CN102170273A - 硫酸剥离在频率片化砣工程的应用 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种硫酸剥离的应用，用于频率片的化砣工程，即用硫酸将砣剥离成频率片。将砣装入化砣网桶中，并放入化砣机中上下摇动，30分钟～60分钟后添加双氧水，80分钟后取出网桶，最后放入纯水中清洗即可完成化砣工作。本发明所述的硫酸剥离的应用，化砣后的频率片表面胶水的残留发生率为0％，碎片概率为0.5％；化砣时间大大缩短，并且不使用超声波，减少了超声波的维护。
Description
技术领域
本发明涉及所有频率片的化砣工程，特别涉及一种硫酸剥离在频率片化砣工程的应用。
背景技术
随着现代工业的发展，频率片的需求量日增夜涨，现代的频率片生产方式包括对角切割、测频率、切长边、磨长边、切短边、磨短边、煮胶等一系列的步骤，工序复杂，精度要求高。在频率片的加工过程中先将晶源切割成切片，研磨至指定频率后，在将切片切割，加工至需要的尺寸，此时就需要将磨好的切片粘贴在一起，进行切割。
传统的频率片化砣工作采用化胶剂化胶，所需温度为100度，并且超声波进化砣。频率片化胶后会有少量的胶水残留在频率片上，其发生率为5％左右，同时会出现碎片的现象，其破损概率为10％左右，整个频率片化砣工作所需要的时间为5小时左右。
发明内容
为了解决频率片化砣工程中使用化胶剂化胶时，胶水残留发生率高，碎片出现率高，耗时长的问题，本发明提出以下技术方案。
硫酸剥离的应用，其特征在于，硫酸剥离用于频率片的化砣工程。
具体应用的步骤为：
1)将粘砣的频率片装入化砣网桶中；
2)接着放入化砣机中，上下摇动；
3)30分钟～60分钟后添加双氧水；
4)80分钟后取出网桶，并放入纯水中清洗；
5)传至下一工程，即倒边或者频率调整。
作为优选方案，所述化砣网桶中装有浓度为80％～90％的硫酸，所述双氧水的浓度为20％～50％。
优选的，化砣机中的温度为100度～150度。
本发明所述的硫酸剥离在频率片化砣工程中的应用所带来的优点是：
1.使用硫酸剥离后的频率片表面的胶水残留发生率为0％；
2.频率片出现碎片的发生率为0.5％；
3.化砣时间仅需要80分钟即可完成；大大缩短了时间；
4.硫酸剥离不需要超声波，相对于以前，减少了对超声波的维护工作。
具体实施方式
下面对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
硫酸剥离的应用，其特征在于，硫酸剥离用于频率片的化砣工程。
其具体应用的步骤为：
1)将粘砣的频率片装入化砣网桶中；
2)接着放入化砣机中，上下摇动；
3)30分钟～60分钟后添加双氧水；
4)80分钟后取出网桶，并放入纯水中清洗；
5)传至下一工程，即倒边或者频率调整。
所述化砣网桶中装有浓度为80％～90％的硫酸，所述双氧水的浓度为20％～50％。
化砣机中的温度为100度～150度。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本领域的技术人员在本发明所揭露的技术范围内，可不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。
Claims (4)
1.硫酸剥离的应用，其特征在于，硫酸剥离用于频率片的化砣工程。
2.根据权利要求1所述的硫酸剥离的应用，其特征在于，具体应用的步骤为：
1)将粘砣的频率片装入化砣网桶中；
2)接着放入化砣机中，上下摇动；
3)30分钟～60分钟后添加双氧水；
4)80分钟后取出网桶，并放入纯水中清洗；
5)传至下一工程，即倒边或者频率调整。
3.根据权利要求2所述的硫酸剥离的应用，其特征在于，所述化砣网桶中装有浓度为80％～90％的硫酸，所述双氧水的浓度为20％～50％。
4.根据权利要求2所述的硫酸剥离的应用，其特征在于，化砣机中的温度为100度～150度。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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2010
- 2010-12-31 CN CN2010106173148A patent/CN102170273A/zh active Pending
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