CN107301969A - 一种喷涂式刻蚀槽 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种喷涂式刻蚀槽，包括刻蚀槽、水泵以及喷嘴，刻蚀槽的内侧壁上对称设置有固定板，固定板中开设有滑槽，滑槽内活动设置有滑块，滑块中开设有安装槽，安装槽内侧壁上固定有定轴，且喷嘴通过管道与水泵连通，刻蚀槽侧壁上固定有固定环，所述安装柱上固定有移动环，所述固定环与移动环通过连接线相连；所述刻蚀槽安装有固定板的内侧壁上水平设置有滚轮。本发明通过喷嘴和水泵的配合，可以很好的完成刻蚀液对硅片侧壁的喷涂，可以针对不同尺寸的硅片进行喷涂，非常方便，使得硅片在扩散面背面刻蚀的过程中，完成对硅片侧壁的刻蚀，在节约了大量时间的同时，还可以提高硅片刻蚀质量，十分有效。
Description
技术领域
本发明涉及硅片刻蚀技术领域，具体为一种喷涂式刻蚀槽。
背景技术
太阳能电池片的制造过程需要经过很多个步骤，其中对硅片的刻蚀工艺也是必不可少的一部分，硅片在刻蚀过程中，需要使用刻蚀液对硅片除了扩散面以外的所有面进行刻蚀。
现有技术中，常用的刻蚀槽均采用粘液滚轮，来对硅片进行刻蚀，通过粘液滚轮将刻蚀液粘在滚轮上，然后滚轮将刻蚀液传递到硅片上完成刻蚀，但是这种方式存在一个较为明显的缺陷：采用粘液滚轮的方式对硅片进行刻蚀时，使得硅片的侧壁无法很好的进行刻蚀，从而导致了硅片在刻蚀过程中，无法很好的将除了扩散面以外的其余面均刻蚀到，也就容易造成硅片刻蚀质量下降的情况。
发明内容
本发明的目的在于提供一种喷涂式刻蚀槽，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种喷涂式刻蚀槽，包括刻蚀槽、水泵以及喷嘴，所述刻蚀槽的内侧壁上对称设置有固定板，所述固定板中开设有滑槽，所述滑槽内活动设置有滑块，所述滑块中开设有安装槽，所述安装槽内侧壁上固定有定轴，所述定轴上活动连接有安装柱；
所述喷嘴固定于安装柱上，且喷嘴通过管道与水泵连通，所述刻蚀槽侧壁上固定有固定环，所述安装柱上固定有移动环，所述固定环与移动环通过连接线相连；
所述刻蚀槽安装有固定板的内侧壁上水平设置有滚轮。
优选的，每个所述喷嘴对应连接于一个水泵上。
优选的，所述水泵设置于支撑板上，所述支撑板固定于刻蚀槽外侧壁上。
优选的，所述滚轮上固定套设有限位轮。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
本发明的喷嘴通过水泵的作用，可以喷涂出刻蚀液对硅片的侧壁进行刻蚀，滑槽和滑块的作用，可以用来调节喷嘴的水平位置，以针对不同长度的硅片进行刻蚀；而且安装喷嘴的固定柱与定轴转动连接，可以通过调节连接线的长度，来调整喷嘴向下喷涂刻蚀液的角度，以针对不同厚度的硅片进行刻蚀，从而使得喷嘴可以很好的将刻蚀液喷涂到硅片的侧壁上，而且可以防止刻蚀液喷涂到扩散面上对硅片造成损坏。
本发明通过喷嘴和水泵的配合，可以很好的完成刻蚀液对硅片侧壁的喷涂，而且通过对喷嘴的水平位置以及喷液角度的调节，可以针对不同尺寸的硅片进行喷涂，非常方便，使得硅片在扩散面背面刻蚀的过程中，完成对硅片侧壁的刻蚀，在节约了大量时间的同时，还可以提高硅片刻蚀质量，十分有效。
附图说明
图1为本发明刻蚀槽的结构示意图；
图2为本发明的固定板结构示意图；
图3为本发明的滑块结构示意图；
图4为实施例中喷嘴对硅片的喷涂角度示意图。
图中：1刻蚀槽、2水泵、21支撑板、3固定板、4滑槽、5滑块、6安装槽、7定轴、8安装柱、9喷嘴、10固定环、11移动环、12连接线、13滚轮、14硅片、15限位轮。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-4，本发明提供一种技术方案：
一种喷涂式刻蚀槽，包括刻蚀槽1、水泵2以及喷嘴9，刻蚀槽1内装有刻蚀液，刻蚀槽1的内侧壁上对称设置有固定板3，固定板3作为安装基座，会接触到刻蚀液，所以需要在固定板3上设置有防酸液腐蚀层。
固定板3中开设有滑槽4，滑槽4内活动设置有滑块5，滑块5可以在滑槽4内自由移动，滑槽4的滑道对滑块5进行限位，可以防止滑块5从滑槽4内掉出，滑块5中开设有安装槽6，安装槽6内侧壁上固定有定轴7，定轴7的两端固定插接在安装槽6的侧壁上，定轴7本身不会转动，移动在定轴7上活动连接有安装柱8，安装柱8与定轴7之间采用铰接的方式，使得安装柱8可以绕着定轴7转动，实现对安装柱8的转动调节，通过滑块5的移动，从而带动定轴7进行移动，也就实现了安装柱8的左右移动，即带动喷嘴9左右移动。
喷嘴9固定于安装柱8上，喷嘴9安装在安装柱8远离定轴7的一端，如说明书附图4所示，喷嘴9安装后的喷液方向朝向硅片14，且喷嘴9通过管道与水泵2连通，使得水泵2向喷嘴9输送刻蚀液，且每个喷嘴9对应连接于一个水泵2上，水泵2从TANK槽内进行抽液，采用单一水泵2对应只对一个喷嘴9进行供液，使得喷嘴9之间相互不干扰。
作为一个优选，使水泵2设置于支撑板21上，支撑板21固定于刻蚀槽7外侧壁上，这样方便水泵2的设置与固定，而且可以节约水泵2与喷嘴9之间的连接管道的长度，非常有效。
刻蚀槽1侧壁上固定有固定环10，固定环10安装在刻蚀槽1的侧壁上表面，安装柱8上固定有移动环11，移动环11安装在固定柱8靠近固定环10的一侧侧壁上，固定环10与移动环11通过连接线12相连，连接线12的长度可调节，且连接线12对固定柱8起到一个拉持作用，如说明书附图4所示，当需要对硅片14进行喷涂时，调节连接线12的长度，使得固定柱8绕着定轴7开始转动，带动着喷嘴9形成一个向下的喷液角度，也就使喷嘴9喷出的刻蚀液可以刚好喷涂到硅片14侧壁的最上端，从而实现对硅片14侧壁更好的喷涂效果。
刻蚀槽1安装有固定板3的内侧壁上水平设置有滚轮13，滚轮13设置有多排，更加方便硅片14的运输，滚轮13上固定套设有限位轮15，限位轮15之间的间隔距离用来放置硅片14，对硅片14进行调节限位，防止硅片14发生左右晃动，也就有效的防止了喷嘴9喷出的液体喷涂到硅片14的扩散面上。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (4)
1.一种喷涂式刻蚀槽，包括刻蚀槽(1)、水泵(2)以及喷嘴(9)，其特征在于：所述刻蚀槽(1)的内侧壁上对称设置有固定板(3)，所述固定板(3)中开设有滑槽(4)，所述滑槽(4)内活动设置有滑块(5)，所述滑块(5)中开设有安装槽(6)，所述安装槽(6)内侧壁上固定有定轴(7)，所述定轴(7)上活动连接有安装柱(8)；
所述喷嘴(9)固定于安装柱(8)上，且喷嘴(9)通过管道与水泵(2)连通，所述刻蚀槽(1)侧壁上固定有固定环(10)，所述安装柱(8)上固定有移动环(11)，所述固定环(10)与移动环(11)通过连接线(12)相连；
所述刻蚀槽(1)安装有固定板(3)的内侧壁上水平设置有滚轮(13)。
2.根据权利要求1所述的一种喷涂式刻蚀槽，其特征在于：每个所述喷嘴(9)对应连接于一个水泵(2)上。
3.根据权利要求1所述的一种喷涂式刻蚀槽，其特征在于：所述水泵(2)设置于支撑板(21)上，所述支撑板(21)固定于刻蚀槽(7)外侧壁上。
4.根据权利要求1所述的一种喷涂式刻蚀槽，其特征在于：所述滚轮(13)上固定套设有限位轮(15)。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112490156A (zh) * | 2020-11-27 | 2021-03-12 | 宣城睿晖宣晟企业管理中心合伙企业(有限合伙) | 一种异质结太阳能电池片的加工装置及加工方法 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050205207A1 (en) * | 2004-03-19 | 2005-09-22 | Gaku Minamihaba | Polishing apparatus and method for manufacturing semiconductor device |
| US20060081338A1 (en) * | 2004-10-19 | 2006-04-20 | Ho-Jin Choi | Spinning apparatus |
| US20080254640A1 (en) * | 2007-04-10 | 2008-10-16 | Yi-Wei Chen | Method of removing material layer and remnant metal |
| CN101750897A (zh) * | 2008-11-28 | 2010-06-23 | 细美事有限公司 | 供应处理液的单元以及使用该单元处理基材的设备和方法 |
| CN103618020A (zh) * | 2013-10-18 | 2014-03-05 | 浙江晶科能源有限公司 | 一种硅太阳能电池生产中的湿刻蚀方法 |
| CN104183524A (zh) * | 2014-08-27 | 2014-12-03 | 上海华力微电子有限公司 | 一种晶圆边缘的刻蚀装置 |
| CN206153725U (zh) * | 2016-11-06 | 2017-05-10 | 长城鑫瑞鑫通讯设备集团有限公司 | 一种立式多角度半自动火焰等离子切割机 |
| CN206992063U (zh) * | 2017-08-14 | 2018-02-09 | 通威太阳能（安徽）有限公司 | 一种喷涂式刻蚀槽 |
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Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050205207A1 (en) * | 2004-03-19 | 2005-09-22 | Gaku Minamihaba | Polishing apparatus and method for manufacturing semiconductor device |
| US20060081338A1 (en) * | 2004-10-19 | 2006-04-20 | Ho-Jin Choi | Spinning apparatus |
| US20080254640A1 (en) * | 2007-04-10 | 2008-10-16 | Yi-Wei Chen | Method of removing material layer and remnant metal |
| CN101750897A (zh) * | 2008-11-28 | 2010-06-23 | 细美事有限公司 | 供应处理液的单元以及使用该单元处理基材的设备和方法 |
| CN103618020A (zh) * | 2013-10-18 | 2014-03-05 | 浙江晶科能源有限公司 | 一种硅太阳能电池生产中的湿刻蚀方法 |
| CN104183524A (zh) * | 2014-08-27 | 2014-12-03 | 上海华力微电子有限公司 | 一种晶圆边缘的刻蚀装置 |
| CN206153725U (zh) * | 2016-11-06 | 2017-05-10 | 长城鑫瑞鑫通讯设备集团有限公司 | 一种立式多角度半自动火焰等离子切割机 |
| CN206992063U (zh) * | 2017-08-14 | 2018-02-09 | 通威太阳能（安徽）有限公司 | 一种喷涂式刻蚀槽 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112490156A (zh) * | 2020-11-27 | 2021-03-12 | 宣城睿晖宣晟企业管理中心合伙企业(有限合伙) | 一种异质结太阳能电池片的加工装置及加工方法 |
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