支架具有至少一个喷射嘴(8)用于将所述压力介质(30)喷到所述物体(20)的表面上;
支承在所述压力腔(1)和所述喷嘴支架(9)之间的、用于在一侧限定所述压力腔(1)的第一盘(11),其中,所述第一盘(11)和所述喷嘴支架(9)具有相互对齐的输送通道(3)用于将所述压力介质(30)从所述压力腔(1)输送到所述喷射嘴(8);
其特征在于,
所述转子在所述转子轴(12)旁边具有所述第一盘(11)和第二盘(11a);
所述第一盘和所述第二盘相对彼此有轴向距离(d)地分别通过径向延伸部分固定在所述转子轴(12)上,
其中,所述压力腔(1)在由所述两个盘(11、11a)跨越的间隙中延伸;以及
所述喷嘴支架(9)在背离所述压力腔(1)的一侧上固定在所述第一盘上。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,旋转部件(9、11a、11、12)在制造技术上连接成一个部件。
3.根据权利要求1或2所述的装置,其特征在于,至少各设置一个环形密封件(2、2a)用于相对于所述壳体(10)或相对于密封衬套(14、14a)密封所述第一盘(11)和第二盘(11a),所述密封衬套在所述盘之中的至少一个盘的高度上设置在所述壳体(10)的壁中。
4.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,
所述第一盘(11)和第二盘(11a)在其边缘处具有相对于所述转子轴同轴地构造的圆柱形的密封面(15、15a);
所述密封衬套(14、14a)或所述壳体(10)在所述盘的高度上同样具有相对于所述转子轴(12)同轴地构造的圆柱形的密封面,使得所述盘(11、11a)和所述壳体(10)或所述密封衬套(14、14a)的密封面优选平行地对立;以及
其中,所述环形密封件(2、2a)保持在所述盘的密封面(15、15a)中或者所述壳体(10)的密封面中或者所述密封衬套(14、14a)的密封面中。
5.根据权利要求3或4所述的装置,其特征在于,
在所述第二盘(11a)的背离所述压力腔(1)的一侧上在所述壳体(10)之内形成空间(13),用于容纳所述压力介质(30),只要所述压力介质通过在分配给所述第二盘的环形密封件(2a)中的裂缝达到所述空间(13)中;以及
所述壳体(10)具有隙孔(5)用于使所述压力介质从该空间(13)中流出。
6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,
用于所述转子轴(12)的轴承(6、6a)布置在所述空间(13)的沿轴向方向与所述第二盘(11a)对置的一侧上;以及
在所述轴承(6a)的面对所述空间(13)的一侧上设有防喷件(16)用于保护所述轴承(6a)免受所述空间(13)中的压力介质(30)。
7.根据上述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,所述喷嘴支架(9)能够以能松开的方式固定在所述第一盘(11)上。
8.根据上述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,用于所述转子轴的轴承(6、6a)为轴向轴承或径向轴承或组合的轴向和径向轴承。
9.根据上述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,所述第一盘(11)和所述第二盘(11a)、所述环形密封件(2、2a)、所述转子轴(12)至少在所述压力腔(1)的区域中、以及所述壳体至少在其沿径向限定所述压力腔(1)的区域中设计用于最高至1000bar、优选最高至600bar的压力。
10.根据上述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,设有驱动装置(7)用于旋转驱动所述转子轴(12)。
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