CN107068722A - 一种阵列基板、显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种阵列基板、显示面板及显示装置，用以减少像素界定层制备过程中对衬底造成的损伤，防止电极层边缘塌陷，进而提高产品工作稳定性。本申请实施例提供的一种阵列基板，该阵列基板包括：衬底、位于所述衬底之上呈阵列分布的电极层、位于所述衬底之上且与所述电极层相互间隔设置的垫高层、以及位于所述垫高层之上的像素界定层；所述电极层与所述垫高层接触。

Description

一种阵列基板、显示面板及显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板及显示装置。

背景技术

有机电致发光显示器具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，有机电致发光显示技术已经成为一种重要的显示技术。

针对有机发光二极管(OLED)或高分子发光二极管(PLED)有机电致发光器件，有机薄膜的形成方法有真空蒸镀和溶液制程两种方法，真空蒸镀方法，适用于有机小分子，其特点是有机薄膜的形成不需要溶剂，薄膜厚度均一，但是设备投资大、材料利用率低、不适用于大尺寸产品的生产。溶液制成包括旋涂、喷墨打印、喷嘴涂覆法等，适用于聚合物材料和可溶性小分子，其设备成本低，在大规模、大尺寸生产上优势突出。现有技术中，像素界定层一般由两层组成，第一层由无机材料组成的亲液层，第二层由有机材料组成的疏液层，两层浸润性不同的材料组成的像素界定层能够使溶液精准打印和形成厚度均一的有机薄膜。采用等离子气相沉积工艺制备无机像素界定层时，制备过程中的物质或者气体会与平坦化层上残留的蚀刻液发生化学反应，致使平坦化层产生孔洞，造成阳极边缘塌陷，进而影响OLED器件性能。

综上，现有技术中像素界定层制备过程容易对平坦化层造成损伤，造成阳极边缘塌陷，影响产品工作稳定性。

发明内容

本申请实施例提供了一种阵列基板、显示面板及显示装置，用以减少像素界定层制备过程中对衬底造成的损伤，防止电极层边缘塌陷，进而提高产品工作稳定性。

本申请实施例提供的一种阵列基板，该阵列基板包括：衬底、位于所述衬底之上呈阵列分布的电极层、位于所述衬底之上且与所述电极层相互间隔设置的垫高层、以及位于所述垫高层之上的像素界定层；所述电极层与所述垫高层接触。

本申请实施例提供的阵列基板，由于所述垫高层位于所述衬底之上，所述像素界定层位于所述垫高层之上，即像素界定层和衬底之间设置垫高层，从而可以减少电极层蚀刻后蚀刻液的残留，进而避免像素界定层直接设置在衬底上的制备过程中在衬底发生化学反应，即可以减少像素界定层制备过程中对衬底造成的损伤，进而可以减少电极层边缘塌陷的情况，可以提高产品工作稳定性。

较佳地，所述电极层与所述像素界定层接触面为曲面。

本申请实施例提供的阵列基板，所述电极层与所述像素界定层接触面为曲面，从而可以增大像素界定层覆盖电极层边缘的面积，即便电极层边缘发生塌陷，在平行于衬底方向上，像素界定层覆盖电极层边缘的宽度不变，从而可以避免电极层边缘塌陷导致的像素界定层无法覆盖电极层边缘，进而可以防止电极层边缘出现尖端放电等问题对阵列基板工作稳定性的影响。

较佳地，所述垫高层的材料包括下列材料之一或组合：聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、苯基乙胺、聚萘二甲酸乙二醇酯。

较佳地，所述像素界定层包括：无机像素界定层和位于所述无机像素界定层之上的有机像素界定层；所述无机像素界定层完全覆盖所述电极层的曲面。

较佳地，所述有机像素界定层的材料包括下列材料之一或组合：聚硅氧烷、氟化聚酰亚胺、氟化甲基丙烯酸甲酯。

较佳地，所述无机像素界定层的材料包括：氧化硅或氮化硅。

较佳地，所述衬底为平坦化层。

较佳地，所述电极层为阳极层。

本申请实施例提供的一种显示面板，所述显示面板包括本申请实施例提供的阵列基板。

本申请实施例提供的一种显示装置，所述显示装置包括本申请实施例提供的显示面板。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的一种阵列基板结构示意图；

图2为本申请实施例提供的第二种阵列基板结构示意图；

图3为本申请实施例提供的第三种阵列基板结构示意图；

图4为本申请实施例提供的一种阵列基板制备方法的流程示意图。

具体实施方式

本申请实施例提供了一种阵列基板、显示面板及显示装置，用以减少像素界定层制备过程中对衬底造成的损伤，防止电极层边缘塌陷，进而提高产品工作稳定性。

本申请实施例提供的一种阵列基板，如图1所示，该阵列基板包括：衬底1、位于所述衬底1之上呈阵列分布的电极层2、位于所述衬底1之上且与所述电极层2相互间隔设置的垫高层3、以及位于所述垫高层3之上的像素界定层4，所述电极层与所述垫高层接触。

本申请实施例提供的阵列基板，由于所述垫高层位于所述衬底之上，所述像素界定层位于所述垫高层之上，即像素界定层和衬底之间设置垫高层，从而可以减少电极层刻蚀后刻蚀液的残留，进而可以避免像素界定层直接设置在衬底上的制备过程中在衬底发生化学反应，即可以减少像素界定层制备过程中对衬底造成的损伤，进而可以减少电极层边缘塌陷的情况，可以提高产品工作稳定性。

较佳地，本申请实施例提供的阵列基板中，所述垫高层的厚度不小于所述电极层的厚度。

较佳地，如图2所示，所述电极层2与所述像素界定层4接触面5为曲面。

本申请实施例提供的阵列基板，所述电极层与所述像素界定层接触面为曲面，从而可以增大像素界定层覆盖电极层边缘的面积，即便电极层边缘发生塌陷，在平行于衬底方向上，像素界定层覆盖电极层边缘的宽度不变，从而可以避免电极层边缘塌陷导致的像素界定层无法覆盖电极层边缘，进而可以防止电极层边缘出现尖端放电等问题对阵列基板工作稳定性的影响。

较佳地，所述垫高层的材料包括下列材料之一或组合：聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、苯基乙胺、聚萘二甲酸乙二醇酯。当然，所述垫高层也可以采用其他材料，以减少像素界定层制备过程中对衬底造成的损伤。

较佳地，如图3所示，所述像素界定层4包括：无机像素界定层6和位于所述无机像素界定层6之上的有机像素界定层7。

较佳地，当电极层2与像素界定层4的接触面为曲面时，所述无机像素界定层完全覆盖所述电极层的曲面。

较佳地，所述有机像素界定层7的材料包括下列材料之一或组合：聚硅氧烷、氟化聚酰亚胺、氟化甲基丙烯酸甲酯。当然，也可以采用其他有机疏液材料作为有机像素界定层。

较佳地，所述无机像素界定层6的材料包括：氧化硅或氮化硅。当然，也可以采用其他无机亲液材料作为无机像素界定层。

较佳地，本申请实施例提供的如图1、图2、图3所示的阵列基板中，所述衬底1为平坦化层。

较佳地，本申请实施例提供的如图1、图2、图3所示的阵列基板中，所述电极层2为阳极层。

下面，以衬底为平坦化层、电极层为阳极层为例，对本申请实施例提供的阵列基板制备方法进行举例说明，如图4所示，阵列基板制备步骤如下：

S401、在平坦化层8上制备垫高层3；

制备垫高层，例如可以通过曝光显影工艺形成垫高层，也可以通过喷墨打印工艺形成垫高层；

S402、设置阳极材料层，通过光刻工艺对阳极材料层进行图案化处理，得到阳极层9；

S403、设置无机像素界定层6；

S404、设置有机像素界定层7。

本申请实施例提供的阵列基板制备方法，由于所述垫高层3位于所述平坦化层8之上，所述无机像素界定层6位于所述垫高层3之上，即无机像素界定层6和平坦化层8之间设置垫高层3，可以减少阳极层9蚀刻后蚀刻液的残留，从而可以避免无机像素界定层7直接设置在平坦化层8上的制备过程中在平坦化层8发生化学反应，即可以减少无机像素界定层7制备过程中对平坦化层8造成的损伤，进而可以减少阳极层9边缘塌陷的情况，可以提高产品工作稳定性。

需要说明的是，本申请实施例提供的如图4所示的阵列基板制备方法，在步骤S402中，可以在通过光刻工艺进行图案化处理的步骤中使得阳极层9存在曲面区域，从而可以使得后续无机像素界定层7与阳极层9的接触面为曲面，无机像素界定层7完全覆盖阳极层的曲面，从而可以增大像素界定层覆盖阳极层边缘的面积，即便阳极层发生塌陷，在平行于所述平坦化层方向上，像素界定层覆盖阳极边缘的宽度不变，即像素界定层仍可以覆盖阳极边缘，可以防止阳极塌陷时像素界定层无法覆盖阳极边缘，造成阵列基板工作过程中阳极边缘出现尖端放电等问题对产品工作稳定性的影响。

此外，本申请实施例提供的如图4所示的阵列基板制备方法，在平坦化层之上先设置垫高层，之后再设置阳极层，在实际生产中，也可以选择先设置阳极层，再设置垫高层，之后再设置像素定义层，同样可以实现减少像素界定层制备过程中对平坦化层造成的损伤，防止阳极边缘塌陷。

本申请实施例提供的一种显示面板，所述显示面板包括本申请实施例提供的阵列基板。

例如本申请实施例提供的显示面板可以是OLED显示面板。

本申请实施例提供的一种显示装置，所述显示装置包括本申请实施例提供的显示面板。

例如本申请实施例提供的显示装置可以是手机、电视、电脑等装置。

综上所述，本申请实施例提供的阵列基板、显示面板及显示装置，由于所述垫高层位于所述衬底之上，所述像素界定层位于所述垫高层之上，即像素界定层和衬底之间设置垫高层，从而可以减少电极层刻蚀后刻蚀液的残留，进而可以避免像素界定层直接设置在衬底上的制备过程中在衬底发生化学反应，即可以减少像素界定层制备过程中对衬底造成的损伤，进而可以减少电极层边缘塌陷的情况，可以提高产品工作稳定性。本申请实施例提供的阵列基板，所述电极层与所述像素界定层接触面为曲面，从而可以增大像素界定层覆盖电极层边缘的面积，即便电极层边缘发生塌陷，在平行于衬底方向上，像素界定层覆盖电极层边缘的宽度不变，从而可以避免电极层边缘塌陷导致的像素界定层无法覆盖电极层边缘，进而可以防止电极层边缘出现尖端放电等问题对产品工作稳定性的影响。

显然，本领域的技术人员可以对本申请进行各种改动和变型而不脱离本申请的精神和范围。这样，倘若本申请的这些修改和变型属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内，则本申请也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种阵列基板，其特征在于，该阵列基板包括：衬底、位于所述衬底之上呈阵列分布的电极层、位于所述衬底之上且与所述电极层相互间隔设置的垫高层、以及位于所述垫高层之上的像素界定层；所述电极层与所述垫高层接触。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述电极层与所述像素界定层接触面为曲面。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述垫高层的材料包括下列材料之一或组合：聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、苯基乙胺、聚萘二甲酸乙二醇酯。

4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述像素界定层包括：无机像素界定层和位于所述无机像素界定层之上的有机像素界定层；所述无机像素界定层完全覆盖所述电极层的曲面。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述有机像素界定层的材料包括下列材料之一或组合：聚硅氧烷、氟化聚酰亚胺、氟化甲基丙烯酸甲酯。

6.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述无机像素界定层的材料包括：氧化硅或氮化硅。

7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述衬底为平坦化层。

8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述电极层为阳极层。

9.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括权利要求1～8任一权利要求所述的阵列基板。

10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求9所述的显示面板。