CN107171652B - 一种石英晶片的化砣工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种石英晶片的化砣工艺，工艺包括将晶片砣放到筛网中，再将筛网放置到清洗篮上，再将清洗篮放到盛装有化砣液的容器中，并使化砣液浸没晶片砣，开启超声波清洗机，当超声波清洗机的水槽内水温达到70～80℃时，将组件二放入水中；同时打开超声波开关，超声60～70分钟；本发明通过上述工艺及上述化砣液对晶片砣进行化砣操作过程中，由于化砣液成份环保，安全性较高，处理完毕后，废液不会对环境产生污染，且上述工艺与传统的化砣工艺相比，反应效率高，处理后晶片清洁度较高。
Description
技术领域
本发明属于晶振制造领域，具体地说是指一种石英晶片的化砣工艺。
背景技术
石英晶体振荡器(简称晶振)是一种高精度和高稳定度的振荡器，被广泛应用于彩电、计算机、遥控器等各类振荡电路中，以及通信系统中用于频率发生器、为数据处理设备产生时钟信号和为特定系统提供基准信号。
石英晶体振荡器是利用石英晶体(二氧化硅的结晶体)的压电效应制成的一种谐振器件，它的基本结构大致是从一块石英晶体上按一定方位角切下薄片(简称为晶片，它可以是正方形、矩形或圆形等)，在它的两个对应面上镀敷银层作为电极，然后将镀有电极的晶片通过点胶夹具用绝缘胶、导电银胶粘贴在支架上，让镀银晶片固定在支架两引线之间，使其两面电极分别与支架两引线连接，再加上封装外壳就构成了石英晶体谐振器，简称为石英晶体或晶体、晶振。
石英晶片制造过程中需要将多个薄片(或叫频率片、晶片)用粘合剂粘合在一起形成晶砣(块状)再进行切砣、磨砣。而加工结束后，需要化砣操作，即将频率片的粘结剂除去，使晶片发生分离，同时却除保护玻璃条。
目前的石英晶片的化砣液(或化砣剂)有的采用双氧水和硫酸进行化砣操作，有的是采用硝酸或浓硫酸或氢氧化钠，并且只是简单将晶片砣浸入到化砣液中进行化砣操作，化砣处理的清洁度较低，同时由于化砣液腐蚀性较强，不环保，安全性较差，反应效率较低，化砣处理完毕后产生的废液对环境污染严重。
发明内容
本发明为了克服现有技术之不足，提出了一种石英晶片的化砣工艺。
一种石英晶片的化砣工艺，包括如下步骤：
步骤一、准备带有保护玻璃条的晶片砣；
步骤二、将晶片砣放到筛网中，再将筛网放置到清洗篮上，筛网底部呈悬空状搁置在清洗篮上方，晶片砣、筛网和清洗篮构成组件一；
步骤三、将组件一放到盛装有化砣液的容器中，并使化砣液浸没晶片砣，并盖上容器上盖，构成组件二；
步骤四、开启超声波清洗机，当超声波清洗机的水槽内水温达到70～80℃时，将组件二放入水中；同时打开超声波开关，超声60～70分钟；
步骤五、从超声波清洗机中取出组件二，此时已分离的晶片从筛网中漏出，落在清洗篮中，玻璃条仍旧留在筛网中，将装有玻璃条的筛网从清洗篮上取下，再将装有晶片的清洗篮从容器中取出并沥干化砣液，再将晶片连同清洗篮放在流水中清洗3～5分钟，流水水温保持在30-40度；
步骤六、将装有晶片的清洗篮放入到装有清水的容器中，将容器放到超声波清洗机中，用30-40度的温水超洗10～20分钟；
步骤七、取出清洗篮连同晶片用温水漂洗2～3分钟；
步骤八、将装有晶片的清洗篮沥干水，放入钢盆,用酒精脱水,再放入甩干机甩干，甩干后的晶片放入烘箱烘烤10～30分钟。
步骤九、确认烘干后,将晶片和筛网的玻璃条分别装袋送至检验。
更进一步的，按重量份计，所述化砣液包括：聚氧乙醚35～50份，无机盐9～15份，助溶剂30～40份，助剥离剂6～12份。
更进一步的，按重量份计，所述化砣液包括：聚氧乙醚40～45份，无机盐10～13份，助溶剂32～36份，助剥离剂9～11份。
更进一步的，按重量份计，所述化砣液包括：聚氧乙醚43份，无机盐12份，助溶剂35份，助剥离剂10份。
更进一步的，所述助溶剂为二丙二醇丁醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、丙二醇甲醚中的至少一种。
更进一步的，所述助剥离剂为含磺酸钠基团的阴离子型表面活性剂、聚氧乙烯型非离子表面活性剂中的至少一种。
更进一步的，含磺酸钠基团的阴离子型表面活性剂为十六烷基磺酸钠，α-烯烃磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠、琥珀酸二异辛酯磺酸钠中的至少一种。
更进一步的，聚氧乙烯型非离子表面活性剂为辛基酚聚氧乙烯醚和壬基酚聚氧乙烯醚中的至少一种。
更进一步的，所述筛网为不锈网材质构件。
本发明的有益效果在于，本发明通过上述多次超声波工艺及上述化砣液对晶片砣进行化砣操作过程中，由于化砣液成份环保，安全性较高，处理完毕后，废液不会对环境产生污染，且上述工艺与传统的化砣工艺相比，反应效率高，处理后晶片清洁度较高。
附图说明
图1为带玻璃条的晶片砣的结构示意图。
图2为将晶片砣装入筛网的结构示意图。
图3为组件一的结构示意图。
图4为组件二的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图给出本发明较佳实施例，以详细说明本发明的技术方案。
本工艺需要用到操作设备有筛网1、清洗篮2、带有上盖31的容器3、超声波清洗机(图中未示出)，其中筛网1为不锈网材质构件，筛网底部设置有网孔，网孔的大小在玻璃条102与晶片101之间，所以当晶片101与玻璃条102之间粘胶剂被化砣液30清洗后，两者互相分离，晶片101由于比网孔小，会漏到下方的清洗篮2中，而玻璃条102仍就会留在筛网1内，其中清洗篮2是由过滤网布及支撑骨架组成，化砣液和水都能够透过过滤网布浸入到清洗篮2内对晶片101进行清洗；其中超声波清洗机为现有技术，其结构在此不做赘述。
实施例1
(1)准备带有保护玻璃条的晶片砣100；(2)将晶片砣100放到筛网1中，如图1，再将筛网1放置到清洗篮2上，筛网1底部呈悬空状搁置在清洗篮2上方，晶片砣100、筛网1和清洗篮2构成组件一；如图2所示；(3)将组件一放到盛装有化砣液30的容器3中，并使化砣液30浸没晶片砣100，并盖上容器上盖31，构成组件二，如图3所示；其中，化砣液由聚氧乙醚43份，无机盐12份(氯化钠)，助溶剂35份(二丙二醇丁醚)，助剥离剂10(十六烷基磺酸钠)份组成。(4)开启超声波清洗机，当超声波清洗机的水槽内水温达到70℃时，将组件二放入水中；同时打开超声波开关，超声60分钟；(5)从超声波清洗机中取出组件二，此时已分离的晶片从筛网中漏出，落在清洗篮中，玻璃条仍旧留在筛网中，将装有玻璃条的筛网从清洗篮上取下，再将装有晶片的清洗篮从容器中取出并沥干化砣液，再将晶片连同清洗篮放在流水中清洗3分钟，流水水温保持在30度；(6)将装有晶片的清洗篮放入到装有清水的容器中，将容器放到超声波清洗机中，用30度的温水超洗10分钟；(7)取出清洗篮连同晶片用温水漂洗2分钟；(8)将装有晶片的清洗篮沥干水，放入钢盆,用酒精脱水,再放入甩干机甩干，甩干后的晶片放入烘箱烘烤30分钟。(9)确认烘干后,将晶片和筛网的玻璃条分别装袋连同流程卡送至检验。
实施例2
(1)准备带有保护玻璃条的晶片砣100；(2)将晶片砣100放到筛网1中，如图1，再将筛网1放置到清洗篮2上，筛网1底部呈悬空状搁置在清洗篮2上方，晶片砣100、筛网1和清洗篮2构成组件一；如图2所示；(3)将组件一放到盛装有化砣液30的容器3中，并使化砣液30浸没晶片砣100，并盖上容器上盖31，构成组件二，如图3所示；其中，化砣液由聚氧乙醚35份，无机盐15份(过硫酸钠)，助溶剂40份(乙二醇乙醚)，助剥离剂10(α-烯烃磺酸钠)份组成。(4)开启超声波清洗机，当超声波清洗机的水槽内水温达到75℃时，将组件二放入水中；同时打开超声波开关，超声65分钟；(5)从超声波清洗机中取出组件二，此时已分离的晶片从筛网中漏出，落在清洗篮中，玻璃条仍旧留在筛网中，将装有玻璃条的筛网从清洗篮上取下，再将装有晶片的清洗篮从容器中取出并沥干化砣液，再将晶片连同清洗篮放在流水中清洗4分钟，流水水温保持在35度；(6)将装有晶片的清洗篮放入到装有清水的容器中，将容器放到超声波清洗机中，用35度的温水超洗15分钟；(7)取出清洗篮连同晶片用温水漂洗2分钟；(8)将装有晶片的清洗篮沥干水，放入钢盆,用酒精脱水,再放入甩干机甩干，甩干后的晶片放入烘箱烘烤10分钟。(9)确认烘干后,将晶片和筛网的玻璃条分别装袋连同流程卡送至检验。
实施例3
(1)准备带有保护玻璃条的晶片砣100；(2)将晶片砣100放到筛网1中，如图1，再将筛网1放置到清洗篮2上，筛网1底部呈悬空状搁置在清洗篮2上方，晶片砣100、筛网1和清洗篮2构成组件一；如图2所示；(3)将组件一放到盛装有化砣液30的容器3中，并使化砣液30浸没晶片砣100，并盖上容器上盖31，构成组件二，如图3所示；其中，化砣液由聚氧乙醚50份，无机盐10份(硫酸钠)，助溶剂30份(乙二醇丁醚)，助剥离剂10份(十二烷基苯磺酸钠)组成。(4)开启超声波清洗机，当超声波清洗机的水槽内水温达到80℃时，将组件二放入水中；同时打开超声波开关，超声70分钟；(5)从超声波清洗机中取出组件二，此时已分离的晶片从筛网中漏出，落在清洗篮中，玻璃条仍旧留在筛网中，将装有玻璃条的筛网从清洗篮上取下，再将装有晶片的清洗篮从容器中取出并沥干化砣液，再将晶片连同清洗篮放在流水中清洗5分钟，流水水温保持在40度；(6)将装有晶片的清洗篮放入到装有清水的容器中，将容器放到超声波清洗机中，用40度的温水超洗20分钟；(7)取出清洗篮连同晶片用温水漂洗3分钟；(8)将装有晶片的清洗篮沥干水，放入钢盆,用酒精脱水,再放入甩干机甩干，甩干后的晶片放入烘箱烘烤30分钟。(9)确认烘干后,将晶片和筛网的玻璃条分别装袋连同流程卡送至检验。
实施例4
(1)准备带有保护玻璃条的晶片砣100；(2)将晶片砣100放到筛网1中，如图1，再将筛网1放置到清洗篮2上，筛网1底部呈悬空状搁置在清洗篮2上方，晶片砣100、筛网1和清洗篮2构成组件一；如图2所示；(3)将组件一放到盛装有化砣液30的容器3中，并使化砣液30浸没晶片砣100，并盖上容器上盖31，构成组件二，如图3所示；其中，化砣液由聚氧乙醚40份，无机盐13份(硝酸钠)，助溶剂36份(丙二醇甲醚)，助剥离剂11(琥珀酸二异辛酯磺酸钠)份组成。(4)开启超声波清洗机，当超声波清洗机的水槽内水温达到70℃时，将组件二放入水中；同时打开超声波开关，超声70分钟；(5)从超声波清洗机中取出组件二，此时已分离的晶片从筛网中漏出，落在清洗篮中，玻璃条仍旧留在筛网中，将装有玻璃条的筛网从清洗篮上取下，再将装有晶片的清洗篮从容器中取出并沥干化砣液，再将晶片连同清洗篮放在流水中清洗5分钟，流水水温保持在40度；(6)将装有晶片的清洗篮放入到装有清水的容器中，将容器放到超声波清洗机中，用40度的温水超洗20分钟；(7)取出清洗篮连同晶片用温水漂洗3分钟；(8)将装有晶片的清洗篮沥干水，放入钢盆,用酒精脱水,再放入甩干机甩干，甩干后的晶片放入烘箱烘烤30分钟。(9)确认烘干后,将晶片和筛网的玻璃条分别装袋连同流程卡送至检验。
实施例5
(1)准备带有保护玻璃条的晶片砣100；(2)将晶片砣100放到筛网1中，如图1，再将筛网1放置到清洗篮2上，筛网1底部呈悬空状搁置在清洗篮2上方，晶片砣100、筛网1和清洗篮2构成组件一；如图2所示；(3)将组件一放到盛装有化砣液30的容器3中，并使化砣液30浸没晶片砣100，并盖上容器上盖31，构成组件二，如图3所示；其中，化砣液由聚氧乙醚45份，无机盐10份(碳酸钠)，助溶剂35份(丙二醇甲醚)，助剥离剂10(辛基酚聚氧乙烯醚)份组成。(4)开启超声波清洗机，当超声波清洗机的水槽内水温达到70℃时，将组件二放入水中；同时打开超声波开关，超声60分钟；(5)从超声波清洗机中取出组件二，此时已分离的晶片从筛网中漏出，落在清洗篮中，玻璃条仍旧留在筛网中，将装有玻璃条的筛网从清洗篮上取下，再将装有晶片的清洗篮从容器中取出并沥干化砣液，再将晶片连同清洗篮放在流水中清洗3分钟，流水水温保持在30度；(6)将装有晶片的清洗篮放入到装有清水的容器中，将容器放到超声波清洗机中，用40度的温水超洗10分钟；(7)取出清洗篮连同晶片用温水漂洗3分钟；(8)将装有晶片的清洗篮沥干水，放入钢盆,用酒精脱水,再放入甩干机甩干，甩干后的晶片放入烘箱烘烤30分钟。(9)确认烘干后,将晶片和筛网的玻璃条分别装袋连同流程卡送至检验。
虽然以上描述了本发明的具体实施方式，但是本领域的技术人员应当理解，这些仅是举例说明，本发明的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背离本发明的原理和实质的前提下，可以对这些实施方式做出多种变更或修改，但这些变更和修改均落入本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种石英晶片的化砣工艺，其特征在于，包括如下步骤：
步骤一、准备带有保护玻璃条的晶片砣；
步骤二、将晶片砣放到筛网中，再将筛网放置到清洗篮上，筛网底部呈悬空状搁置在清洗篮上方，晶片砣、筛网和清洗篮构成组件一；
步骤三、将组件一放到盛装有化砣液的容器中，并使化砣液浸没晶片砣，并盖上容器上盖，构成组件二，所述化砣液包括：聚氧乙醚，无机盐，助溶剂，助剥离剂；
步骤四、开启超声波清洗机，当超声波清洗机的水槽内水温达到70～80℃时，将组件二放入水中；同时打开超声波开关，超声60～70分钟；
步骤五、从超声波清洗机中取出组件二，此时已分离的晶片从筛网中漏出，落在清洗篮中，玻璃条仍旧留在筛网中，将装有玻璃条的筛网从清洗篮上取下，再将装有晶片的清洗篮从容器中取出并沥干化砣液，再将晶片连同清洗篮放在流水中清洗3～5分钟，流水水温保持在30-40度；
步骤六、将装有晶片的清洗篮放入到装有清水的容器中，将容器放到超声波清洗机中，用30-40度的温水超洗10～20分钟；
步骤七、取出清洗篮连同晶片用温水漂洗2～3分钟；
步骤八、将装有晶片的清洗篮沥干水，放入钢盆,用酒精脱水,再放入甩干机甩干，甩干后的晶片放入烘箱烘烤10～30分钟；
步骤九、确认烘干后,将晶片和筛网的玻璃条分别装袋送至检验。
2.根据权利要求1所述的化砣工艺，其特征在于，按重量份计，所述化砣液包括：聚氧乙醚35～50份，无机盐9～15份，助溶剂30～40份，助剥离剂6～12份。
3.根据权利要求2所述的化砣工艺，其特征在于，按重量份计，所述化砣液包括：聚氧乙醚40～45份，无机盐10～13份，助溶剂32～36份，助剥离剂9～11份。
4.根据权利要求3所述的化砣工艺，其特征在于，按重量份计，所述化砣液包括：聚氧乙醚43份，无机盐12份，助溶剂35份，助剥离剂10份。
5.根据权利要求2所述的化砣工艺，其特征在于，所述无机盐为氯化钠、碳酸钠、过硫酸钠、硫酸钠和硝酸钠中的至少一种。
6.根据权利要求2所述的化砣工艺，其特征在于，所述助溶剂为二丙二醇丁醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁醚、丙二醇甲醚中的至少一种。
7.根据权利要求2所述的化砣工艺，其特征在于，所述助剥离剂为含磺酸钠基团的阴离子型表面活性剂、聚氧乙烯型非离子表面活性剂中的至少一种。
8.根据权利要求7所述的化砣工艺，其特征在于，含磺酸钠基团的阴离子型表面活性剂为十六烷基磺酸钠，α-烯烃磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠、琥珀酸二异辛酯磺酸钠中的至少一种。
9.根据权利要求7所述的化砣工艺，其特征在于，聚氧乙烯型非离子表面活性剂为辛基酚聚氧乙烯醚和壬基酚聚氧乙烯醚中的至少一种。
10.根据权利要求1所述的化砣工艺，其特征在于，所述筛网为不锈网材质构件。
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