CN107153902A - 光学薄膜的缺陷信息综合管理装置及其方法 - Google Patents

光学薄膜的缺陷信息综合管理装置及其方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及光学薄膜的缺陷信息综合管理装置及其方法。所述装置包括：缺陷信息收集部，其收集从一次工序的缺陷管理机及二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息；缺陷信息匹配部，其使一次工序的缺陷信息与二次工序的缺陷信息匹配；缺陷检测判断部，其基于匹配的结果，以二次工序的缺陷信息为基准，将一次工序的缺陷信息进行比较来判断有无相同缺陷的检测；缺陷信息修正部，其在检测到相同缺陷的情况下，算出一次工序及二次工序中的该缺陷信息的位置之差，并基于算出的位置之差来修正一次工序的缺陷信息；及缺陷信息汇总部，其对修正后的一次工序的缺陷信息及二次工序的缺陷信息进行汇总。

Description

光学薄膜的缺陷信息综合管理装置及其方法
技术领域
本发明涉及光学薄膜的缺陷信息综合管理装置及其方法，更详细而言，涉及将在按各工序检测到的缺陷信息在光学薄膜上进行条形码标记，并对整体工序发现的缺陷信息进行综合管理的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置及其方法。
背景技术
最近，随着光学薄膜制造装置的集成度的增加，就连以往未视作较大问题的微细的缺陷也会引起光学薄膜制造装置的动作缺陷，对于光学薄膜制造装置的可靠性也会带来致命的不良影响。
因此，在进行用于制造光学薄膜的单位工序之前或之后，检查及测定表面上的缺陷。
因此，要求能够准确地检查缺陷的缺陷检查装置的导入，对于检查装置的微细的控制技术会左右光学薄膜制造装置的性能。
通常，光学薄膜制造装置产生的缺陷通过电子显微镜或光学显微镜能够直接确认。通过这样直接确认缺陷，能够获知检测到的缺陷的真伪。
然而，在利用一个工序生产了光学薄膜之后向下一工序移动而开展接合及涂层作业的情况下，根据投入方向来变更该光学薄膜的起点及左右方向。通过这样的方向的变更，在各工序中检测到的缺陷数据上下或左右颠倒，难以准确地掌握整体工序产生的缺陷的位置。
与之相关联，韩国公开专利第2009-0078638号公开了“光学薄膜检查装置”。
发明内容
本发明要解决的问题
本发明为了解决上述的问题点而作出，目的在于提供一种一次工序的缺陷管理机具备当检测到光学薄膜的缺陷时在光学薄膜上标记包含与该缺陷相关的信息的条形码的条形码标记机的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置及其方法。
另外，本发明目的在于提供一种二次工序的缺陷管理机具备读取在一次工序中标记于光学薄膜上的条形码的条形码读取机的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置及其方法。
此外，本发明目的在于提供一种基于从一次工序的缺陷管理机输入的缺陷信息和从二次工序的缺陷管理机输入的缺陷信息，对整体工序的缺陷信息进行综合管理的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置及其方法。
用于解决课题的方案
用于实现上述的目的的本发明的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置包括：缺陷信息收集部，其收集从一次工序的缺陷管理机及二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息；缺陷信息匹配部，其使一次工序的缺陷信息与二次工序的缺陷信息匹配；缺陷检测判断部，其基于匹配的结果，以二次工序的缺陷信息为基准，将一次工序的缺陷信息进行比较来判断相同缺陷的检测的有无；缺陷信息修正部，其在检测到相同缺陷的情况下，算出一次工序及二次工序中的该缺陷信息的位置之差，并基于算出的位置之差来修正一次工序的缺陷信息；及缺陷信息汇总部，其对修正后的一次工序的缺陷信息及二次工序的缺陷信息进行汇总。
另外，其中，所述一次工序的缺陷管理机在一次工序中检测光学薄膜的缺陷，并收集与该缺陷相关的缺陷信息向所述缺陷信息收集部传送，所述二次工序的缺陷管理机在二次工序中检测光学薄膜的缺陷，并收集与该缺陷相关的缺陷信息向所述缺陷信息收集部传送。
另外，其中，所述一次工序的缺陷管理机还包括在检测到缺陷的位置进行条形码标记的条形码标记机，从所述二次工序的缺陷管理机传送的缺陷信息包括由所述一次工序的缺陷管理机进行了条形码标记的条形码信息。
另外，其中，所述缺陷信息收集部收集包括索引、缺陷的位置坐标(X轴、Y轴)、大小及强度中的至少任一个信息的缺陷信息。
另外，其中，在对于所述光学薄膜的缺陷信息包括索引的情况下，所述索引向由所述一次工序的缺陷管理机检测的各个缺陷赋予，在由所述二次工序的缺陷管理机检测的各个缺陷中的检测到的缺陷的位置坐标被赋予了通过一次工序的缺陷管理机标记的条形码信息的情况下，赋予与通过一次工序的缺陷管理机赋予的索引值相同的值。
另外，其中，所述缺陷检测判断部在所述索引相同的缺陷的情况下，判断为相同缺陷，或者在对于所述光学薄膜的缺陷信息中的至少两个以上的信息一致的情况下，判断为相同缺陷。
另外，其中，在通过所述缺陷检测判断部未检测到相同缺陷的情况下，所述缺陷信息汇总部不进行另外的修正而将一次工序的缺陷信息与二次工序的缺陷信息汇总。
另外，其中，包括基于所述汇总的一次工序的缺陷信息及二次工序的缺陷信息进行监控的综合管理部。
用于实现上述的目的的本发明的光学薄膜的缺陷信息综合管理方法包括：通过缺陷信息收集部，收集从一次工序的缺陷管理机及二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息的步骤；通过缺陷信息匹配部，使所述一次工序的缺陷信息与所述二次工序的缺陷信息匹配的步骤；通过缺陷检测判断部，基于匹配的结果，以所述二次工序的缺陷信息为基准，将所述一次工序的缺陷信息进行比较来判断相同缺陷的检测的有无的步骤；通过缺陷信息修正部，在检测到相同缺陷的情况下，算出一次工序及二次工序中的该缺陷信息的位置之差，并基于算出的位置之差来修正所述一次工序的缺陷信息的步骤；及通过缺陷信息汇总部，对修正后的所述一次工序的缺陷信息及所述二次工序的缺陷信息进行汇总的步骤。
另外，其中，在收集从所述一次工序的缺陷管理机及所述二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息的步骤中，所述一次工序的缺陷管理机在一次工序中检测光学薄膜上的缺陷，并收集与该缺陷相关的缺陷信息进行传送，所述二次工序的缺陷管理机在二次工序中检测光学薄膜上的缺陷，并收集与该缺陷相关的缺陷信息进行传送，收集从所述一次工序的缺陷管理机及所述二次工序的缺陷管理机传送的各个缺陷信息。
另外，其中，在收集从所述一次工序的缺陷管理机及所述二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息的步骤中，所述一次工序的缺陷管理机还包括在检测到缺陷的位置进行条形码标记的条形码标记机。
另外，其中，在收集从所述一次工序的缺陷管理机及所述二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息的步骤中，从所述二次工序的缺陷管理机传送的缺陷信息包括由所述一次工序的缺陷管理机进行了条形码标记的条形码信息。
另外，其中，在收集从所述一次工序的缺陷管理机及所述二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息的步骤中，对于所述光学薄膜的缺陷信息包括索引、缺陷的位置坐标(X轴、Y轴)、大小及强度中的至少任一个信息。
另外，其中，在收集从所述一次工序的缺陷管理机及所述二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息的步骤中，在对于所述光学薄膜的缺陷信息包括索引的情况下，所述索引向由所述一次工序的缺陷管理机检测的各个缺陷赋予，在由所述二次工序的缺陷管理机检测的各个缺陷中的检测到的缺陷的位置坐标被赋予了通过一次工序的缺陷管理机标记的条形码信息的情况下，赋予与通过一次工序的缺陷管理机赋予的索引值相同的值。
另外，其中，在基于匹配的结果，以所述二次工序的缺陷信息为基准，将所述一次工序的缺陷信息进行比较来判断相同缺陷的检测的有无的步骤中，在所述索引相同的缺陷的情况下，判断为相同缺陷。
另外，其中，在基于匹配的结果，以所述二次工序的缺陷信息为基准，将所述一次工序的缺陷信息进行比较来判断相同缺陷的检测的有无的步骤中，在对于所述光学薄膜的缺陷信息中的至少两个以上的信息一致的情况下，判断为相同缺陷。
发明效果
具有上述的结构的本发明的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置及其方法使从一次工序的缺陷管理机输入的与缺陷信息相关的条形码标记信息和从二次工序的缺陷管理机输入的与一次工序中的缺陷信息相关的条形码读取信息进行匹配，以二次工序的缺陷信息为基准来修正一次工序的缺陷信息，具有能够准确地掌握缺陷的位置这样的效果。
另外，本发明通过以相同膜上的位置为基准将一次工序的缺陷信息与二次工序的缺陷信息匹配，能够对整体工序中发现的缺陷信息进行综合管理，具有能够容易地监控与工序的变化对应的缺陷特性的变化这样的效果。
附图说明
图1是用于说明本发明的一次工序的缺陷管理机、二次工序的缺陷管理机、光学薄膜的缺陷信息综合管理装置构成的系统环境的图。
图2是用于说明根据光学薄膜的投入方向而不同的一次工序及二次工序的缺陷信息的图。
图3是用于说明根据光学薄膜的投入方向而不同的一次工序及二次工序的缺陷信息的图。
图4是用于说明根据光学薄膜的投入方向而不同的一次工序及二次工序的缺陷信息的图。
图5是用于说明根据光学薄膜的投入方向而不同的一次工序及二次工序的缺陷信息的图。
图6是用于说明本发明的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置的结构的图。
图7是用于说明本发明的光学薄膜的缺陷信息综合管理方法的次序的流程图。
符号说明
100：光学薄膜的缺陷信息综合管理装置
110：缺陷信息收集部
120：缺陷信息匹配部
130：缺陷检测判断部
140：缺陷信息修正部
150：缺陷信息汇总部
160：综合管理部
具体实施方式
以下，为了详细说明以使本发明所属技术领域的普通技术人员能够容易地实施本发明的技术思想，而参考附图来说明本发明的最优选的实施方式。首先，当向各附图的构成要素附加参考符号时，必须留意的是对于同一构成要素，即使向其他的附图上输出也尽可能地具有同一符号。而且，当说明本发明时，在判断为对于涉及的公知的结构或功能的具体的说明无关本发明的主旨的情况下，省略其详细说明。
图1是用于说明本发明的由一次工序的缺陷管理机、二次工序的缺陷管理机、光学薄膜的缺陷信息综合管理装置构成的系统环境的图，图2～图5是用于说明根据光学薄膜的投入方向而不同的一次工序及二次工序的缺陷信息的图。
参考图1进行说明时，首先，本发明的缺陷管理机是以各工厂或不连续工序的串排状态来检查光学薄膜的缺陷的装置。在本发明中，为了便于说明而限定为检查光学薄膜的缺陷的装置，但并不局限于此。
本发明的一次工序(前工序)的缺陷管理机10可以具备：在一次工序中检测光学薄膜的缺陷的检查机；将与检测到的缺陷相关的信息在光学薄膜上进行条形码标记的条形码标记机。而且，一次工序(前工序)的缺陷管理机10还具备传送装置，将光学薄膜的缺陷信息(缺陷A、B、C、D)向光学薄膜的缺陷信息综合管理装置传送。
本发明的二次工序(后工序)的缺陷管理机20可以具备读取在一次工序中进行了标记的条形码的条形码读取机。此时，在二次工序中检测的光学薄膜的缺陷信息由于在一次工序中检测到的缺陷被维持的情况(缺陷A、B、C)、在一次工序中检测到的缺陷被除去的情况(缺陷D)、在二次工序中新检测到缺陷的情况(缺陷G、F)，而能够与在一次工序中检测的光学薄膜的缺陷信息不同。
不仅如此，在一次工序及二次工序中进行了标记的缺陷信息由于工序的移动，根据光学薄膜的投入方向而能够不同。即，以如图2那样左右移动，或者如图3那样上下移动，或者如图4那样左右颠倒，或者如图5那样上下颠倒的方式显示。
并且，二次工序的缺陷管理机还具备传送装置，将光学薄膜的缺陷信息向光学薄膜的缺陷信息综合管理装置传送。
这样，本发明的一次工序的缺陷管理机10检测一次工序中的光学薄膜的缺陷，为了防止检测到的缺陷在二次工序未被检测的情况而使用条形码标记将检测到的缺陷信息向二次工序的缺陷管理机传递，经由文件传送系统将检测到的缺陷信息向光学薄膜的缺陷信息综合管理装置100传送。
另外，本发明的二次工序的缺陷管理机20使用条形码读取来识别由一次工序传递的缺陷信息，由文件传送系统将检测及识别到的缺陷信息向光学薄膜的缺陷信息综合管理装置100传送。
本发明的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置100从一次工序的缺陷管理机及二次工序的缺陷管理机接收缺陷信息，以二次工序的缺陷信息为基准而修正了一次工序的缺陷信息之后，进行汇总，能够对光学薄膜的缺陷信息进行综合管理。此时，光学薄膜的缺陷信息综合管理装置100通过以后说明的图6进行详细说明。
图6是用于说明本发明的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置的结构的图。
参考图6说明时，本发明的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置100大体包括缺陷信息收集部110、缺陷信息匹配部120、缺陷检测判断部130、缺陷信息修正部140、缺陷信息汇总部150、综合管理部160。
缺陷信息收集部110收集从一次工序的缺陷管理机10及二次工序的缺陷管理机20传送的对于光学薄膜的缺陷信息。此时，缺陷信息可以包括索引、缺陷的位置坐标(X轴、Y轴)、大小及强度中的至少任一个。
缺陷信息收集部110从具备条形码标记机的一次工序的缺陷管理机10收集进行了条形码标记的缺陷信息，该条形码标记机当在一次工序中检测到光学薄膜的缺陷时在光学薄膜上标记包含与该缺陷相关的信息的条形码。
另外，缺陷信息收集部110从具备读取在一次工序中被标记于光学薄膜上的条形码的条形码读取机的二次工序的缺陷管理机20收集进行了条形码标记的缺陷信息及进行了条形码读取的缺陷信息。
缺陷信息匹配部120使一次工序的缺陷信息与二次工序的缺陷信息匹配。
缺陷检测判断部130基于匹配的结果，以二次工序的缺陷信息为基准，将一次工序的缺陷信息进行比较来判断相同缺陷的检测的有无。
缺陷检测判断部130以通过二次工序的缺陷管理机进行了条形码读取的缺陷信息为基准，将一次工序的缺陷信息进行比较来检测相同缺陷。
缺陷信息修正部140在检测到相同缺陷的情况下，算出一次工序及二次工序中的该缺陷信息的位置之差，基于算出的差来修正一次工序的缺陷信息。另一方面，在未检测到相同缺陷的情况下，不进行一次工序的缺陷信息的修正。
缺陷信息修正部140在相同缺陷中该缺陷信息的X轴坐标之差为预先设定的值以上的情况下，使一次工序的缺陷信息左右颠倒来进行修正，在该缺陷信息的Y轴坐标之差为预先设定的值以上的情况下，使一次工序的缺陷信息上下颠倒来进行修正。此时，预先设定的值通常优选设定为光学薄膜(原膜)的宽度的一半，但并不局限于此。
另外，缺陷信息修正部140在检测到两个以上的相同缺陷信息的情况下，由于存在产生误差的危险，因此将其排除在外，但是算出该缺陷信息的均值，对一次工序的缺陷信息进行修正而能够实现误差的最小化。
另外，缺陷信息修正部140为了二次工序的缺陷信息的位置同步化也可以赋予其他的补偿(Offset)值。
缺陷信息汇总部150对修正的一次工序的缺陷信息及二次工序的缺陷信息进行汇总。
综合管理部160基于汇总的一次工序的缺陷信息及二次工序的缺陷信息进行监控。
综合管理部将一次工序的缺陷信息和二次工序的缺陷信息进行汇总，将条形码标记数、条形码读取数等进行比较而能够管理光学薄膜的整体的品质。
图7是用于说明本发明的光学薄膜的缺陷信息综合管理方法的次序的流程图。
参考图7说明时，本发明的光学薄膜的缺陷信息综合管理方法是使用前述说明的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置的方法，以下省略重复的说明。
首先，收集从一次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息(S100)。S100步骤中，从具备条形码标记机的一次工序的缺陷管理机收集检测到的缺陷信息，该条形码标记机当在一次工序中检测到光学薄膜的缺陷时在光学薄膜上标记包含与该缺陷相关的信息的条形码。
接下来，收集从二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息(S200)。S200步骤中，从具备条形码读取机的二次工序的缺陷管理机收集检测到的缺陷信息及进行了条形码读取的缺陷信息，该条形码读取机在二次工序中读取一次工序的光学薄膜上标记的条形码。
接下来，将一次工序的缺陷信息与二次工序的缺陷信息进行匹配(S300)。
更详细而言，S300步骤中，首先以一次工序的缺陷信息为基准，将在二次工序中预想为未被检测的缺陷进行过滤。接下来，将在二次工序中预想为不是一次工序的缺陷的缺陷进行过滤。接下来，使用通过一次工序及二次工序检测到的缺陷信息中的缺陷的位置坐标转换成二进制信息。接下来，使用通过一次工序及二次工序转换后的各自的二进制信息，经由进行缺陷信息的匹配的过程来进行。
接下来，基于匹配的结果，以二次工序的缺陷信息为基准，将一次工序的缺陷信息进行比较来判断相同缺陷的检测的有无(S400)。S400步骤中，以在二次工序中进行了条形码读取的缺陷信息为基准，将一次工序的缺陷信息进行比较来检测相同缺陷。
接下来，在检测到相同缺陷的情况下，判断是否检测到两个以上的相同缺陷信息(S500)。
在S500步骤中虽然检测到相同缺陷但是未检测到两个以上的相同缺陷信息的情况下，算出一次工序及二次工序中的该缺陷信息的位置坐标的均值(S510)。
在S500步骤中虽然检测到相同缺陷但是未检测到两个以上的相同缺陷信息的情况下，算出一次工序及二次工序中的该缺陷信息的位置之差(S520)。
接下来，在S510步骤及S520步骤之后，基于算出的值来修正一次工序的缺陷信息(S600)。S600步骤中，在S520步骤中具有相同索引的缺陷信息中该缺陷信息的X轴坐标之差为预先设定的值以上的情况下，使一次工序的缺陷信息左右颠倒来进行修正，在该缺陷信息的Y轴坐标之差为预先设定的值以上的情况下，使一次工序的缺陷信息上下颠倒来进行修正。
接下来，为了二次工序的缺陷信息的位置同步化而反映其他的补偿(Offset)值(S700)。另一方面，在S500步骤中，在未检测到相同缺陷信息的情况下，向S700步骤移动而使补偿值反映到二次工序的缺陷信息中。
接下来，对修正后的一次工序的缺陷信息及二次工序的缺陷信息进行汇总(S800)。
接下来，基于汇总后的一次工序的缺陷信息及二次工序的缺陷信息进行监控(S900)。
这样，本发明的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置及其方法使从一次工序的缺陷管理机输入的与缺陷信息相关的条形码标记信息和从二次工序的缺陷管理机输入的与一次工序中的缺陷信息相关的条形码读取信息进行匹配，以二次工序的缺陷信息为基准来修正一次工序的缺陷信息，由此能够准确地掌握缺陷的位置。
另外，本发明以变化的位置为基准将一次工序的缺陷信息与二次工序的缺陷信息进行匹配，由此能够对整体工序中发现的缺陷信息进行综合管理，能够容易地监控与工序的变化对应的缺陷特性的变化。
以上，说明了本发明的优选实施方式，但是可以变形为多种方式，如果是本技术领域的普通技术人员，则可知在不脱离本发明的权利要求书的范围内能够实施多种变形例及修正例。

Claims (16)

1.一种光学薄膜的缺陷信息综合管理装置，其特征在于，包括：
缺陷信息收集部，其收集从一次工序的缺陷管理机及二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息；
缺陷信息匹配部，其使一次工序的缺陷信息与二次工序的缺陷信息匹配；
缺陷检测判断部，其基于匹配的结果，以二次工序的缺陷信息为基准，将一次工序的缺陷信息进行比较来判断有无相同缺陷的检测；
缺陷信息修正部，其在检测到相同缺陷的情况下，算出一次工序及二次工序中的该缺陷信息的位置之差，并基于算出的位置之差来修正一次工序的缺陷信息；及
缺陷信息汇总部，其对修正后的一次工序的缺陷信息及二次工序的缺陷信息进行汇总。
2.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置，其特征在于，
所述一次工序的缺陷管理机在一次工序中检测光学薄膜的缺陷，并收集与该缺陷相关的缺陷信息向所述缺陷信息收集部传送，所述二次工序的缺陷管理机在二次工序中检测光学薄膜的缺陷，并收集与该缺陷相关的缺陷信息向所述缺陷信息收集部传送。
3.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置，其特征在于，
所述一次工序的缺陷管理机还包括在检测到缺陷的位置进行条形码标记的条形码标记机，
从所述二次工序的缺陷管理机传送的缺陷信息包括由所述一次工序的缺陷管理机进行了条形码标记的条形码信息。
4.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置，其特征在于，
所述缺陷信息收集部收集包括索引、缺陷的位置坐标、大小及强度中的至少任一个信息的缺陷信息，所述缺陷的位置坐标即X轴与Y轴坐标。
5.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置，其特征在于，
在对于所述光学薄膜的缺陷信息包括索引的情况下，向由所述一次工序的缺陷管理机检测的各个缺陷赋予所述索引，
在由所述二次工序的缺陷管理机要检测的各个缺陷中的检测到的缺陷的位置坐标被赋予了通过一次工序的缺陷管理机标记的条形码信息的情况下，赋予与通过一次工序的缺陷管理机赋予的索引值相同的值。
6.根据权利要求4所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置，其特征在于，
在所述索引相同的缺陷的情况下，所述缺陷检测判断部判断为相同缺陷，或者在对于所述光学薄膜的缺陷信息中的至少两个以上的信息一致的情况下，所述缺陷检测判断部判断为膜上的相同位置的缺陷。
7.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置，其特征在于，
在通过所述缺陷检测判断部未检测到具有膜上的相同位置的缺陷信息的情况下，所述缺陷信息汇总部不进行另外的修正而将一次工序的缺陷信息与二次工序的缺陷信息汇总。
8.根据权利要求1所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理装置，其特征在于，
所述光学薄膜的缺陷信息综合管理装置还包括基于所述汇总的一次工序的缺陷信息及二次工序的缺陷信息进行监控的综合管理部。
9.一种光学薄膜的缺陷信息综合管理方法，其特征在于，包括：
通过缺陷信息收集部，收集从一次工序的缺陷管理机及二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息的步骤；
通过缺陷信息匹配部，使所述一次工序的缺陷信息与所述二次工序的缺陷信息匹配的步骤；
通过缺陷检测判断部，基于匹配的结果，以所述二次工序的缺陷信息为基准，将所述一次工序的缺陷信息进行比较来判断有无相同缺陷的检测的步骤；
通过缺陷信息修正部，在检测到相同缺陷的情况下，算出一次工序及二次工序中的该缺陷信息的位置之差，并基于算出的位置之差来修正所述一次工序的缺陷信息的步骤；及
通过缺陷信息汇总部，对修正后的所述一次工序的缺陷信息及所述二次工序的缺陷信息进行汇总的步骤。
10.根据权利要求9所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理方法，其特征在于，
在收集从所述一次工序的缺陷管理机及所述二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息的步骤中，
所述一次工序的缺陷管理机在一次工序中检测光学薄膜上的缺陷，并收集与该缺陷相关的缺陷信息进行传送，
所述二次工序的缺陷管理机在二次工序中检测光学薄膜上的缺陷，并收集与该缺陷相关的缺陷信息进行传送，
收集从所述一次工序的缺陷管理机及所述二次工序的缺陷管理机传送的各个缺陷信息。
11.根据权利要求10所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理方法，其特征在于，
在收集从所述一次工序的缺陷管理机及所述二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息的步骤中，
所述一次工序的缺陷管理机还包括在检测到缺陷的位置进行条形码标记的条形码标记机。
12.根据权利要求11所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理方法，其特征在于，
在收集从所述一次工序的缺陷管理机及所述二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息的步骤中，
从所述二次工序的缺陷管理机传送的缺陷信息包括由所述一次工序的缺陷管理机进行了条形码标记的条形码信息。
13.根据权利要求9所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理方法，其特征在于，
在收集从所述一次工序的缺陷管理机及所述二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息的步骤中，
对于所述光学薄膜的缺陷信息包括索引、缺陷的位置坐标、大小及强度中的至少任一个信息，所述缺陷的位置坐标即X轴与Y轴坐标。
14.根据权利要求13所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理方法，其特征在于，
在收集从所述一次工序的缺陷管理机及所述二次工序的缺陷管理机传送的对于光学薄膜的缺陷信息的步骤中，
在对于所述光学薄膜的缺陷信息包括索引的情况下，所述索引向由所述一次工序的缺陷管理机检测的各个缺陷赋予，
在由所述二次工序的缺陷管理机检测的各个缺陷中的检测到的缺陷的位置坐标被赋予了通过一次工序的缺陷管理机标记的条形码信息的情况下，赋予与通过一次工序的缺陷管理机赋予的索引值相同的值。
15.根据权利要求13所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理方法，其特征在于，
在基于匹配的结果，以所述二次工序的缺陷信息为基准，将所述一次工序的缺陷信息进行比较来判断有无相同缺陷的检测的步骤中，
在所述索引相同的缺陷的情况下，判断为相同缺陷。
16.根据权利要求13所述的光学薄膜的缺陷信息综合管理方法，其特征在于，
在基于匹配的结果，以所述二次工序的缺陷信息为基准，将所述一次工序的缺陷信息进行比较来判断有无相同缺陷的检测的步骤中，
在对于所述光学薄膜的缺陷信息中的至少两个以上的信息一致的情况下，判断为相同缺陷。
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