CN107523791A - 一种平底钻的镀膜工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明属于镀膜技术领域，具体涉及一种平底钻的镀膜工艺，在平底钻基体上间隔镀上若干着色层和透光层，镀膜的层数为10‑16层，其中第一层为着色层并且第二层为透光层，平底钻基体上镀奇数层；或第一层为透光层并且第二层为着色层，平底钻基体上镀偶数层。通过本发明的镀膜工艺制备的平底钻能在光照下呈现多彩艳丽的颜色。

Description

一种平底钻的镀膜工艺
技术领域
本发明属于镀膜技术领域，具体涉及一种平底钻的镀膜工艺。
背景技术
人们的日常生活总是离不开装饰品的点缀，它既可以让一个人变的更加高贵、年轻和漂亮，也可以使人居住生活的环境色彩斑斓、熠熠生辉，让人心旷神怡。真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术最先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等。后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。
为了让平底钻显示出五光十色的装饰效果，技术人员主要通过以下方法实现：一是渗入金属离子，如渗入钛或铁离子制备蓝宝石、渗入钴离子制备黄玉。但此方法需在非常高的温度下( 通常大于1500℃ )进行，而且特定的金属离子只对特定的宝石起作用，因此制备成本高昂，良品率低；二是引入放射性杂质，然后通过同步辐射或中子辐射产生颜色，如在黄玉中产生蓝色。此方法的缺点是需要经过很长时间的辐射冷却，否则高能放射线会对人体健康带来较大危害。三是在玻璃制品上沉积干涉膜，干涉膜一般由高折射率和较低折射率的透明介电薄膜交替形成。此方法虽然可以呈现各种颜色，但是因干涉效应源于薄膜光学厚度与对应光波长的严格匹配，因此需精确控制干涉膜中各薄膜的厚度，这给制备过程带来了极大的挑战。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种平底钻的镀膜工艺。
为解决上述技术问题，本发明采用如下的技术方案：
本发明的一种平底钻的镀膜工艺，在平底钻基体上间隔镀上若干着色层和透光层，镀膜的层数为10-16层，其中第一层为着色层并且第二层为透光层，平底钻基体上镀奇数层；或第一层为透光层并且第二层为着色层，平底钻基体上镀偶数层。
优选地，第一层膜的厚度为40-360nm，镀膜时间为50-72s。
优选地，第二层膜至最外层膜的厚度均为140-260nm，镀膜时间为28-52s。
优选地，着色层的材料为TiO2、Ti3O5和锌中的任意一种。
优选地，透光层的材料为SiO2、Al2O3和SiO中的任意一种。
优选地，镀膜过程的环境温度控制在70±10℃。
优选地，镀膜过程的真空度为0.5-2.5×10-2Pa。
优选地，当真空度为0.5×10-2Pa时，镀第一层所用的时间是72s，当真空度为2.5×10-2Pa时，镀第一层所用的时间是50s。
优选地，基体为高纤玻璃或普通玻璃。
采用本发明具有如下的有益效果：
1、通过本发明的镀膜工艺制备的平底钻能在光照下呈现多彩艳丽的颜色。
2、本发明的平底钻的镀膜工艺工艺简单，成本低廉。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明的一种平底钻的镀膜工艺，在平底钻基体上间隔镀上若干着色层和透光层，镀膜的层数为10-16层，其中第一层为着色层并且第二层为透光层，平底钻基体上镀奇数层；或第一层为透光层并且第二层为着色层，平底钻基体上镀偶数层。第一层膜的厚度为40-360nm，镀膜时间为50-72s。第二层膜至最外层膜的厚度均为140-260nm，镀膜时间为28-52s。着色层的材料为TiO2、Ti3O5和锌中的任意一种。透光层的材料为SiO2、Al2O3和SiO中的任意一种。镀膜过程的环境温度控制在70±10℃。镀膜过程的真空度为0.5-2.5×10-2Pa。当真空度为0.5×10-2Pa时，镀第一层所用的时间是72s，当真空度为2.5×10-2Pa时，镀第一层所用的时间是50s。基体为高纤玻璃或普通玻璃。
通过以上工艺所制备的平底钻在光照下呈现多彩、艳丽的颜色，以下通过几个具体的实施例来说明本发明的实施过程。
实施例1
本实施例的第一层膜为着色层，着色层的材料为TiO2，基体为普通玻璃；第二层膜为透光层，透光层的材料为SiO2；总计在平底钻基体上镀13层膜，镀膜过程的环境温度控制在66℃，真空度为0.5×10-2Pa，各膜层厚度、材料及其镀膜时间如下：
第一层膜的厚度为260nm，镀膜时间为72s，镀膜材料为TiO2，
第二层膜的厚度为140nm，镀膜时间为28s，镀膜材料为SiO2，
第三层膜的厚度为190nm，镀膜时间为38s，镀膜材料为TiO2，
第四层膜的厚度为255nm，镀膜时间为51s，镀膜材料为SiO2，
第五层膜的厚度为235nm，镀膜时间为47s，镀膜材料为TiO2，
第六层膜的厚度为200nm，镀膜时间为40s，镀膜材料为SiO2，
第七层膜的厚度为170nm，镀膜时间为34s，镀膜材料为TiO2，
第八层膜的厚度为160nm，镀膜时间为32s，镀膜材料为SiO2，
第九层膜的厚度为195nm，镀膜时间为39s，镀膜材料为TiO2，
第十层膜的厚度为230nm，镀膜时间为46s，镀膜材料为SiO2，
第十一层膜的厚度为185nm，镀膜时间为37s，镀膜材料为TiO2，
第十二层膜的厚度为245nm，镀膜时间为49s，镀膜材料为SiO2，
第十三层膜的厚度为155nm，镀膜时间为31s，镀膜材料为TiO2。
实施例2
本实施例的第一层膜为着色层，着色层的材料为TiO2，基体为高纤玻璃；
第二层膜为透光层，透光层的材料为Al2O3；总计在平底钻基体上镀11层膜，镀膜过程的环境温度控制在69℃，真空度为0.8×10-2Pa，各膜层厚度、材料及其镀膜时间如下：
第一层膜的厚度为280nm，镀膜时间为69s，镀膜材料为TiO2，
第二层膜的厚度为200nm，镀膜时间为40s，镀膜材料为Al2O3，
第三层膜的厚度为195nm，镀膜时间为39s，镀膜材料为TiO2，
第四层膜的厚度为255nm，镀膜时间为51s，镀膜材料为Al2O3，
第五层膜的厚度为235nm，镀膜时间为47s，镀膜材料为TiO2，
第六层膜的厚度为145nm，镀膜时间为29s，镀膜材料为Al2O3，
第七层膜的厚度为230nm，镀膜时间为46s，镀膜材料为TiO2，
第八层膜的厚度为160nm，镀膜时间为32s，镀膜材料为Al2O3，
第九层膜的厚度为180nm，镀膜时间为36s，镀膜材料为TiO2，
第十层膜的厚度为230nm，镀膜时间为46s，镀膜材料为Al2O3，
第十一层膜的厚度为260nm，镀膜时间为52s，镀膜材料为TiO2。
实施例3
本实施例的第一层膜为着色层，着色层的材料为TiO2，基体为普通玻璃；第二层膜为透光层，透光层的材料为SiO；总计在平底钻基体上镀15层膜，镀膜过程的环境温度控制在63℃，真空度为1×10-2Pa，各膜层厚度、材料及其镀膜时间如下：
第一层膜的厚度为240nm，镀膜时间为64s，镀膜材料为TiO2，
第二层膜的厚度为140nm，镀膜时间为28s，镀膜材料为SiO，
第三层膜的厚度为165nm，镀膜时间为33s，镀膜材料为TiO2，
第四层膜的厚度为255nm，镀膜时间为51s，镀膜材料为SiO，
第五层膜的厚度为235nm，镀膜时间为47s，镀膜材料为TiO2，
第六层膜的厚度为145nm，镀膜时间为29s，镀膜材料为SiO，
第七层膜的厚度为190nm，镀膜时间为38s，镀膜材料为TiO2，
第八层膜的厚度为160nm，镀膜时间为32s，镀膜材料为SiO，
第九层膜的厚度为180nm，镀膜时间为36s，镀膜材料为TiO2，
第十层膜的厚度为225nm，镀膜时间为45s，镀膜材料为SiO，
第十一层膜的厚度为260nm，镀膜时间为52s，镀膜材料为TiO2，
第十二层膜的厚度为185nm，镀膜时间为37s，镀膜材料为SiO，
第十三层膜的厚度为145nm，镀膜时间为29s，镀膜材料为TiO2，
第十四层膜的厚度为235nm，镀膜时间为47s，镀膜材料为SiO，
第十五层膜的厚度为250nm，镀膜时间为50s，镀膜材料为TiO2。
实施例4
本实施例的第一层膜为透光层，透光层的材料为SiO2，基体为高纤玻璃；第二层膜为着色层，着色层的材料为TiO2；总计在平底钻基体上镀12层膜，镀膜过程的环境温度控制在60℃，真空度为1.5×10-2Pa，各膜层厚度、材料及其镀膜时间如下：
第一层膜的厚度为300nm，镀膜时间为59s，镀膜材料为SiO2，
第二层膜的厚度为160nm，镀膜时间为32s，镀膜材料为TiO2，
第三层膜的厚度为260nm，镀膜时间为52s，镀膜材料为SiO2，
第四层膜的厚度为185nm，镀膜时间为37s，镀膜材料为TiO2，
第五层膜的厚度为180nm，镀膜时间为36s，镀膜材料为SiO2，
第六层膜的厚度为225nm，镀膜时间为45s，镀膜材料为TiO2，
第七层膜的厚度为230nm，镀膜时间为46s，镀膜材料为SiO2，
第八层膜的厚度为205nm，镀膜时间为41，镀膜材料为TiO2，
第九层膜的厚度为200nm，镀膜时间为40s，镀膜材料为SiO2，
第十层膜的厚度为235nm，镀膜时间为47s，镀膜材料为TiO2，
第十一层膜的厚度为260nm，镀膜时间为52s，镀膜材料为SiO2，
第十二层膜的厚度为255nm，镀膜时间为51s，镀膜材料为TiO2。
实施例5
本实施例的第一层膜为透光层，透光层的材料为SiO2，基体为高纤玻璃；第二层膜为着色层，着色层的材料为Ti3O5；总计在平底钻基体上镀14层膜，镀膜过程的环境温度控制在75℃，真空度为2.5×10-2Pa，各膜层厚度、材料及其镀膜时间如下：
第一层膜的厚度为360nm，镀膜时间为50s，镀膜材料为SiO2，
第二层膜的厚度为240nm，镀膜时间为48s，镀膜材料为Ti3O5，
第三层膜的厚度为210nm，镀膜时间为42s，镀膜材料为SiO2，
第四层膜的厚度为185nm，镀膜时间为37s，镀膜材料为Ti3O5，
第五层膜的厚度为180nm，镀膜时间为36s，镀膜材料为SiO2，
第六层膜的厚度为175nm，镀膜时间为35s，镀膜材料为Ti3O5，
第七层膜的厚度为230nm，镀膜时间为46s，镀膜材料为SiO2，
第八层膜的厚度为215nm，镀膜时间为43，镀膜材料为Ti3O5，
第九层膜的厚度为200nm，镀膜时间为40s，镀膜材料为SiO2，
第十层膜的厚度为235nm，镀膜时间为47s，镀膜材料为Ti3O5，
第十一层膜的厚度为260nm，镀膜时间为52s，镀膜材料为SiO2，
第十二层膜的厚度为255nm，镀膜时间为51s，镀膜材料为Ti3O5，
第十三层膜的厚度为145nm，镀膜时间为29s，镀膜材料为SiO2，
第十四层膜的厚度为165nm，镀膜时间为33s，镀膜材料为Ti3O5。
实施例6
本发明的第一层膜为透光层，透光层的材料为SiO2，基体为普通玻璃； S20，在第一层膜的基础上镀第二层镀膜，第二层膜为着色层，着色层的材料为锌；总计在平底钻基体上镀16层膜，镀膜过程的环境温度控制在75℃，真空度为2.0×10-2Pa，各膜层厚度、材料及其镀膜时间如下：
第一层膜的厚度为360nm，镀膜时间为50s，镀膜材料为SiO2，
第二层膜的厚度为165nm，镀膜时间为33s，镀膜材料为锌，
第三层膜的厚度为145nm，镀膜时间为29s，镀膜材料为SiO2，
第四层膜的厚度为185nm，镀膜时间为37s，镀膜材料为锌，
第五层膜的厚度为165nm，镀膜时间为33s，镀膜材料为SiO2，
第六层膜的厚度为200nm，镀膜时间为40s，镀膜材料为锌，
第七层膜的厚度为255nm，镀膜时间为51s，镀膜材料为SiO2，
第八层膜的厚度为140nm，镀膜时间为28，镀膜材料为锌，
第九层膜的厚度为200nm，镀膜时间为40s，镀膜材料为SiO2，
第十层膜的厚度为235nm，镀膜时间为47s，镀膜材料为锌，
第十一层膜的厚度为195nm，镀膜时间为38s镀膜材料为SiO2，
第十二层膜的厚度为180nm，镀膜时间为36s，镀膜材料为锌，
第十三层膜的厚度为160nm，镀膜时间为32s，镀膜材料为SiO2，
第十四层膜的厚度为260nm，镀膜时间为52s，镀膜材料为锌，
第十五层膜的厚度为235nm，镀膜时间为47s，镀膜材料为SiO2，
第十六层膜的厚度为165nm，镀膜时间为33s，镀膜材料为锌。
应当理解，本文所述的示例性实施例是说明性的而非限制性的。本领域普通技术人员应当理解，在不脱离通过所附权利要求所限定的本发明的精神和范围的情况下，可以做出各种形式和细节的改变。

Claims (9)

1.一种平底钻的镀膜工艺，其特征在于，在平底钻基体上间隔镀上若干着色层和透光层，镀膜的层数为10-16层，其中第一层为着色层并且第二层为透光层，平底钻基体上镀奇数层；或第一层为透光层并且第二层为着色层，平底钻基体上镀偶数层。
2.根据权利要求1所述的平底钻的镀膜工艺，其特征在于，第一层膜的厚度为40-360nm，镀膜时间为50-72s。
3.根据权利要求1所述的平底钻的镀膜工艺，其特征在于，第二层膜至最外层膜的厚度均为140-260nm，镀膜时间为28-52s。
4.根据权利要求1-3任一所述的平底钻的镀膜工艺，其特征在于，所述着色层的材料为TiO2、Ti3O5和锌中的任意一种。
5.根据权利要求4 所述的平底钻的镀膜工艺，其特征在于，所述透光层的材料为SiO2、Al2O3和SiO中的任意一种。
6.根据权利要求1-3和5任一所述的平底钻的镀膜工艺，其特征在于，镀膜过程的环境温度控制在70±10℃。
7.根据权利要求1-3和5任一所述的平底钻的镀膜工艺，其特征在于，所述镀膜过程的真空度为0.5-2.5×10-2Pa。
8.根据权利要求7所述的平底钻的镀膜工艺，其特征在于，当真空度为0.5×10-2Pa时，镀第一层所用的时间是72s，当真空度为2.5×10-2Pa时，镀第一层所用的时间是50s。
9.根据权利要求1-3任一所述的平底钻的镀膜工艺，其特征在于，基体为高纤玻璃或普通玻璃。
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