CN107215852A - 一种利用石墨烯和氮化硼纳米片制备硼碳氮纳米片的方法 - Google Patents
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Abstract
一种利用石墨烯和氮化硼纳米片制备硼碳氮纳米片的方法,包括以下步骤:(1)将石墨烯和BNNSs按比例混合均匀,形成混合物;(2)将混合物在气氛保护或者真空环境下,800℃~1200℃反应0.5~12小时;(3)待反应产物冷却至室温,在空气中400℃~600℃煅烧4~8小时,待煅烧产物冷却至室温后,清洗干燥处理,即得到硼碳氮纳米片。该方法以石墨烯和BNNSs作为原料经煅烧制备硼碳氮纳米片,原料廉价易得,反应条件方便可控,需要的设备比较简单,产物中碳元素含量可控,易于实现低成本大批量生产,制备程序简单,有利于提高产率,降低成本,对环境友好,可以从根本上消除对环境的污染和毒害,有利于环境保护。
Description
技术领域
本发明涉及一种利用石墨烯和氮化硼纳米片作为原料制备硼碳氮(BCN)纳米片的方法,属于BCN纳米材料制备技术领域。
背景技术
近年来,各种各样的碳(C)材料受到人们的广泛关注。除了零维的富勒烯和一维的碳纳米管以外,二维结构的石墨烯也是人们的研究重点。石墨烯不仅因其自身结构和性能的优点实现了在很多领域的应用,而且引发了研究其它二维材料的热潮。六方氮化硼(小时~BN)同样作为一种二维层状材料,也越来越受到人们的关注。虽然小时~BN和石墨具有类似的结构,并有“白石墨”的称号,但是小时~BN和石墨的物理化学性能差异很大。例如,石墨烯通常被认为是一种零带隙半导体,而小时~BN则是一种绝缘体。正因为拥有相似的结构,可以通过向石墨烯中掺杂B、N原子,或者向BN纳米片中掺杂C原子来实现材料的改性,得到性能优异的BCN材料。BCN纳米片的性质可以通过调节纳米片中B、C和N元素的比例进行调控。因此,BCN纳米结构具有非常广阔的应用前景。
从目前的研究成果可以看出,BCN纳米片的制备方法主要有两种:一种是采用化学气相沉积的方法(L.Ci,L.Song,C.Jin,D.Jariwala,D.Wu,Y.Li,A.Srivastava,Z.F.Wang,K.Storr,L.Balicas,F.Liu and P.M.Ajayan,Nat.Mater.,2010,9,430.),另一种是采用硼源、碳源和氮源等进行固相合成(小时uang C,C小时en C,Z小时ang M,et al.Carbon~doped BN nanos小时eets for metal~free p小时otoredox catalysis[J].Naturecommunications,2015,6:7698)。
到目前为止,所有制备方法均无法实现BCN纳米片的大量制备,并且无论是化学气相沉积还是固相合成均需要非常高的实验温度(>1000℃),实验过程难以控制。
发明内容
针对现有硼碳氮纳米片制备技术存在的上述问题,本发明提出一种对环境无毒,反应条件温和,制备产率高的利用石墨烯和氮化硼纳米片制备硼碳氮纳米片的方法。
本发明的利用石墨烯和氮化硼纳米片制备硼碳氮纳米片的方法,包括以下步骤:
(1)将石墨烯和BNNSs按摩尔百分比为1~99%:99~1%的比例混合均匀,形成混合物;
(2)将混合物在气氛保护或者真空环境下,800℃~1200℃反应0.5~12小时。
(3)待反应产物冷却至室温,在空气中400℃~600℃煅烧4~8小时,待煅烧产物冷却至室温后,清洗干燥处理,即得到硼碳氮纳米片。
步骤(1)中的石墨烯和BNNSs来源不限于商业生产的二维片层,还包含采用球磨、超声剥离和化学处理等方法剥离的鳞片石墨、膨胀石墨和h-BN粉末等。
步骤(2)中的气氛保护环境是在氮气或氩气等保护环境。
步骤(2)中的真空环境是相对压力-0.1MPa至-0.001Mpa的真空环境。
步骤(2)中的升温速度为5℃/分钟~10℃/分钟。
步骤(3)中的升温速度为5℃/分钟~10℃/分钟。
本发明的方法以石墨烯和BNNSs作为原料经煅烧制备BCN纳米片,原料廉价易得,反应条件方便可控,需要的设备比较简单,产物中碳元素含量可控,易于实现低成本大批量生产。具有如下优点:
1.成本低。所用原料为石墨烯和BNNSs或者上块体石墨和氮化硼,制备程序简单,有利于提高产率,降低成本。
2、反应条件温和。反应过程中的各种参数(温度、压力、比例等)易于控制,能够更容易研究反应机理,找出最关键的影响因素,尽快稳定工艺条件。
3、对环境友好,可以从根本上消除对环境的污染和毒害,有利于环境保护。
附图说明
图1是本发明制备的BCN纳米片的扫描电镜图片。
图2是本发明制备的BCN纳米片的透射电镜图片。
图3是本发明制备的BCN纳米片的原子力显微镜照片。
图4是本发明制备的BCN纳米片的红外光谱。
具体实施方式
实施例1
(1)称量石墨烯0.1g,BNNSs 0.1g,两者摩尔百分比为50%:50%。共同放入研钵中,研磨均匀。
(2)将混合均匀的混合物转移至陶瓷舟中,并放入管式炉内。在氮气气氛保护下,以5℃/min的升温速度升至800℃,并保温2小时。
(3)待温度降至室温后,将产物取出并放入马弗炉中,设置500℃,升温速率为5℃/min并保温6小时。
(4)待产物冷却至室温后,将产物用乙醇清洗干净并干燥处理,即可得到BCN纳米片。
本实施例制备的BCN纳米片的扫描电镜图片如图1所示,透射电镜图片如图2所示,原子力显微镜如图3所示,BCN纳米片与BN纳米片的红外光谱对比如图4所示。
实施例2
如实施例1所述,不同之处在于:步骤(1)中石墨烯0.01g,BNNSs 0.99g。两者摩尔百分比为1%:99%。
实施例3
如实施例1所述,不同之处在于:步骤(1)中石墨烯0.99g,BNNSs 0.01g。两者摩尔百分比为99%:1%。
实施例4
如实施例1所述,不同之处在于:步骤(2)中升温速率设置为10℃/min。
实施例5
如实施例1所述,不同之处在于:步骤(2)中温度设置为1000℃。
800℃~1200℃反应0.5~12小时。
实施例6
如实施例1所述,不同之处在于:步骤(2)中温度设置为1200℃。
实施例7
如实施例1所述,不同之处在于:步骤(2)中氮气气氛保护换为氩气气氛保护。
实施例8
如实施例1所述,不同之处在于:步骤(2)中氮气气氛保护换为相对压力-0.01Mpa的真空条件。
实施例9
如实施例1所述,不同之处在于:步骤(2)中氮气气氛保护换为相对压力-0.1Mpa的真空条件。
实施例10
如实施例1所述,不同之处在于:步骤(2)中氮气气氛保护换为相对压力-0.001Mpa的真空条件。
实施例11
如实施例1所述,不同之处在于:步骤(2)中保温时间设为0.5小时。
实施例12
如实施例1所述,不同之处在于:步骤(2)中保温时间设为12小时。
实施例13
如实施例1所述,不同之处在于:步骤(3)中温度设为400℃。
实施例14
如实施例1所述,不同之处在于:步骤(3)中温度设为600℃。
实施例15
如实施例1所述,不同之处在于:步骤(3)中保温时间设为4小时。
实施例16
如实施例1所述,不同之处在于:步骤(3)中保温时间设为6小时。
实施例17
(1)称量鳞片石墨0.5g,h-BN粉末0.5g,两者摩尔百分比为50%:50%。然后共同加入球磨罐中,球磨处理得到混合均匀的石墨烯和BN纳米片混合物。
(2)将石墨烯和BN纳米片混合物转移至陶瓷舟中,并放入管式炉内。在氩气气氛保护下,以8℃/min的升温速度升至1000℃,并保温6小时。
(3)待温度降至室温后,将产物去除气氛保护,并继续在管式炉中高温煅烧,设置升温速率为7℃/min,并在500℃保温6小时。
(4)待产物冷却至室温后,将产物用去离子水清洗干净并干燥处理,即可得到BCN纳米片。
实施例18
如实施例17所述,不同之处在于:步骤(1)中的鳞片石墨换为膨胀石墨。
实施例19
(1)称量鳞片石墨0.1g,h-BN粉末0.1g,两者摩尔百分比为50%:50%。然后共同加入去离子水中,超声处理得到混合均匀的石墨烯和BN纳米片混合物。
(2)将石墨烯和BN纳米片混合物转移至陶瓷舟中,并放入管式炉内。在真空环境下,以10℃/min的升温速度升至1200℃,并保温12小时。
(3)待温度降至室温后,将产物暴露在空气中,并继续在管式炉中高温煅烧,设置升温速率为10℃/min,并在600℃保温8小时。
(4)待产物冷却至室温后,将产物用去离子水清洗干净并干燥处理,即可得到BCN纳米片。
实施例20
如实施例19所述,不同之处在于:步骤(1)中的鳞片石墨换为膨胀石墨。
Claims (5)
1.一种利用石墨烯和氮化硼纳米片制备硼碳氮纳米片的方法,其特征是,包括以下步骤:
(1)将石墨烯和BNNSs按摩尔百分比为1~99%:99~1%的比例混合均匀,形成混合物;
(2)将混合物在气氛保护或者真空环境下,800℃~1200℃反应0.5~12小时。
(3)待反应产物冷却至室温,在空气中400℃~600℃煅烧4~8小时,待煅烧产物冷却至室温后,清洗干燥处理,即得到硼碳氮纳米片。
2.根据权利要求1所述的利用石墨烯和氮化硼纳米片制备硼碳氮纳米片的方法,其特征是,所述步骤(2)中的气氛保护是指氮气或氩气保护。
3.根据权利要求1所述的利用石墨烯和氮化硼纳米片制备硼碳氮纳米片的方法,其特征是,步骤(2)中的真空环境是相对压力-0.1MPa至-0.001Mpa的真空环境。
4.根据权利要求1所述的利用石墨烯和氮化硼纳米片制备硼碳氮纳米片的方法,其特征是,步骤(2)中的升温速度为5℃/分钟~10℃/分钟。
5.根据权利要求1所述的利用石墨烯和氮化硼纳米片制备硼碳氮纳米片的方法,其特征是,步骤(3)中的升温速度为5℃/分钟~10℃/分钟。
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