CN107059074A - 一种高效镀金液及镀金处理工艺 - Google Patents

一种高效镀金液及镀金处理工艺 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种高效镀金液及镀金处理工艺,镀金液各组分质量份数:柠檬酸钾10‑13份、柠檬酸3‑5份、光泽剂1‑3份、浓缩钴1‑3份、平衡盐1‑2份、氰化亚金钾0.1‑0.2份、纯水73.8‑83.9份,镀金处理工艺包括以下步骤:通过清洗液对镀锡铜线或镀镍铜线表面进行清洗除杂,将除杂后的镀锡铜线或镀镍铜线浸泡在稀硫酸中进行活化,将活化后的镀锡铜线或镀镍铜线采用纯水水洗,将水洗后的镀锡铜线或镀镍铜线进入所述高效镀金液中进行镀金,将镀金后的镀锡铜线或镀镍铜线在封孔药液中进行浸泡覆盖,在镀锡铜线或镀镍铜线的镀金层表面形成一层抗氧化膜。本发明能够将电镀前的镀锡铜线或镀镍铜线进行彻底清洗,镀金层均匀性好,不易氧化。

Description

一种高效镀金液及镀金处理工艺
技术领域
本发明属于镀金处理技术领域,具体涉及一种高效镀金液及镀金处理工艺。
背景技术
FFC是一种通过高科技自动化设备生产线压合而成的新型数据线缆,也称作软排线,具有柔软、厚度薄、拆卸方便、易解决电磁屏蔽等优点。FFC在现代电器中几乎无处不在,适合于移动部件与主板之间、PCB板对PCB板之间、小型化电器设备中作数据传输线缆之用。FFC的结构中包括镀锡铜线或镀镍铜线,为了防止镀锡铜线或镀镍铜线生锈和提高其耐腐蚀、抗老化的性能,通常需要在镀锡铜线或镀镍铜线表面进行电解镀金,而在镀金前需要对镀锡铜线或镀镍铜线进行电镀前处理,除去镀锡铜线或镀镍铜线表面的灰尘、油污等。常规的电镀前处理方法是直接用自来水或纯水清洗镍材,但该处理方法无法将镀锡铜线或镀镍铜线表面完全清洁干净,以致FFC使用过程中会出现镀金层脱落的现象,从而造成产品使用寿命缩短。
发明专利镀金液和镀金方法(公告号为CN101065518)本发明提供镀金液和镀金方法,所述镀金液具有与氰类镀金液相当的性能,并且毒性低而稳定。所述镀金液含有碘和/或碘离子、金离子以及具有至少4个碳原子的多元醇。具有至少4个碳原子的多元醇可以是二乙二醇或者三乙二醇。在该镀金液中,具有至少4个碳原子的多元醇的含量一般为10重量%-90重量%,该镀金液可以包含水。但是该发明未对镀金层进行抗氧化处理。
因此,急需一种在镀金前对镀锡铜线或镀镍铜线进行彻底清洗,镀金层均匀性好,不易氧化的高效镀金液及镀金处理工艺。
发明内容
本发明的目的是针对现有镀金工艺镀金层厚度不均,镀金后容易氧化的问题,提供一种可对镀金前的镀锡铜线或镀镍铜线进行彻底清洗,镀金层均匀性好,不易氧化的高效镀金液及镀金处理工艺。
本发明提供了如下的技术方案:
一种高效镀金液包括如下组分:柠檬酸钾、柠檬酸、光泽剂、浓缩钴、平衡盐、氰化亚金钾和纯水,其各组分的质量份数如下:柠檬酸钾10-13份、柠檬酸3-5份、光泽剂1-3份、浓缩钴1-3份、平衡盐1-2份、氰化亚金钾0.1-0.2份、纯水73.8-83.9份,该组分的镀金液镀金的效果最好,镀金时间短,镀金层均匀性好。
优选的,所述光泽剂为2,3-二氨基吡啶,所述平衡盐为氰化金钾。
一种高效镀金处理工艺,包括以下步骤:
S1:去油污清洗,通过清洗液对镀锡铜线或镀镍铜线表面进行清洗除杂;
S2:酸活化:将S1除杂后的镀锡铜线或镀镍铜线浸泡在稀硫酸中进行活化;
S3:水洗,将S2活化后的镀锡铜线或镀镍铜线采用纯水水洗;
S4:镀金,将水洗后的镀锡铜线或镀镍铜线进入所述高效镀金液中进行镀金;
S5:后处理,将镀金后的镀锡铜线或镀镍铜线在封孔药液中进行浸泡覆盖,在镀锡铜线或镀镍铜线的镀金层表面形成一层抗氧化膜。
去油污清洗主要去除镀锡铜线或镀镍铜线表面的油污,酸活化主要是对镀锡铜线或镀镍铜线表面的氧化物进行去除,水洗是将镀锡铜线或镀镍铜线表面去除的杂质洗净,便于镀金的进行,镀金后的后处理主要是在镀金层表面形成抗氧化膜,防止镀金层损坏。
优选的,所述步骤S1中清洗液的各组分质量份数如下:十二烷基硫酸钠12-15份、磷酸钠20-23份、纯水62-68份、清洗温度为室温,处理时间1-2分钟,该组分的清洗液、清洗温度和处理时间下清洗效果最好,可清理干净镀锡铜线或镀镍铜线表面的油污。
优选的,所述步骤S2中稀硫酸中各组分的质量份数如下:硫酸14-17份、纯水83-86份,酸活化温度为室温,浸泡时间3-5秒,该条件下的酸活化效果最好,除去镀锡铜线或镀镍铜线表面的氧化物。
优选的,所述步骤S3中水洗温度45-65℃,水洗时间80-120秒。
优选的,所述步骤S4中镀金液温度为50-60℃,处理时间为10-20秒,电流密度0.2-1A/dm2,在该镀金液的温度和电流密度下处理时间最短,提高了工作效率,且镀金效果好,镀金层厚度均匀。
优选的,所述步骤S5中封孔药液中各组分的质量份数如下:防变色剂CT-3为7-9份、纯水为91-93份,封孔药液温度为40-50℃,浸泡时间3-6秒,该组分的封孔药液、温度和浸泡时间在镀金层形成抗氧化膜的效果最好。
本发明的有益效果是:
1、本发明采用去油污清洗、酸活化和水洗对镀锡铜线或镀镍铜线进行处理,处理后的镀锡铜线或镀镍铜线彻底清除了油脂、氧化物等杂质,有利于镀金稳定进行。
2、本发明的镀金液经试验后,镀金速度快,镀金层均匀性好,厚度一致。
3、本发明的镀锡铜线或镀镍铜线镀金后浸泡在封孔药液中,形成抗氧化膜,防止镀金层被氧化和损坏。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本发明的实施例一起用于解释本发明,并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1是本发明的工艺流程图。
具体实施方式
实施例1
一种高效镀金液包括如下组分:柠檬酸钾、柠檬酸、光泽剂、浓缩钴、平衡盐、氰化亚金钾和纯水,其各组分的质量份数如下:柠檬酸钾10-13份、柠檬酸3-5份、光泽剂1-3份、浓缩钴1-3份、平衡盐1-2份、氰化亚金钾0.1-0.2份、纯水73.8-83.9份。
如图1所示,一种高效镀金处理工艺,包括以下步骤:
S1:去油污清洗,通过清洗液对镀锡铜线或镀镍铜线表面进行清洗除杂;
S2:酸活化:将S1除杂后的镀锡铜线或镀镍铜线浸泡在稀硫酸中进行活化;
S3:水洗,将S2活化后的镀锡铜线或镀镍铜线采用纯水水洗;
S4:镀金,将水洗后的镀锡铜线或镀镍铜线进入所述高效镀金液中进行镀金;
S5:后处理,将镀金后的镀锡铜线或镀镍铜线在封孔药液中进行浸泡覆盖,在镀锡铜线或镀镍铜线的镀金层表面形成一层抗氧化膜。
去油污清洗主要去除镀锡铜线或镀镍铜线表面的油污,酸活化主要是对镀锡铜线或镀镍铜线表面的氧化物进行去除,水洗是将镀锡铜线或镀镍铜线表面去除的杂质洗净,便于镀金的进行,镀金后的后处理主要是在镀金层表面形成抗氧化膜,防止镀金层损坏。
本实施例中,步骤S1中清洗液的各组分质量份数如下:十二烷基硫酸钠12-15份、磷酸钠20-23份、纯水62-68份,清洗温度为室温,处理时间1-2分钟,该组分的清洗液、清洗温度和处理时间下清洗效果最好。步骤S2中稀硫酸中各组分的质量份数如下:硫酸14-17份、纯水83-86份,酸活化温度为室温,浸泡时间3-5秒,该条件下的酸活化效果最好。步骤S3中水洗温度45-65℃,水洗时间80-120秒。
经本实施例处理后的镀锡铜线或镀镍铜线,表面的灰尘和污物彻底清洁干净,使电镀后的镀金层均匀性好。
实施例2
一种高效镀金液包括如下组分:柠檬酸钾、柠檬酸、光泽剂、浓缩钴、平衡盐、氰化亚金钾和纯水,其各组分的质量份数如下:柠檬酸钾10-13份、柠檬酸3-5份、光泽剂1-3份、浓缩钴1-3份、平衡盐1-2份、氰化亚金钾0.1-0.2份、纯水73.8-83.9份。
具体的,光泽剂为2,3-二氨基吡啶,平衡盐为氰化金钾。
如图1所示,一种高效镀金处理工艺,包括以下步骤:
S1:去油污清洗,通过清洗液对镀锡铜线或镀镍铜线表面进行清洗除杂;
S2:酸活化:将S1除杂后的镀锡铜线或镀镍铜线浸泡在稀硫酸中进行活化;
S3:水洗,将S2活化后的镀锡铜线或镀镍铜线采用纯水水洗;
S4:镀金,将水洗后的镀锡铜线或镀镍铜线进入所述高效镀金液中进行镀金;
S5:后处理,将镀金后的镀锡铜线或镀镍铜线在封孔药液中进行浸泡覆盖,在镀锡铜线或镀镍铜线的镀金层表面形成一层抗氧化膜。
去油污清洗主要去除镀锡铜线或镀镍铜线表面的油污,酸活化主要是对镀锡铜线或镀镍铜线表面的氧化物进行去除,水洗是将镀锡铜线或镀镍铜线表面去除的杂质洗净,便于镀金的进行,镀金后的后处理主要是在镀金层表面形成抗氧化膜,防止镀金层损坏。
本实施例中,步骤S1中清洗液的各组分质量份数如下:十二烷基硫酸钠12-15份、磷酸钠20-23份、纯水62-68份,清洗温度为室温,处理时间1-2分钟,该组分的清洗液、清洗温度和处理时间下清洗效果最好。步骤S2中稀硫酸中各组分的质量份数如下:硫酸14-17份、纯水83-86份,酸活化温度为室温,浸泡时间3-5秒,该条件下的酸活化效果最好。步骤S3中水洗温度45-65℃,水洗时间80-120秒。
本实施例中,步骤S4中镀金液温度为50-60℃,处理时间为10-20秒,电流密度0.2-1A/dm2,在该镀金液温度和电流密度下,处理时间较短,提高了效率,且镀金的效果最好,镀金层厚度均匀。
经本实施例处理后的镀锡铜线或镀镍铜线,表面的灰尘和污物彻底清洁干净,使电镀后的镀金层均匀性好,厚度一致。
实施例3
如图1所示,一种镍材电镀金的前处理方法,包括以下步骤:
一种高效镀金液包括如下组分:柠檬酸钾、柠檬酸、光泽剂、浓缩钴、平衡盐、氰化亚金钾和纯水,其各组分的质量份数如下:柠檬酸钾10-13份、柠檬酸3-5份、光泽剂1-3份、浓缩钴1-3份、平衡盐1-2份、氰化亚金钾0.1-0.2份、纯水73.8-83.9份。
具体的,光泽剂为2,3-二氨基吡啶,平衡盐为氰化金钾。
如图1所示,一种高效镀金处理工艺,包括以下步骤:
S1:去油污清洗,通过清洗液对镀锡铜线或镀镍铜线表面进行清洗除杂;
S2:酸活化:将S1除杂后的镀锡铜线或镀镍铜线浸泡在稀硫酸中进行活化;
S3:水洗,将S2活化后的镀锡铜线或镀镍铜线采用纯水水洗;
S4:镀金,将水洗后的镀锡铜线或镀镍铜线进入所述高效镀金液中进行镀金;
S5:后处理,将镀金后的镀锡铜线或镀镍铜线在封孔药液中进行浸泡覆盖,在镀锡铜线或镀镍铜线的镀金层表面形成一层抗氧化膜。
去油污清洗主要去除镀锡铜线或镀镍铜线表面的油污,酸活化主要是对镀锡铜线或镀镍铜线表面的氧化物进行去除,水洗是将镀锡铜线或镀镍铜线表面去除的杂质洗净,便于镀金的进行,镀金后的后处理主要是在镀金层表面形成抗氧化膜,防止镀金层损坏。
本实施例中,步骤S1中清洗液的各组分质量份数如下:十二烷基硫酸钠12-15份、磷酸钠20-23份、纯水62-68份,清洗温度为室温,处理时间1-2分钟,该组分的清洗液、清洗温度和处理时间下清洗效果最好。步骤S2中稀硫酸中各组分的质量份数如下:硫酸14-17份、纯水83-86份,酸活化温度为室温,浸泡时间3-5秒,该条件下的酸活化效果最好。步骤S3中水洗温度45-65℃,水洗时间80-120秒。
本实施例中,步骤S4中镀金液温度为50-60℃,处理时间为10-20秒,电流密度0.2-1A/dm2,在该镀金液温度和电流密度下,处理时间较短,提高了效率,且镀金的效果最好,镀金层厚度均匀。
本实施例中,步骤S5中封孔药液中各组分的质量份数如下:防变色剂CT-3为7-9份、纯水为91-93份,封孔药液温度为40-50℃,浸泡时间3-6秒,该组分的封孔药液、温度和浸泡时间下形成的抗氧化膜均匀性好,防止镀金层被氧化。
经本实施例处理后的镀锡铜线或镀镍铜线,表面的灰尘和污物彻底清洁干净,使电镀后的镀金层均匀性好,厚度一致,且镀金层不易被氧化。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种高效镀金液,其特征在于,其包括如下组分:柠檬酸钾、柠檬酸、光泽剂、浓缩钴、平衡盐、氰化亚金钾和纯水,其各组分的质量份数如下:柠檬酸钾10-13份、柠檬酸3-5份、光泽剂1-3份、浓缩钴1-3份、平衡盐1-2份、氰化亚金钾0.1-0.2份、纯水73.8-83.9份。
2.根据权利要求1所述的高效镀金液,其特征在于,所述光泽剂为2,3-二氨基吡啶,所述平衡盐为氰化金钾。
3.一种高效镀金处理工艺,其特征在于,包括以下步骤:
S1:去油污清洗,通过清洗液对镀锡铜线或镀镍铜线表面进行清洗除杂;
S2:酸活化:将S1除杂后的镀锡铜线或镀镍铜线浸泡在稀硫酸中进行活化;
S3:水洗,将S2活化后的镀锡铜线或镀镍铜线采用纯水水洗;
S4:镀金,将水洗后的镀锡铜线或镀镍铜线进入所述高效镀金液中进行镀金;
S5:后处理,将镀金后的镀锡铜线或镀镍铜线在封孔药液中进行浸泡覆盖,在镀锡铜线或镀镍铜线的镀金层表面形成一层抗氧化膜。
4.根据权利要求3所述的一种高效镀金处理工艺,其特征在于,所述步骤S1中清洗液的各组分质量份数如下:十二烷基硫酸钠12-15份、磷酸钠20-23份、纯水62-68份,清洗温度为室温,处理时间1-2分钟。
5.根据权利要求3所述的一种高效镀金处理工艺,其特征在于,所述步骤S2中稀硫酸中各组分的质量份数如下:硫酸14-17份、纯水83-86份,酸活化温度为室温,浸泡时间3-5秒。
6.根据权利要求3所述的一种高效镀金处理工艺,其特征在于,所述步骤S3中水洗温度45-65℃,水洗时间80-120秒。
7.根据权利要求3所述的一种高效镀金处理工艺,其特征在于,所述步骤S4中镀金液温度为50-60℃,处理时间为10-20秒,电流密度0.2-1A/dm2
8.根据权利要求3所述的一种高效镀金处理工艺,其特征在于,所述步骤S5中封孔药液中各组分的质量份数如下:防变色剂CT-3为7-9份,纯水为91-93份,封孔药液温度为40-50℃,浸泡时间3-6秒。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113874551A (zh) * 2019-07-31 2021-12-31 昭和电工株式会社 层叠体及其制造方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1308541A1 (en) * 2001-10-04 2003-05-07 Shipley Company LLC Plating bath and method for depositing a metal layer on a substrate
CN102011154A (zh) * 2010-12-15 2011-04-13 秦雅军 一种用于镀线路板金手指的电镀金液
CN102549823A (zh) * 2009-08-05 2012-07-04 Jx日矿日石金属株式会社 燃料电池用隔板材料、使用其的燃料电池组件
CN102747391A (zh) * 2012-07-09 2012-10-24 北方光电集团有限公司 镀金—钴合金溶液
CN103046092A (zh) * 2012-12-31 2013-04-17 蚌埠富源电子科技有限责任公司 一种电子连接器插针插孔镀金液
WO2015076017A1 (ja) * 2013-11-25 2015-05-28 日本高純度化学株式会社 電解金めっき液及びそれを用いて得られた金皮膜

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1308541A1 (en) * 2001-10-04 2003-05-07 Shipley Company LLC Plating bath and method for depositing a metal layer on a substrate
CN102549823A (zh) * 2009-08-05 2012-07-04 Jx日矿日石金属株式会社 燃料电池用隔板材料、使用其的燃料电池组件
CN102011154A (zh) * 2010-12-15 2011-04-13 秦雅军 一种用于镀线路板金手指的电镀金液
CN102747391A (zh) * 2012-07-09 2012-10-24 北方光电集团有限公司 镀金—钴合金溶液
CN103046092A (zh) * 2012-12-31 2013-04-17 蚌埠富源电子科技有限责任公司 一种电子连接器插针插孔镀金液
WO2015076017A1 (ja) * 2013-11-25 2015-05-28 日本高純度化学株式会社 電解金めっき液及びそれを用いて得られた金皮膜

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
于锦 等: "《电镀实际操作手册》", 31 October 2007 *
方景礼: "《电镀添加剂理论与应用》", 30 April 2006 *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113874551A (zh) * 2019-07-31 2021-12-31 昭和电工株式会社 层叠体及其制造方法
CN113874551B (zh) * 2019-07-31 2023-10-03 株式会社力森诺科 层叠体及其制造方法
US12031213B2 (en) 2019-07-31 2024-07-09 Resonac Corporation Laminate

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