CN107475676A - 一种防着板 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种防着板，包括母板，设有溅射区；防着条，组装于所述母板上并将所述溅射区分为多个相互独立的溅射分区；其中，基板具有相互分隔的膜沉积区，每一所述溅射分区对应于一膜沉积区，所述防着条对应于所述膜沉积区之间的间隙，当所述基板溅射成膜时，靶材通过所述溅射分区在所述膜沉积区上沉积并形成膜层。
Description
技术领域
本发明涉及膜等领域，具体为一种防着板。
背景技术
随着大尺寸面板的发展，需要，玻璃基板翘曲也会随之变大。
玻璃基板翘曲变大，在传送过程中，机械臂上的吸盘无法将之完全吸住，导致破片风险增大。
当成膜后翘曲较大的玻璃基板，经过黄光制程、刻蚀制程，形成图案后，膜层应力释放，翘曲减小。但需要将导电金属膜层加厚才能满足面板响应速度的需求；而将金属膜层加厚会导致压力增大。
在真空溅镀沉积的过程中，溅射出的靶材原子或大尺寸的颗粒，会最终飞向溅射机的内壁表面，影响其清洁。为此，在溅射机的结构中加入了防着板，常规的防着板装置设计在反应室内除玻璃基板外可溅射到的区域，一般为靶材四周及玻璃基板四周区域。
发明内容
本发明的目的是：提供一种防着板，能够使基板上按照预先设定的膜沉积区成多个相互独立的膜层，以解决现有技术中存在的缺陷。
实现上述目的的技术方案是：一种防着板，包括母板，设有溅射区；防着条，组装于所述母板上并将所述溅射区分为多个相互独立的溅射分区；其中，基板具有相互分隔的膜沉积区，每一所述溅射分区对应于一膜沉积区，所述防着条对应于所述膜沉积区之间的间隙，当所述基板溅射成膜时，靶材通过所述溅射分区在所述膜沉积区上沉积并形成膜层。
在本发明一较佳实施例中，当所述基板溅射成膜时，所述基板和所述防着板之间距离为0.5mm-1.5mm。
在本发明一较佳实施例中，所述膜层的分布区域吻合于所述膜沉积区。
在本发明一较佳实施例中，所述防着条的宽度为1cm-2cm。
在本发明一较佳实施例中，所述防着条的宽度小于所述膜沉积区之间的间隙。
在本发明一较佳实施例中，所述母板和所述防着条的所用材料为导电能力好且不易变形的金属材料。
在本发明一较佳实施例中，所述金属材料为铝质材料或铝合金材料。
在本发明一较佳实施例中，所述基板为玻璃基板。
本发明的优点是：本发明的防着板，能够使在玻璃基板上沉积得到的膜层独立分块，独立分块的膜层可以有效释放膜层应力，降低玻璃基板的翘曲度，有效的解决了进行较厚膜层的沉积时玻璃基板翘曲度大的问题；例如在730mm*920mm的基板上沉积8000埃的Cu膜时，利用此防着板可将玻璃基板翘曲度由0.38mm降低至0.25mm。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明作进一步解释。
图1是本发明实施例的防着板结构示意图。
图2是本发明实施例的基板结构示意图。
图3是发明实施例的基板与防着板组装示意图。
其中，
11母板； 12防着条；
121第一条体； 122第二条体；
13溅射分区； 2基板；
21膜沉积区； 22间隙。
具体实施方式
以下实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「顶」、「底」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。
实施例，如图1所示，一种防着板，包括母板11、防着条12。
本实施例中，所述母板11的中部设有溅射区；所述防着条12组装于所述母板11上并将所述溅射区分为多个相互独立的溅射分区13。
其中，本实施例中，该防着条12包括第一条体121和第二条体122，所述第一条体121和第二条体122成“十”字交叉设置组成网格状的防着条12。第一条体121和第二条体122的两端设有螺丝孔，第一条体121和第二条体122通过该螺丝孔和螺丝组装在母板11上。
所述母板11和所述防着条12的所用材料为导电能力好且不易变形的金属材料。所述金属材料为铝质材料或铝合金材料。
本实施例中，如图2所示，所述基板2为玻璃基板，该玻璃基板具有相互分隔的膜沉积区21，该膜沉积区21成矩阵式布置，膜沉积区21之间存在一间隙22。每一所述溅射分区13对应于一膜沉积区21，所述防着条12对应于所述膜沉积区21之间的间隙22。
本实施例中，所述防着条12的宽度小于所述膜沉积区21之间的间隙22。具体的，该防着条12的宽度设置为1cm-2cm。优选为1.5cm。
如图3所示，当所述基板2溅射成膜时，所述基板2和所述防着板之间距离为0.5mm-1.5mm。靶材通过所述溅射分区13在所述膜沉积区21上沉积并形成膜层。所述膜层的分布区域吻合于所述膜沉积区21。
具体实施时，在玻璃基板上分布网格状的膜沉积区21，每个膜沉积区21之间会均匀分布有一定间距距离，膜沉积区21之间这段间距区域可不用进行膜层沉积，故成膜时，可将这块区域用防着板进行遮挡，依据膜沉积区21分布图形，设计防着板装置，此防着板和常规防着板的区别在于，防着板中间设计有1cm-2cm宽的防着条12，防着条12分两种长度(第一条体121和第二条体122)，分别比玻璃基板长宽尺寸大1cm左右，防着条12两端开有螺丝孔，可通过螺丝固定在母板11上，根据玻璃基板上实际分布的膜沉积区21状况进行设计。
成膜时，将防着板置于玻璃基板和靶材之间，玻璃基板需要沉积膜层的区域暴露在外，而不需要沉积膜层的区域则会被所设计的防着板遮挡。故没有被防着板遮挡的区域会沉积所需的膜层，而被防着板遮挡部分则不会成膜，得到和设计膜沉积区21分布吻合的膜层的分布区。
本实施例中的玻璃基板上沉积得到的膜层是独立分块的，如此可以释放膜层应力，降低玻璃基板的翘曲度，解决进行较厚膜层的沉积时玻璃基板翘曲度大的问题。例如在7300mm*920mm的基板上沉积8000埃的Cu膜时，利用此方法可将玻璃基板翘曲度由0.38mm降低至0.25mm。
以上仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种防着板，其特征在于，包括
母板，设有溅射区；
防着条，组装于所述母板上并将所述溅射区分为多个相互独立的溅射分区；
其中，基板具有相互分隔的膜沉积区，每一所述溅射分区对应于一膜沉积区，所述防着条对应于所述膜沉积区之间的间隙，当所述基板溅射成膜时，靶材通过所述溅射分区在所述膜沉积区上沉积并形成膜层。
2.根据权利要求1所述的防着板，其特征在于，当所述基板溅射成膜时，所述基板和所述防着板之间距离为0.5mm-1.5mm。
3.根据权利要求1所述的防着板，其特征在于，所述膜层的分布区域吻合于所述膜沉积区。
4.根据权利要求1所述的防着板，其特征在于，所述防着条的宽度为1cm-2cm。
5.根据权利要求1或4所述的防着板，其特征在于，所述防着条的宽度小于所述膜沉积区之间的间隙。
6.根据权利要求1所述的防着板，其特征在于，所述母板和所述防着条的所用材料为导电能力好且不易变形的金属材料。
7.根据权利要求6所述的防着板，其特征在于，所述金属材料为铝质材料或铝合金材料。
8.根据权利要求1所述的防着板，其特征在于，所述基板为玻璃基板。
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