CN107500566A - 一种耐磨防指纹磨砂玻璃及其制备方法 - Google Patents

一种耐磨防指纹磨砂玻璃及其制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种耐磨防指纹磨砂玻璃，包括依次接触的磨砂玻璃基材、SiO2层、含氢DLC层和防指纹层。本发明在AG玻璃表面，通过膜层结构设计，首先制备高硬度、高耐磨性的DLC层，然后再在DLC层表面制备一层防指纹AF层。通过该复合膜层，提高磨砂玻璃的耐刮性、耐磨性和防指纹的特性。本发明还提供了一种耐磨防指纹磨砂玻璃的制备方法，本发明针对不同材质的膜层，采用不同的镀膜方法，同时调整镀膜参数，提高了产品的耐磨性。

Description

一种耐磨防指纹磨砂玻璃及其制备方法
技术领域
本发明属于膜技术领域，尤其涉及一种耐磨防指纹磨砂玻璃及其制备方法。
背景技术
磨砂玻璃，即AG玻璃，又叫抗反射玻璃和防眩光玻璃，英文名为Anti-glareglass，是通过机械或化学的方法对玻璃表面进行特殊加工的一种玻璃。其特点是使原玻璃反光表面变为哑光无反射表面(表面凹凸不平)，让观赏者能体验到更佳的感官视觉。AG玻璃光泽度大小不同，应用领域不同，光泽度越高，透过率越高，可以应用在显示设备的前盖板，减少光反射；光泽度低，磨砂感更强，适用于电子产品的后盖及一些装饰件，提高使用手感和视觉感。然而AG玻璃薄表面凹凸不平，粗糙度很大，这使得磨砂玻璃的耐磨效果很差，在一定程度上限制了其使用性能。
发明内容
本发明的目的在于提供一种耐磨防指纹磨砂玻璃及其制备方法，本发明中的磨砂玻璃具有较好的耐磨性、耐刮性和防指纹特性。
本发明提供一种耐磨防指纹磨砂玻璃，包括依次接触的磨砂玻璃基材、SiO2层、含氢DLC层和防指纹层。
优选的，所述SiO2层的厚度为30～100nm。
优选的，所述含氢DLC层的厚度为3～15nm。
优选的，所述防指纹层包括硅氧化合物过渡层和硅氟化合物层；所述硅氧化合物过渡层与所述含氢DLC层相接触；
所述硅氟化合物层的厚度为2～50nm；所述硅氧化合物过渡层的厚度为8～50nm。
本发明提供一种耐磨防指纹磨砂玻璃的制备方法，包括以下步骤：
A)以Si为靶材，通入Ar气和O2，在真空条件下对磨砂玻璃基材进行磁控溅射，得到镀有SiO2层的磨砂玻璃；
B)以石墨为靶材，通入Ar气和H2，在真空条件下对镀有SiO2层的磨砂玻璃进行磁控溅射，得到镀有含氢DLC层的磨砂玻璃；
C)在真空条件下，先以Si为靶材，采用磁控溅射在镀有含氢DLC层的磨砂玻璃表面制备硅氧化合物过渡层，再使用硅氟化合物溶液或药丸在所述硅氧化合物过渡层上进行真空蒸镀制备硅氟化合物层，得到耐磨防指纹磨砂玻璃。
优选的，所述步骤A)中真空度为(3.0～6.0)E-6mTorr；
Ar气的流量为45～120sccm；O2的流量为10～60sccm。
优选的，所述磁控溅射的镀膜气压为3.0～9.0mTorr；
所述磁控溅射的镀膜电压为300～460V；
所述磁控溅射的镀膜时间为15～60s；
所述Si靶的功率为1.0～6.0kW。
优选的，所述步骤B)中真空度为(3.0～6.0)E-6mTorr；
Ar气的流量为25～45sccm；H2的流量为10～30sccm。
优选的，所述步骤B)中所述磁控溅射的镀膜气压为3.0～6.0mTorr；
所述磁控溅射的镀膜电压为600～800V；
所述磁控溅射的镀膜时间为15～50s；
所述C靶的功率为5.0～8.0kW。
优选的，所述步骤C)中的真空度为(4.0～6.0)E-6Torr；
所述步骤C)中Si靶的功率为1.0～7.0kW；
所述步骤C)中磁控溅射的镀膜时间为5～30min；
所述步骤C)中真空蒸镀的镀膜时间为3～20min。
本发明提供一种耐磨防指纹磨砂玻璃，包括依次接触的磨砂玻璃基材、SiO2层、含氢DLC层和防指纹层。本发明在AG玻璃表面，通过膜层结构设计，首先制备高硬度、高耐磨性的DLC层，然后再在DLC层表面制备一层防指纹AF层。通过该复合膜层，提高磨砂玻璃的耐刮性、耐磨性和防指纹的特性。
本发明还提供了一种耐磨防指纹磨砂玻璃的制备方法，本发明针对不同材质的膜层，采用不同的镀膜方法，同时调整镀膜参数，提高了产品的耐磨性。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本发明耐磨防指纹磨砂玻璃的结构示意图。
具体实施方式
本发明提供一种耐磨防指纹磨砂玻璃，包括依次接触的磨砂玻璃基材、SiO2层、含氢DLC层和防指纹层。
本发明耐磨防指纹磨砂玻璃的结果如图1所示，图1为本发明耐磨防指纹磨砂玻璃的结构示意图。
在本发明中，所述磨砂玻璃基材为常用的磨砂玻璃基材，本发明对此没有特殊的限制。所述磨砂玻璃基材的厚度没有特殊的限制，根据具体使用的需求，选择合适厚度的磨砂玻璃即可。
在本发明中，所述SiO2层的主要成分为SiO2，含有少量的Si成分，其中SiO2的含量优选为90～98％，更优选为92～96％；所述SiO2层的厚度优选为30～100nm，更优选为50～80nm。在本发明中，SiO2层的作用是提高含氢DLC层和磨砂玻璃基材的结合力，同时提高产品整体的耐摩擦性能和耐刮性。
在本发明中，所述含氢DLC层的主要成分为金刚石结构的SP3杂化碳原子和石墨结构的SP2杂化碳原子相互混杂的三维网络构成，还有部分C-H键成分，是一种亚稳态长程无序的非晶材料。所述含氢DLC层的厚度优选为3～15nm，更优选为5～10nm。所述含氢DLC层具有很高的光学透过率、而且硬度高、抗刮伤能力强，耐磨性好，能够有效提高膜层的耐刮性能和耐摩擦性能。
在本发明中，所述防指纹层(AF层)包括打底的硅氧化合物过渡层和硅氟化合物层；所述硅氧化合物过渡层与所述含氢DLC层相接触；所述硅氟化合物可以是十七氟葵基三乙氧基硅烷；所述硅氟化合物层的厚度优选为2～50nm，更优选为3～40nm，最优选为5～30nm；所述打底的硅氧化合物过渡层的厚度优选为8～50nm，更优选为10～40nm，最优选为15～35nm。所述防指纹层的作用是提高膜层的疏水性和耐磨性。
本发明还提供了一种耐磨防指纹磨砂玻璃的制备方法，包括以下步骤：
A)以Si为靶材，通入Ar气和O2，在真空条件下对磨砂玻璃基材进行磁控溅射，得到镀有SiO2层的磨砂玻璃；
B)以石墨为靶材，通入Ar气和H2，在真空条件下对镀有SiO2层的磨砂玻璃进行磁控溅射，得到镀有含氢DLC层的磨砂玻璃；
C)在真空条件下，先以Si为靶材，采用磁控溅射在镀有含氢DLC层的磨砂玻璃表面制备硅氧化合物过渡层，再使用硅氟化合物溶液或硅氟化合物药丸在所述硅氧化合物过渡层上进行真空蒸镀制备硅氟化合物层，得到耐磨防指纹磨砂玻璃。
本发明优选对磨砂玻璃基材先进行除尘、去油清洁，以获得干净的镀膜表面。
将清洁后的磨砂玻璃放入磁控溅射设备腔室内，进行抽真空处理，真空度优选为3.0～6.0E-6mTorr，更优选为4.0～5.0E-6mTorr，然后以Si为靶材，通入Ar气和O2，进行磁控溅射镀SiO2膜。所述Ar的的流量优选为45～120sccm，更优选为50～110sccm，最优选为60～100sccm；所述O2的流量优选为10～60sccm，更优选为20～50sccm，最优选为25～45sccm。所述镀膜的气压优选为3.0～9.0mTorr，更优选为4.0～8.0mTorr，最优选为5.0～7.5mTorr；所述镀膜的电压优选为300～460V，更优选为350～450V，最优选为380～420V；所述镀膜时间优选为15～60s，更优选为20～50s，最优选为30～40s；所述Si靶的功率优选为1.0～6.0kW，更优选为2.0～5.0kW。
然后将镀好SiO2膜的样品传送至另一真空腔室内镀含氢DLC层，首先进行抽真空处理，所述真空度优选为3.0～6.0E-6mTorr，更优选为4.0～5.0E-6mTorr，然后以石墨为靶材，通入Ar气和H2，进行磁控溅射镀含氢DLC膜。所述Ar的的流量优选为25～45sccm，更优选为30～35sccm；所述H2的流量优选为10～30sccm，更优选为12～25sccm，最优选为15～20sccm。所述镀膜的气压优选为3.0～6.0mTorr，更优选为3.5～5.5mTorr，最优选为4.0～5.0mTorr；所述镀膜的电压优选为600～800V，更优选为680～760V；所述镀膜时间优选为15～50s，更优选为30～45s；所述C靶的功率优选为5.0～8.0kW，更优选为6.0～7.5kW，最优选为6.0、6.5或8kW。
完成所述含氢DLC层的磁控溅射镀膜后，先以Si靶为溅射靶材，通入Ar气和O2气，采用磁控溅射制备8～50nm的硅氧化物过渡层，其中硅靶功率优选为1.0～7.0kW，更优选为2.0～6.0kW，最优选为3.0～5.0kW；所述Ar气和O2气的气流量范围均优选为80～220sccm，更优选为100～200sccm，最优选为120～180sccm；所述磁控溅射的镀膜时间优选为5～30min，更优选为10～25min，最优选为15～20min。
硅氧化合物过渡层完成后，将其样品放入真空蒸镀设备的真空腔室内，进行抽真空达到4.0～6.0E-6Torr，更优选为5.0E-6Torr，采用阻蒸加热方式将硅氟化合物溶液或药丸进行蒸镀形成防指纹层，蒸镀时间优选为3～20min，更优选为5～15min，最优选为10～12min。
本发明提供一种耐磨防指纹磨砂玻璃，包括依次接触的磨砂玻璃基材、SiO2层、含氢DLC层和防指纹层。本发明在AG玻璃表面，通过膜层结构设计，首先制备高硬度、高耐磨性的DLC层，然后再在DLC层表面制备一层防指纹AF层。通过该复合膜层，提高磨砂玻璃的耐刮性、耐磨性和防指纹的特性。
本发明还提供了一种耐磨防指纹磨砂玻璃的制备方法，本发明针对不同材质的膜层，采用不同的镀膜方法，同时调整镀膜参数，提高了产品的耐磨性。
为了进一步说明本发明，以下结合实施例对本发明提供的一种耐磨防指纹磨砂玻璃及其制备方法进行详细描述，但不能将其理解为对本发明保护范围的限定。
实施例1
AG表面进行去尘、去油清洁，获得干净的镀膜表面。基体放入磁控溅射设备腔室，进行抽真空处理，真空度在3.0～6.0E-6mTorr，以Si靶为靶材，通入Ar流量100sccm，O2流量为45sccm，镀膜气压7.5mTorr，硅靶功率5000W，镀膜电压420V左右，镀膜时间15s，制备SiO2过渡层。然后将样品传送至另一真空腔室镀含氢DLC膜层，真空度在3.0～6.0E-6mTorr，通入Ar气流量为30sccm，H2气流量为12sccm，C靶功率6.0KW，镀膜气压3.5mTorr，镀膜电压680V，镀膜时间30s。接着将样品放入真空蒸镀设备，抽真空达到5.0E-6Torr，利用溅射法制备20nm左右的过渡层，然后蒸发镀AF层时间为8min。
本发明按照以下方法测试产品性能：
耐刮性：利用钢珠划刻待测膜层，钢珠直径为3.18mm，以点接触形式接触膜层表面，载荷7.5N，以循环往复方式进行摩擦，往复一个运动周期计数1次，统计膜层不受损的可摩擦次数。
耐摩擦性：采用磨耗机进行测试，摩擦材料为0000#钢丝绒，摩擦头面积2×2cm，载荷1kg，以循环往复方式进行摩擦，往复一个运动周期计数1次，摩擦一定次数后利用电子水滴接触角测试仪测试水滴角大小，将2ul的纯净水滴在样品表面，测试仪器通过高清镜头进行水滴成像，并自动测试水滴接触角大小，以水滴角大于100°且膜层表面无摩擦痕迹为标准测试膜层的耐摩擦次数。
经上述测试，本实施例中产品的耐刮次数30～40次，耐摩擦次数2500～3000次。
实施例2
AG表面进行去尘、去油清洁，获得干净的镀膜表面。基体放入磁控溅射设备腔室，进行抽真空处理，真空度在3.0～6.0E-6mTorr，以Si靶为靶材，通入Ar流量100sccm，O2流量为45sccm，镀膜气压7.5mTorr，硅靶功率5000W，镀膜电压420V左右，镀膜时间30s制备SiO2过渡层。然后将样品传送至另一真空腔室镀含氢DLC膜层，真空度在3.0～6.0E-6mTorr，通入Ar气流量为30sccm，H2气流量为15sccm，C靶功率6.5KW，镀膜气压3.5mTorr，镀膜电压680V，镀膜时间30s。接着将样品放入真空蒸镀设备，抽真空达到5.0E-6Torr，利用溅射法制备20nm左右的过渡层，然后蒸发镀AF层时间为8min。经测试耐刮次数35～50次，耐摩擦次数3000～4000次。
实施例3
AG表面进行去尘、去油清洁，获得干净的镀膜表面。基体放入磁控溅射设备腔室，进行抽真空处理，真空度在3.0～6.0E-6mTorr，以Si靶为靶材，通入Ar流量100sccm，O2流量为45sccm，镀膜气压7.5mTorr，硅靶功率5000W，镀膜电压420V左右，镀膜时间30s制备SiO2过渡层。然后将样品传送至另一真空腔室镀含氢DLC膜层，真空度在3.0～6.0E-6mTorr，通入Ar气流量为30sccm，H2气流量为15sccm，C靶功率8.0KW，镀膜气压4.0mTorr，镀膜电压760V，镀膜时间45s。接着将样品放入真空蒸镀设备，抽真空达到5.0E-6Torr，利用溅射法制备30nm左右的过渡层，然后蒸发镀AF层时间为8min。经测试耐刮次数45～60次，耐摩擦次数3500～5000次。
比较例1
AG表面进行去尘、去油清洁，获得干净的镀膜表面。基体放入磁控溅射设备腔室，进行抽真空处理，真空度在3.0～6.0E-6mTorr，以Si靶为靶材，通入Ar流量40sccm，O2流量为8sccm，镀膜气压3.5mTorr，硅靶功率1000W，镀膜电压420V左右，镀膜时间15s制备SiO2过渡层。然后将样品传送至另一真空腔室镀含氢DLC膜层，真空度在3.0～6.0E-6mTorr，通入Ar气流量为30sccm，H2气流量为15sccm，C靶功率6.5KW，镀膜气压4.0mTorr，镀膜电压680V，镀膜时间15s。接着将样品放入真空蒸镀设备，抽真空达到5.0E-6Torr，利用溅射法制备20nm左右的过渡层，然后蒸发镀AF层时间为8min。经测试耐刮次数25～30次，耐摩擦次数2000～2500次。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种耐磨防指纹磨砂玻璃，包括依次接触的磨砂玻璃基材、SiO2层、含氢DLC层和防指纹层。
2.根据权利要求1所述的耐磨防指纹磨砂玻璃，其特征在于，所述SiO2层的厚度为30～100nm。
3.根据权利要求1所述的耐磨防指纹磨砂玻璃，其特征在于，所述含氢DLC层的厚度为3～15nm。
4.根据权利要求1所述的耐磨防指纹磨砂玻璃，其特征在于，所述防指纹层包括硅氧化合物过渡层和硅氟化合物层；所述硅氧化合物过渡层与所述含氢DLC层相接触；
所述硅氟化合物层的厚度为2～50nm；所述硅氧化合物过渡层的厚度为8～50nm。
5.一种耐磨防指纹磨砂玻璃的制备方法，包括以下步骤：
A)以Si为靶材，通入Ar气和O2，在真空条件下对磨砂玻璃基材进行磁控溅射，得到镀有SiO2层的磨砂玻璃；
B)以石墨为靶材，通入Ar气和H2，在真空条件下对镀有SiO2层的磨砂玻璃进行磁控溅射，得到镀有含氢DLC层的磨砂玻璃；
C)在真空条件下，先以Si为靶材，采用磁控溅射在镀有含氢DLC层的磨砂玻璃表面制备硅氧化合物过渡层，再使用硅氟化合物溶液或药丸在所述硅氧化合物过渡层上进行真空蒸镀制备硅氟化合物层，得到耐磨防指纹磨砂玻璃。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述步骤A)中真空度为(3.0～6.0)E-6mTorr；
Ar气的流量为45～120sccm；O2的流量为10～60sccm。
7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述步骤A)中磁控溅射的镀膜气压为3.0～9.0mTorr；
所述磁控溅射的镀膜电压为300～460V；
所述磁控溅射的镀膜时间为15～60s；
所述Si靶的功率为1.0～6.0kW。
8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述步骤B)中真空度为(3.0～6.0)E-6mTorr；
Ar气的流量为25～45sccm；H2的流量为10～30sccm。
9.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述步骤B)中所述磁控溅射的镀膜气压为3.0～6.0mTorr；
所述磁控溅射的镀膜电压为600～800V；
所述磁控溅射的镀膜时间为15～50s；
所述C靶的功率为5.0～8.0kW。
10.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述步骤C)中的真空度为(4.0～6.0)E-6Torr；
所述步骤C)中Si靶的功率为1.0～7.0kW；
所述步骤C)中磁控溅射的镀膜时间为5～30min；
所述步骤C)中真空蒸镀的镀膜时间为3～20min。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108642461A (zh) * 2018-04-23 2018-10-12 维沃移动通信有限公司 一种外壳的制造方法和外壳
CN109402588A (zh) * 2018-12-29 2019-03-01 商丘金振源电子科技有限公司 基于磨砂表面的防指纹镀膜制品及防指纹镀膜方法
CN110077090A (zh) * 2019-05-16 2019-08-02 东莞市金材五金有限公司 一种用于耐摩擦防指纹覆膜的生产方法
CN110760798A (zh) * 2018-07-27 2020-02-07 比亚迪股份有限公司 电子产品壳体及其制备方法
CN110903037A (zh) * 2019-12-02 2020-03-24 浙江星星科技股份有限公司 一种耐汗抗磨炫彩3d玻璃面板及其表面的镀膜方法
CN110922064A (zh) * 2018-09-19 2020-03-27 东莞新科技术研究开发有限公司 一种抗磨损玻璃及其制备方法
CN111676452A (zh) * 2020-06-29 2020-09-18 哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司 一种高效镀超硬膜的方法
CN112746255A (zh) * 2019-10-30 2021-05-04 东莞新科技术研究开发有限公司 一种类金刚石膜玻璃的制备方法
WO2022126934A1 (zh) * 2020-12-18 2022-06-23 广东小天才科技有限公司 一种防眩光板和终端设备

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105204685A (zh) * 2015-09-22 2015-12-30 何颜玲 一种抗刮抗指纹触摸屏及其制备方法
CN205847790U (zh) * 2016-07-15 2016-12-28 信利光电股份有限公司 一种盖板
CN106282935A (zh) * 2015-05-15 2017-01-04 新科实业有限公司 具有类金刚石涂层的材料及其制备方法
WO2017022638A1 (ja) * 2015-07-31 2017-02-09 日産化学工業株式会社 モバイルディスプレイ機器のカバーガラス等に好適なガラス基板
CN106947940A (zh) * 2017-04-24 2017-07-14 信利光电股份有限公司 一种类金刚石薄膜及其制备方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106282935A (zh) * 2015-05-15 2017-01-04 新科实业有限公司 具有类金刚石涂层的材料及其制备方法
WO2017022638A1 (ja) * 2015-07-31 2017-02-09 日産化学工業株式会社 モバイルディスプレイ機器のカバーガラス等に好適なガラス基板
CN105204685A (zh) * 2015-09-22 2015-12-30 何颜玲 一种抗刮抗指纹触摸屏及其制备方法
CN205847790U (zh) * 2016-07-15 2016-12-28 信利光电股份有限公司 一种盖板
CN106947940A (zh) * 2017-04-24 2017-07-14 信利光电股份有限公司 一种类金刚石薄膜及其制备方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108642461A (zh) * 2018-04-23 2018-10-12 维沃移动通信有限公司 一种外壳的制造方法和外壳
CN110760798A (zh) * 2018-07-27 2020-02-07 比亚迪股份有限公司 电子产品壳体及其制备方法
CN110922064A (zh) * 2018-09-19 2020-03-27 东莞新科技术研究开发有限公司 一种抗磨损玻璃及其制备方法
CN109402588A (zh) * 2018-12-29 2019-03-01 商丘金振源电子科技有限公司 基于磨砂表面的防指纹镀膜制品及防指纹镀膜方法
CN110077090A (zh) * 2019-05-16 2019-08-02 东莞市金材五金有限公司 一种用于耐摩擦防指纹覆膜的生产方法
CN112746255A (zh) * 2019-10-30 2021-05-04 东莞新科技术研究开发有限公司 一种类金刚石膜玻璃的制备方法
CN110903037A (zh) * 2019-12-02 2020-03-24 浙江星星科技股份有限公司 一种耐汗抗磨炫彩3d玻璃面板及其表面的镀膜方法
CN111676452A (zh) * 2020-06-29 2020-09-18 哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司 一种高效镀超硬膜的方法
WO2022126934A1 (zh) * 2020-12-18 2022-06-23 广东小天才科技有限公司 一种防眩光板和终端设备

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