CN107109648B - 用于涂覆大面积的基体的装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种用于涂覆至少一个基体的装置，所述装置具有布置在反应器壳体(1)中的用于将过程气体输入过程室的进气机构(4)，此进气机构(4)具有气体分配室(4’)，而此气体分配室(4’)包含具有排出口(7)的气体排出板(9)、及平行于所述气体排出板延伸的后壁(10)，并且，所述进气机构(4)通过吊架(3)固定在反应器壳体(1)上，其中，吊架(3)以与所述进气机构(4)的侧边缘相间隔的方式固定在所述进气机构(4)上。在后壁(10)与气体排出板(9)之间设有间隔元件(13)，气体排出板(9)、后壁(10)、及吊架(3)的下端(3’)固定在所述间隔元件上。所述吊架(3)具有沿其延伸方向相隔一定距离的第一及第二弯曲区(25至28)。吊架(3)的上端(3”)固定在保持元件(36)上，而此保持元件(36)的垂直位置能够相对于保持装置(2)调整。

Description

用于涂覆大面积的基体的装置
技术领域
本发明涉及一种用于涂覆至少一个基体的装置，其具有设置在反应器壳体中的进气机构用于将过程气体注入过程室，所述过程室具有气体分配室，其具有配备出口的出气板和与之平行延伸的后壁，并且过程室借助吊架固定在反应器壳体上，其中吊架与进气机构的侧面边缘相间隔地固定在进气机构上。
背景技术
此类涂覆装置用于涂覆基体。为此，其基体处于一个用于实施CVD或PVD过程的过程室中。借助气体分配器，将过程气体输入过程室。DE 102014116991Al或DE 10 2013 101534Al中描述过此类气体分配器。JP 2013-187318 A公开一种进气机构，其具有多个在一平面内并排设置的气体分配室。CN103103501描述一种由多个区段所构成的进气机构。
US 8,721,791 B2及US 2009/0133631 Al公开了具有气体排出面的进气机构，其气体排出口设置在气体排出面中。此进气机构借助保持机构朝上固定。
在沉积OLED时，使用有机起始材料，借助载气将有机起始材料输入加热的气体分配器。此种气体分配器可为进气机构的组成部分。将过程气体输入进气机构的具有包含气体排出口的气体排出面及后壁的气体分配室。将进气机构的温度保持在防止有机起始材料发生冷凝的值上。
过程室的底部由承载一个或多个基体的基座所构成。在过程室中，借助载气将气态起始材料输送至基体的表面，在此表面上，起始材料以形成一层的方式冷凝。为此，将基座的温度调至低于进气机构的温度。特别是，冷却此基座。所述基体可具有大于1平方米(m2)的表面，从而需要制造出基体对角线为2至3米(m)的涂覆装置。进气机构在基座的整个面的范围内延伸。在此情况下，此进气机构的对角线为2至3米。而向上由气体排出面界定且向下由基座表面界定的过程室高度仅为数厘米(cm)。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于，进一步改良此类装置，使得在过程室内大面积的基体能够被沉积。
所述技术问题通过在权利要求中记载的发明解决，其中，每项权利要求原则上皆为上述技术问题的独立解决方案。
本发明的第一主题涉及将吊架的下端固定在进气机构上。根据本发明，在后壁与气体排出板之间设有间隔元件。气体排出板、后壁、及吊架的下端固定在此间隔元件上。为了将进气机构保持在反应器壳体内部，优选地使用多个吊架，所述吊架分别通过其上端固定在保持装置上，所述保持装置是与所述反应器壳体的上区域固定连接。与每个吊架各对应配设一间隔元件，使得，多个间隔元件处于后壁与气体排出板之间的间隙中。所述用于将进气机构保持在反应器壳体内部的吊架中的至少一部分，卡在所述与所述进气机构的侧边缘间隔一定距离的间隔元件上，亦即，分布在所述进气机构的基面上。
本发明的第二主题涉及吊架的设计方案。根据本发明，所述吊架具有沿其延伸方向相隔一定距离的第一及第二弯曲区。第一弯曲区仅允许吊架沿第一弯曲方向发生弯曲。第二弯曲区仅允许吊架沿第二弯曲方向发生弯曲。第一弯曲方向是垂直于第二弯曲方向延伸。若将进气机构(即，其气体排出板及其后壁)所在的平面称作X/Y平面，则所述吊架是沿Z方向延伸。在此是指垂直方向。所述吊架可略微朝Z方向倾斜。所述弯曲方向在一定程度上处于X/Y平面中，且朝由弯曲区所实现的弯曲轴垂直定向。所述吊架是布置成使得所述二个弯曲方向中的至少一个朝向所述进气机构的平面中心，因为，在进气机构发生热膨胀时，每个吊架的下固定点在一朝向其平面中心的线是上运动。优选地，第一弯曲方向是朝向其平面中心，且所述第一弯曲区是紧邻于所述吊架的上端及下端。
本发明的第三主题涉及将吊架的上端固定在保持元件上。本发明提出，吊架的垂直位置可相对于保持装置调整。优选地设有一调整元件，用于调节吊架的垂直位置，以便在任一吊架位置上，可借助调节调整元件而对过程室的高度进行调节。为此，反应器壳体的上部件可具有一些开口，可将调整工具穿过所述开口送入，以便卡在调整元件上并对其进行调节。
下面对本发明的前述主题的优选的改良方案进行说明，所述改良方案既可单独又可组合实现，且在本发明中独立地对现有技术进行改良。间隔元件形成为下方的固定元件，吊架的下端通过其下方的固定元件固定在气体排出板上。间隔元件可具有一空腔，此空腔是朝上开口的且具有一底部。吊架的下端可固定在所述空腔的底部上。此处优选是通过螺钉而实现，诸螺钉以自下穿过底部的螺钉通孔插入的方式，拧入吊架的下端的内螺纹中。具有螺钉插口的支脚可自所述底部的底面突出，固定螺钉可穿过所述螺钉插口而插入，而支脚是通过固定螺钉以固定在气体排出板上。亦设有一波纹管，其具有中央开口，间隔元件是插在所述开口中。因此，间隔元件是部分地被波纹管所包围。所述波纹管的下端固定在间隔元件上，优选地，固定在径向自所述空腔的壁部突出的轴环上。波纹管的下端亦可与气体排出板相连接。波纹管的上端与一个相对于间隔元件沿垂直方向运动的物体相连接。其在此是指保持对象，此保持对象是与后壁固定连接，使得，后壁能够沿垂直方向相对于气体排出板略微移动。波纹管具有第一区段及可相对于所述第一区段移动的第二区段。为此，第一与第二区段间的区域具有波形结构。第一区段优选地固定在间隔元件上，且第二区段固定在后壁上。设有若干个止挡元件，后壁相对于气体排出板的可移动性是通过所述止挡元件而受限。为此，特别是，设有环形件及封盖盘。处于反应器壳体的空腔的上区域中的保持装置优选由抗弯且特别是以轻型结构制成的主体所构成。其可以是具有彼此垂直延伸的气室壁的框架结构。吊架的上端优选地通过一个在过载时会断裂的销以固定在所述保持装置上。为此，吊架的上端可具有横向开口，所述销则插在所述开口中。所述销具有两个端部。一个端部插在吊架的开口中。所述销的另一个端部插在固定体的开口中，所述固定体优选是与所述保持元件固定连接。若施加至吊架的轴向力大于销的断裂力，则所述销会断裂，且吊架可在重力作用下垂直向下移动。为避免吊架所保持的进气机构掉落至基座，设有形式呈现为凸肩的锁固装置，此锁固装置是设置在吊架的头部元件上。在垂直方向上，所述凸肩与固定对应保持元件的侧边(Flanke)间隔了一定距离。在销断裂后，吊架可仅向下移动如此程度，直至所述凸肩碰撞所述侧边。为此，吊架的上端以可垂直运动的方式安装在保持元件的开口中。所述调整元件优选为调整环，具有径向朝外的轴环，此轴环支承在保持装置的法兰区段或凸缘上。如此形成的调整环具有一个或多个工具进入口，以便旋转所述调整环。调整环的内螺纹与保持元件的外螺纹相啮合，因此扭转所述调整环便可使得所述保持元件垂直移动。设有夹紧元件，其沿垂直方向固定在保持装置上。所述夹紧元件产生一个垂直朝下的作用力施加到所述保持元件上，由于吊架的上端是与保持元件固定连接，因而也施加到吊架上。
附图说明
图1为反应器壳体1的剖面的概略示意图，在所述反应器壳体中设有基座5及进气机构4，所述进气机构是通过吊架3而与固定在反应器壳体1的表面上的保持装置2相连接；
图2概略地示出本发明的第二实施例，根据此实施例，吊架3的上端3”具有上固定元件12’且吊架3的下端3’具有下固定元件11’，吊架3是通过所述下固定元件固定在进气机构4上；
圆3示出本发明的第三实施例的下固定元件的垂直剖面，所述下固定元件具有布置在进气机构4的气体排出板9与后壁10之间的间隔元件13；
图4示出具有下固定元件11的吊架3的视图；
图5示出图4中的v-v线的剖面图；
图6示出下固定元件11连同吊架3的半剖切透视立体圆；
图7示出上固定元件12的垂直剖面(根据图10中的VII-VII线),吊架3是通过所述上固定元件与保持装置2相连接；
图8示出上固定元件12连同吊架3的如图7的剖切透视立体图；
图9示出连同吊架3的上固定元件12的示意图；
图10示出上固定元件12的俯视图；
图11示出图10中的XI-XI线的剖面图；
图12示出图9中的XII-XII线的剖面图；
图13示意性示出两个吊架3相关于进气机构4的平面中心49的布置方案及所述吊架借助加热进气机构4的倾斜变化。
具体实施方式
图l概略示出用于沉积OLED的涂覆装置的壳体1。在反应器壳体1内部设有基座5’，借助冷却剂通道6可以冷却所述基座。基座5具有在水平线上延伸的顶面，待涂覆的基体可被放置在所述顶面上。进气机构在基座5上方垂直延伸，可通过所述进气机构将过程气体输入处于进气机构4的底面与基座5的顶面之间的过程室。为此，进气机构4具有气体排出板9’，可借助穿过调温通道8流动的调温剂以使所述气体排出板的温度保持高于基座5的温度。在气体排出板9中整体上均匀分布有多个筛网状布置的气体排出口7，所述气体排出口连接了所述过程室与气体分配室4’，而此气体分配器是被后壁10垂直朝上封闭。
设有多个吊架3’，进气机构4是通过所述吊架固定在保持装置2上。保持装置2优选由框架状且以轻型结构制成的主体所构成。其主体是固定在反应器壳体1的顶面上。保持装置2优选地仅以其位于水平线上的轮廓面的边缘固定在反应器壳体上。吊架3整体上均匀分布在所述轮廓面的整个范围内，使得，进气机构4保持在多个在进气机构4的整个轮廓面范围内均匀地分散布置的点上。
图2概略示出第二实施例，根据此实施例，各吊架3的下端3’通过下固定元件11固定在进气机构4上，其中，下固定元件11亦具有承担间隔保持功能的气体排出板9及后壁10。吊架3的上端3”具有上固定元件12’用于对吊架3进行高度调节。
如图l及图2所示，多个吊架3中的至少几个、优选地至少是多数并非固定在进气机构4的外边缘上，而是，确切而言，固定在若干个固定位置上，所述固定位置与进气机构4的轮廓的边缘之间隔了一定距离，使得，下固定元件11布置在气体分配室4’的内部。
图3至图6示出下固定元件11的优选的实施例的结构设计。下固定元件具有由金属体构成的间隔元件13。间隔元件13具有向下突出的支脚15。所述支脚具有轴向的空腔，螺钉16穿过所述空腔插入，所述螺钉的螺纹杆则分别被拧入气体排出板9的螺纹孔中。因此，支脚15接触到气体排出板9的朝上的面。
间隔元件13形成朝上打开的空腔14，其具有底部14’及环形围绕着空腔14的壁部14”。底部14’具有两个螺钉通孔，各自的螺钉17穿过所述螺钉通孔，而所述螺钉的螺纹杆被拧入吊架3的下端3’的内螺纹，使得，吊架3的下端3’与底部14’固定连接。
大约在底部14’的高度上，轴环18自壁部14”径向朝外突出。波纹管20的下端固定在轴环18上。间隔元件13穿过波纹管空腔而突出。波纹管20的上端与环形件22固定连接，所述环形件又贴靠在封盖盘21上，且优选地与封盖盘21固定连接。封盖盘21重新支承在后壁10的开口的边缘上，壁部14”的上区段穿过所述开口而突出。封盖盘21被用作夹紧件的环形件23所搭接。环形件23是借助螺钉24而与后壁10螺纹连接。
环形件23具有一个开口，吊架3穿过该开口而突出。在所述开口中设有另一个具有直径较小的开口的环形件23’，吊架3穿过所述开口而突出。壁部14”的上端缘与环形件23及环形件23’在垂直方向上间隔了一定距离。因此，后壁10可相对于气体排出板9沿垂直方向略微移动。气体分配室4’通过波纹管20以气密的方式朝上密封。
环形壳状的主体19固定在轴环18上。所述主体在此是指用于容纳颗粒的收集盘，所述颗粒沉积在波纹管20的波纹结构的外表面上，且可在波纹管20机械式运动时剥落。
吊架3在其上端3”及下端3’的区域中具有圆柱形横截面。吊架亦包含具有圆柱形横截面的中间区段29。
在下端3’与中间区段29之间设有第一弯曲区25及第二弯曲区26。在中间区段29与上端3”之间亦设有第一弯曲区28及第二弯曲区27。
第一弯曲区25、28使得吊架3能够沿第一弯曲方向，在一定程度上绕着横向于所述弯曲方向延伸的第一弯曲轴发生弯曲。二个第二弯曲区26、27使得吊架3能够沿垂直于第一弯曲方向的第二弯曲方向，在一定程度上绕垂直于第一弯曲轴的第二弯曲轴发生弯曲。
第一弯曲区25、28及第二弯曲区26、27皆由吊架的扁平区段所构成。所述弯曲区基本上具有板簧的形状。
处于最下方的第一弯曲区25直接连接至所述下端’，该弯曲区25的一部分仍然处于空腔14内部。
处于最上方的第一弯曲区28直接连接至保持元件36，上端3”通过所述保持元件而与保持装置2相连接。
保持元件36具有沿垂直方向延伸的开口，吊架3的上端3”插在所述开口中。在保持元件36的空腔38中，固定体45安置在空腔38的底部38’上。固定体45为挡圈样式，其中，其环形的开口以对齐的方式连接至保持元件36的开口。固定体的远离底部38’的宽侧面形成为侧边45’。
吊架3的上端3”的上端面通过螺钉42与头部件40相连接。头部件40具有齐平连接至上端3”的下区段。头部件40具有径向突出的轴环，其形成向下朝向侧边45’的凸肩40’。凸肩40’与侧边45’垂直间隔了一定距离。
在上端3”与头部件40的下端面之间的边界区域中，形成有横向通道或横向钻孔43，其中插入有保持销44。通道43可由棱柱形的夹爪所构成，保持销44通过所述夹爪在通道中被螺钉42夹紧。
保持销44的一端部插在横向钻孔43中。保持销44的另一端部插在通过螺钉46而与底部38’连接的固定体45的的钻孔中。将施加在吊架3上的拉力通过保持销44传递至保持元件36。若该拉力大于相当于保持销44的的断裂力的极限力，则保持销44会断裂。在此情况下，吊架3能以侧边45’与凸肩40’之间间隔距离的程度向下偏离。具体方式在于，在重力所引发的偏离运动期间，凸肩40’抵靠在侧边45’上，防止进气机构4在保持销44于过载情况下断裂时掉落至基座5上。
此外，保持销44具有指示功能。钻孔沿第一弯曲区28的第一弯曲方向延伸。
保持元件36具有外螺纹37。调整环32的内螺纹34被旋拧至外螺纹37。调整环32同时构成保持环，保持元件36通过所述保持环以固定在保持装置2上。为此，调整环32具有径向突出的支承区段33，该支承区段放置在保持装置2的凸缘30的接触区30’上。调整环32具有工具嵌接口35’，调整工具可卡入所述工具嵌接口，以便旋转调整环32。由于调整环32的此种旋转运动，保持元件36及吊架3沿垂直方向移动。为避免吊架3及保持元件36一同旋转，与吊架3抗扭连接的头部件40具有保持-工具嵌接口41。
设有夹紧元件47’，其具有大体呈星形的形状。所述夹紧元件具有开口47’，空腔38是穿过所述开口可触及。径向臂部47”自夹紧元件的环形区段突出，所述径向臂部可安置在螺钉48的螺纹杆上。螺钉48的头部卡住凸缘30。凸缘30具有径向开口的缝隙，直接连接至螺钉48的头部的螺纹区段穿过所述缝隙突出。螺钉48借助螺母固定在凸缘30上。夹紧元件47具有下压件的功能。其可防止在垂直位置上调整的保持元件36向上运动。
为调整吊架3的垂直位置，必须卸下螺钉48的螺母；而后，可旋转调整环32。在此情况下，头部件40被固持。在完成调整过程后，将螺钉48的螺母拧紧，使得夹紧元件47的底面贴靠在保持元件36的顶面上。
图13示意性地示出保持装置2及处于其下方的进气机构4，而进气机构的平面中心借助直线49标明。进气机构4的轮廓面上的任一点在进气机构4温度变化时在一条穿过平面中心49的直线上移动。吊架3以这样的方式定向，即，使得第一弯曲区24、25的弯曲方向朝向平面中心49。此点可在安装期间借助保持销44的指示功能实现，因为所述保持销44沿所述第一弯曲方向延伸。
在热膨胀时，在初始状态下处于倾斜位置c的吊架3’可移动至垂直位置b。吊架3亦可移动至另一倾斜位置a。吊架3亦可在其初始状态下垂直悬挂，且在加热进气机构4时移动至倾斜位置a。
上述实施方案用于对本申请所综述的发明进行阐述，所述发明亦至少借助以下特征组合对现有技术进行独创性地改进，亦即:
一种装置，其特征在于，在后壁10与气体排出板9之间设有间隔元件13’，而气体排出板9、后壁10、及吊架3的下端3’则固定在间隔元件上。
一种装置，其特征在于，吊架3具有沿其延伸方向相隔一定距离的第一及第二弯曲区25、28，其中，第一弯曲区25、28仅允许沿第一弯曲方向发生弯曲，并且，第二弯曲区26、27仅允许沿横向于第一弯曲方向而定向的第二弯曲方向发生弯曲。
一种装置，其特征在于，吊架3的上端3”固定在保持元件36上，而此保持元件的垂直位置是可相对于保持装置2调整。
一种装置，其特征在于，后壁10可相对于气体排出板9沿吊架3的延伸方向略微移动，且设有密封用波纹管20’，特别是，所述波纹管是通过第一区段以固定在间隔元件13上，且通过可相对于所述第一区段移动的第二区段固定在后壁10上。
一种装置，其特征在于，间隔元件13具有空腔14’，此空腔具有底部14”，而吊架3的下端3’固定在所述底部上。
一种装置，其特征在于，间隔元件13具有多个支脚，而所述支脚与气体排出板9固定连接。
一种装置，其特征在于，设有环形件23，此环形件固定在后壁10上，用于界定间隔元件13相对于后壁10的位移路径。
一种装置，其特征在于，弯曲区25至28由吊架3的板簧式削平的区域构成。
一种装置，其特征在于，与所述吊架(3)的下端(3’)及上端(3”)对应地分别直接相邻接地设置第一弯曲区(25，28)，以及，第二弯曲区(26，27)分别直接与所述第一弯曲区(25，28)相邻接。
一种装置，其特征在于，吊架3的上端3”通过在过载时会断裂的销44而与保持元件36相连接。
一种装置，其特征在于，与吊架3的上端3”对应配设具有朝下的凸肩40’的头部件40’，所述凸肩邻近于侧边45’，其中，所述吊架3这样与所述保持元件36对应设置，使得所述吊架3在所述销44断裂时由于重力而仅向下移动了所述凸肩40’与所述侧边45’间距的距离。
一种装置，其特征在于，保持元件36借助调整环32支承在保持装置2的凸缘30上。
一种装置，其特征在于，调整环作为调整元件32，具有与保持元件36的外螺纹37相互作用的内螺纹34。
一种装置，其特征在于，多个吊架3分别通过其上端3”固定在保持装置2上，且通过其下端3’固定在进气机构4上，并且由于进气机构4的热膨胀，多个吊架3的角位置相对于进气机构4的延伸平面的面法线发生变化，其中，第一弯曲区25、28的弯曲方向是朝向进气机构4的轮廓面的平面中心49定向。
所有己公开特征(以其自身或多个特征的组合)皆为发明本质所在。在本申请案的公开内容中亦包含相关/所附的优先权材料(在先申请的副本)所公开的全部内容，为此这些材料的特征也被吸纳到本申请的权利要求中。从属权利要求以其特征表征对现有技术的独立的创造性的改良方案，尤其用于基于这些权利要求进行分案申请。
附图标记清单
1 反应器壳体
2 保持装置
3 吊架
3’ 下端
3” 上端
4 进气机构
4’ 气体分配室
5 基座
6 冷却剂通道
7 气体排出口
8 调温通道
9 气体排出板
10 后壁
11 下固定元件
12 上固定元件
13 间隔元件
14 空腔
14’ 底部
14” 壁部
15 支脚
16 螺钉
17 螺钉
18 轴环
19 壳部
20 波纹管
21 封盖盘
22 环形件
23 环形件
23’ 环形件
24 螺钉
25 弯曲区
26 弯曲区
27 弯曲区
28 弯曲区
29 圆柱区域，中间区段
30 凸缘
30’ 接触区
31 开口，边缘开放
32 调整环
33 支承区段
34 内螺纹
35 工具进入口
36 保持元件
37 外螺纹
38 空腔
38’ 底部
39 钻孔
40 头部件
40’ 凸肩
41 工具进入口
42 螺钉
43 横向通道
44 保持销
45 固定体
45’ 侧边
46 螺钉
47 夹紧元件
47’ 开口
47” 臂部
48 螺钉
49 平面中心
a 倾斜位置
b 垂直位置
c 倾斜位置

Claims (15)

1.一种用于涂覆至少一个基体的装置，所述装置具有布置在反应器壳体(1)中的用于将过程气体输入过程室的进气机构(4)，此进气机构(4)具有气体分配室(4’)，而此气体分配室(4’)包含具有排出口(7)的气体排出板(9)、及平行于所述气体排出板延伸的后壁(10)，并且，所述进气机构(4)通过吊架(3)固定在反应器壳体(1)上，其中，吊架(3)以与所述进气机构(4)的侧边缘相间隔的方式固定在所述进气机构(4)上，其特征在于，在所述后壁(10)与所述气体排出板(9)之间设有间隔元件(13)，而气体排出板(9)、后壁(10)、及吊架(3)的下端(3’)固定在所述间隔元件上。
2.一种用于涂覆至少一个基体的装置，所述装置具有布置在反应器壳体(1)中的用于将过程气体输入过程室的进气机构(4)，此进气机构(4)具有气体分配室(4’)，而此气体分配室(4’)包含具有排出口(7)的气体排出板(9)、及平行于所述气体排出板延伸的后壁(10)，而且，所述进气机构(4)通过吊架(3)固定在所述反应器壳体(1)上，其中，吊架(3)以与所述进气机构(4)的侧边缘相间隔的方式固定在所述进气机构(4)上，其特征在于，所述吊架(3)具有沿其延伸方向相隔一定距离的第一及第二弯曲区(25至28)，其中，第一弯曲区(25，28)仅允许沿第一弯曲方向发生弯曲，并且，第二弯曲区(26，27)仅允许沿横向于所述第一弯曲方向而定向的第二弯曲方向发生弯曲。
3.一种用于涂覆至少一个基体的装置，所述装置具有布置在反应器壳体(1)中的用于将过程气体输入过程室的进气机构(4)，此进气机构(4)具有气体分配室(4’)，而此气体分配室(4’)包含具有排出口(7)的气体排出板(9)、及平行于所述气体排出板延伸的后壁(10)，而且，所述进气机构(4)通过吊架(3)固定在所述反应器壳体(1)上，其中，吊架(3)以与所述进气机构(4)的侧边缘相间隔的方式固定在所述进气机构(4)上，其中，所述吊架(3)的上端(3”)固定在保持元件(36)上，所述保持元件(36)的垂向的位置能够相对于保持装置(2)调整，其特征在于，所述吊架(3)的上端(3”)通过在过载时会断裂的销(44)而与保持元件(36)相连接，其中，与所述吊架(3)的上端(3”)对应配设具有朝下的凸肩(40’)的头部件(40)，其中，所述凸肩(40’)与侧边(45’)在垂向上相间隔，使得所述吊架(3)在所述销(44)断裂时由于重力而仅向下移动了所述凸肩(40’)与所述侧边(45’)间距的距离。
4.按照权利要求1所述的装置，其特征在于，所述后壁(10)能够相对于所述气体排出板(9)沿所述吊架(3)的延伸方向略微移动，且为了密封而设有波纹管(20)，特别是，所述波纹管(20)通过第一区段固定在所述间隔元件(13)上，且通过可相对于所述第一区段移动的第二区段固定在所述后壁(10)上。
5.按照权利要求1所述的装置，其特征在于，所述间隔元件(13)具有空腔(14)，此空腔(14)具有底部(14’)，而所述吊架(3)的下端(3’)固定在所述底部(14’)上。
6.按照权利要求1所述的装置，其特征在于，所述间隔元件(13)具有多个支脚(15)，所述支脚与所述气体排出板(9)固定连接。
7.按照权利要求1、2或3所述的装置，其特征在于，所述装置具有环形件(23)，此环形件(23)固定在所述后壁(10)上，用于界定所述间隔元件(13)相对于所述后壁(10)的位移路径。
8.按照权利要求2所述的装置，其特征在于，所述弯曲区(25至28)由所述吊架(3)的板簧式削平的区域构成。
9.按照权利要求1所述的装置，其特征在于，与所述吊架(3)的下端(3’)及上端(3”)对应地分别直接相邻接地设置第一弯曲区(25，28)，以及，第二弯曲区(26，27)分别直接与所述第一弯曲区(25，28)相邻接。
10.按照权利要求4所述的装置，其特征在于，设有布置在所述间隔元件(13)上的、用于收集可能自所述波纹管(20)脱落的颗粒的装置，这种装置特别是呈壳部(19)的形式。
11.一种用于涂覆至少一个基体的装置，所述装置具有布置在反应器壳体(1)中的用于将过程气体输入过程室的进气机构(4)，此进气机构(4)具有气体分配室(4’)，而此气体分配室(4’)包含具有排出口(7)的气体排出板(9)、及平行于所述气体排出板延伸的后壁(10)，而且，所述进气机构(4)通过吊架(3)固定在所述反应器壳体(1)上，其中，吊架(3)以与所述进气机构(4)的侧边缘相间隔的方式固定在所述进气机构(4)上，其特征在于，所述吊架(3)的上端(3”)固定在保持元件(36)上，所述保持元件(36)的垂向的位置能够相对于保持装置(2)调整，其中，所述吊架(3)的上端(3”)通过在过载时会断裂的销(44)而与保持元件(36)相连接。
12.按照权利要求11所述的装置，其特征在于，与所述吊架(3)的上端(3”)对应配设具有朝下的凸肩(40’)的头部件(40)，所述凸肩(40’)邻近于侧边(45’)，而其中，所述吊架(3)这样与所述保持元件(36)对应设置，使得所述吊架(3)在所述销(44)断裂时由于重力而仅向下移动了所述凸肩(40’)与所述侧边(45’)间距的距离。
13.按照前述权利要求3所述的装置，其特征在于，所述保持元件(36)借助调整环(32)支承在所述保持装置(2)的凸缘(30)上。
14.按照权利要求13所述的装置，其特征在于，其中，调整环作为调整元件(32)，具有与所述保持元件(36)的外螺纹(37)相互作用的内螺纹(34)。
15.按照前述权利要求1、2或3所述的装置，其特征在于，多个吊架(3)分别通过其上端(3”)固定在所述保持装置(2)上，且通过其下端(3’)固定在所述进气机构(4)上，并且由于所述进气机构(4)的热膨胀，所述吊架(3)的角位置相对于所述进气机构(4)的延伸平面的面法线发生变化，其中，各个第一弯曲区(25，28)的弯曲方向是朝向所述进气机构(4)的轮廓面的平面中心(49)定向。
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