CN107056084A - 三银低辐射镀膜玻璃及制造方法和应用 - Google Patents
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Abstract
本发明属于玻璃技术领域，具体公开一种三银低辐射镀膜玻璃。该三银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板；还包括自玻璃基板一表面向外依次叠设的第一电介质膜层、第一复合功能膜层、第二电介质膜层、第二复合功能膜层、第三电介质膜层、第三复合功能膜层、第四电介质膜层；第一复合功能膜层、第二复合功能膜层、第三复合功能膜层均为由第一功能保护膜层‑银层‑第二功能保护膜层构成的三明治结构膜层。本发明获得的镀膜玻璃，室外颜色显示灰色或浅蓝，透过颜色呈浅绿色，辐射率低于0.02，可见光透过率与阳光热总透过率比值大于1.90，能很好的满足人们对玻璃性能的要求。
Description
技术领域
本发明属于玻璃技术领域，具体涉及一种三银低辐射镀膜玻璃及制造方法和应用。
背景技术
镀膜玻璃是一种通过在玻璃表面涂制一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以达到改变玻璃光学性能并且满足特定要求的玻璃。根据具体的功能可以将镀膜玻璃划分为两大类：阳光控制镀膜玻璃和低辐射镀膜玻璃。
其中，阳光控制镀膜玻璃是一种通过简单的太阳光全波段无差别反射，来达到遮阳效果的玻璃，且不具备低辐射效果。低辐射镀膜玻璃则是通过选择性的反射太阳光近红外波段的光波，从而达到遮阳效果，低辐射镀膜玻璃还具有低辐射效果。
随着社会经济的发展，市场对玻璃产品的性能要求越来越高，而随着镀膜技术的发展，人们在追求玻璃具有良好的性能的同时，又要求有更好的私密性和更低的反射率以便减少光污染。
目前市场上主流的低辐射镀膜玻璃为三银产品。这种类型的玻璃要么具有高透低反的效果，要么具有低透高反的效果。然而，很难达到同时满足低反低透的平衡。鉴于现在的光污染现象较严重，对于节能要求较高场所，三银产品也无法满足要求，因此很难选择到合适的膜系品种。
并且，目前使用的普通三银膜系度辐射镀膜玻璃，虽然能达到低反低透并且节能性佳的效果，但是这一类的玻璃并不能进行热处理，因此具有生产成本较高、后期交货难度大、补片成本高、不能进行后期热处理等缺点。
发明内容
针对目前的低辐射镀膜玻璃无法实现低反低透效果或者能够实现低反低透效果但是不能进行热处理等问题，本发明提供一种三银低辐射镀膜玻璃。
为了实现上述发明目的，本发明实施例的技术方案如下：
一种三银低辐射镀膜玻璃，包括具有相对第一表面和第二表面的玻璃基板；
还包括自所述玻璃基板第一表面向外依次叠设的第一电介质膜层、第一复合功能膜层、第二电介质膜层、第二复合功能膜层、第三电介质膜层、第三复合功能膜层、第四电介质膜层；
所述第一复合功能膜层、第二复合功能膜层、第三复合功能膜层均为由第一功能保护膜层-银层-第二功能保护膜层构成的三明治结构膜层；
所述第一功能保护膜层、第二功能保护膜层选自Zn膜层、Cr膜层、CrOx膜层、CrNx膜层、NiCr膜层、NiCrNx膜层、Nb膜层、NbNx膜层、Ti膜层、TiNx膜层、TiOx膜层、Cu膜层中的至少一层。
本发明的三银低辐射镀膜玻璃，可以直接热处理，经过热处理后产品反射颜色Y(6～10)，a*(-1～-5)，b*(-4～-10)，透过率Tr(40％～50％)，a*(-5～0)，b*(-4～2)，室外颜色显示灰色或浅蓝，透过颜色呈浅绿色，辐射率低于0.02，可见光透过率与阳光热总透过率比值大于1.90，颜色、化学性能和机械性能均达到预期效果，实现的低反低透的效果，满足人们对玻璃颜色的需求，而且也能很好的满足人们对玻璃性能的要求。
进一步地，本发明还提供了上述三银低辐射镀膜玻璃的制造方法。
所述的制造方法至少包括以下步骤：至少包括如下步骤：
在真空条件下，在洁净的玻璃基板一表面向外依次进行第一电介质膜层、第一复合功能膜层、第二电介质膜层、第二复合功能膜层、第三电介质膜层、第三复合功能膜层、第四电介质膜层的沉积处理；
将所述沉积处理得到的镀膜玻璃的镀膜面置于680℃～690℃环境中进行热处理，同时将非镀膜面置于670℃～680℃的环境中进行热处理，热处理时所述镀膜面的温度高于所述非镀膜面的温度。
本发明的三银低辐射镀膜玻璃的制造方法，工序简单，可行性高，提高了生产效率，降低了生产成本，制造的三银低辐射镀膜玻璃可以直接进行热处理，而且玻璃的结构紧凑，适于工业化生产。
更进一步地，上述三银低辐射镀膜玻璃在建筑门窗、建筑幕墙以及建筑物内部装饰领域中的应用。
由于本发明提供的三银低辐射镀膜玻璃的反射颜色Y(6～10)，a*(-1～-5)，b*(-4～-10)，透过率Tr(40％～50％)，a*(-5～0)，b*(-4～2)，室外颜色显示灰色或浅蓝，透过颜色呈浅绿色，辐射率低于0.02，可见光透过率与阳光热总透过率比值大于1.90，颜色、化学性能和机械性能均达到预期效果，满足人们对玻璃颜色的需求，而且也能很好的满足人们对玻璃性能的要求。用在建筑门窗、建筑幕墙及建筑物内部装饰，能够极大的满足人们对镀膜玻璃色泽的要求，并且由于该镀膜玻璃具有可热处理特性，可大大降低玻璃的成本。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中：
图1是本发明实施例三银低辐射镀膜玻璃的结构示意图；
图2是本发明实施例提供的三银低辐射镀膜玻璃的第一复合功能膜层结构示意图；
图3是本发明实施例提供的三银低辐射镀膜玻璃的第二复合功能膜层结构示意图；
图4是本发明实施例提供的三银低辐射镀膜玻璃的第三复合功能膜层结构示意图；
图5是本发明实施例1提供的三银低辐射镀膜玻璃的结构示意图；
图6是本发明实施例2提供的三银低辐射镀膜玻璃的结构示意图；
图7是本发明实施例3提供的三银低辐射镀膜玻璃的结构示意图。
其中，1-玻璃基板；2-第一电介质膜层；3-第一复合功能膜层，31-第一功能保护膜层、32-第一银层、33-第二功能保护膜层；4-第二电介质膜层；5-第二复合功能膜层，51-第一功能保护膜层、52-第二银层、53-第二功能保护膜层；6-第三电介质膜层；7-第三复合功能膜层，71-第一功能保护膜层、72-第三银层、73-第二功能保护膜层；8-第四电介质膜层，其余数字代表的含义详见实施例1～3的详细标注。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
低反低透指的是，由于现有技术中，玻璃可见光透过率如果低于50％，非镀膜面的反射率就会超过10％，无法达到可见光透过率低于50％同时又满足非镀膜面的反射率低于10％的双低要求。因此，本发明中提到的低反低透指的是，玻璃镀膜表面的可见光透过率低于50％，同时可见光反射率低于10％。如图1所示，本发明实例提供了一种三银低辐射镀膜玻璃。
该三银低辐射镀膜玻璃包括具有相对第一表面和的第二表面的玻璃基板1，以及自所述玻璃基板1第一表面向外依次叠设的第一电介质膜层2、第一复合功能膜层3、第二电介质膜层4、第二复合功能膜层5、第三电介质膜层6、第三复合功能膜层7、第四电介质膜层8。
其中，在任一实施例中，玻璃基板1为浮法玻璃。本发明使用的浮法玻璃，厚度没有特别的限定，当然一般采用1～50mn的浮法玻璃即可。
在任一实施例中，第一电介质膜层2为SiOx膜层、ZnOx膜层、ZnAlOx膜层、ZnSnOx膜层中的至少一层。
第一电介质膜层2位于玻璃基板1和第一复合功能膜层3之间，能够阻止玻璃基板1中的Na+向膜层中渗透，增加膜层和玻璃基片之间的吸附力，提高物理和化学性能，控制膜系的光学性能和颜色。
优选地，第一电介质膜层2的厚度为10.0nm～50.0nm。
第一复合功能膜层3为一三明治结构的膜层，如图2所示。具体为第一功能保护膜层31-第一银层32-第二功能保护膜层33。第一功能膜层31紧贴于第一电介质膜层2表面，第一银层32位于三明治结构膜层的中间层，第二功能保护膜层33与第二电介质膜层4相互紧贴。第一功能膜层31选自Zn膜层、Cr膜层、CrOx膜层、CrNx膜层、NiCr膜层、NiCrNx膜层、Nb膜层、NbNx膜层、Ti膜层、TiNx膜层、TiOx膜层、Cu膜层中的至少一层；第二功能保护膜层33选自Zn膜层、Cr膜层、CrOx膜层、CrNx膜层、NiCr膜层、NiCrNx膜层、Nb膜层、NbNx膜层、Ti膜层、TiNx膜层、TiOx膜层、Cu膜层中的至少一层。
优选地，第一复合功能膜层3的厚度为5.0nm～40.0nm，其中，第一银层32的厚度为3nm～20nm，镀覆于第一银层32两相对表面的其他保护膜层则只要满足第一复合功能膜层3总厚度达到5.0nm～40.0nm即可。
所述第二电介质膜层4为TiOx膜层、SiNx膜层、SiOx膜层、ZnOx膜层、ZnAlOx膜层、ZnSnOx膜层中的至少一层；
第二电介质膜层4位于第一复合功能膜层3和第二复合功能膜层5之间，具有控制膜系的光学性能和颜色的作用。
优选地，第二电介质膜层4的厚度为40nm～100nm。
第二复合功能膜层5为一三明治结构的膜层，如图3所示，具体为第一功能保护膜层51-第二银层52-第二功能保护膜层53。第一功能膜层51紧贴于第二电介质膜层4表面，第二银层52位于三明治结构膜层的中间层，第二功能保护膜层53与第三电介质膜层6相互紧贴。第一功能膜层51选自Zn膜层、Cr膜层、CrOx膜层、CrNx膜层、NiCr膜层、NiCrNx膜层、Nb膜层、NbNx膜层、Ti膜层、TiNx膜层、TiOx膜层、Cu膜层中的至少一层；第二功能保护膜层53选自Zn膜层、Cr膜层、CrOx膜层、CrNx膜层、NiCr膜层、NiCrNx膜层、Nb膜层、NbNx膜层、Ti膜层、TiNx膜层、TiOx膜层、Cu膜层中的至少一层。
优选地，第二复合功能膜层5的厚度为5.0nm～40.0nm，其中，第一银层52的厚度为3nm～25nm(不取3nm这个值，避免与第一银层32的厚度相同)，且第二复合功能膜层5中的第一银层52的厚度大于第一功能膜层3中的第一银层32的厚度，镀覆于第二银层52两相对表面的其他保护膜层则只要满足第二复合功能膜层5总厚度达到5.0nm～40.0nm即可。
所述第三电介质膜层6为TiOx膜层、SiNx膜层、SiOx膜层、ZnOx膜层、ZnAlOx膜层、ZnSnOx膜层中的至少一层；
第三电介质膜层6位于第二复合功能膜层5和第三复合功能膜层7之间，具有控制膜系的光学性能和颜色的作用。
优选地，第三电介质膜层6的厚度为60nm～140nm。
第三复合功能膜层7为一三明治结构的膜层，如图4所示，具体为第一功能保护膜层71-第二银层72-第二功能保护膜层73。第一功能膜层71紧贴于第三电介质膜层5表面，第二银层72位于三明治结构膜层的中间层，第二功能保护膜层73与第四电介质膜层8相互紧贴。第一功能膜层71选自Zn膜层、Cr膜层、CrOx膜层、CrNx膜层、NiCr膜层、NiCrNx膜层、Nb膜层、NbNx膜层、Ti膜层、TiNx膜层、TiOx膜层、Cu膜层中的至少一层；第二功能保护膜层73选自Zn膜层、Cr膜层、CrOx膜层、CrNx膜层、NiCr膜层、NiCrNx膜层、Nb膜层、NbNx膜层、Ti膜层、TiNx膜层、TiOx膜层、Cu膜层中的至少一层。
优选地，第三复合功能膜层7的厚度为5.0nm～40.0nm，其中，第一银层72的厚度为3nm～25nm(不取3nm这个值，避免与第一银层32的厚度相同)，且第三复合功能膜层7中的第一银层72的厚度大于第一功能膜层3中的第一银层32的厚度，镀覆于第三银层72两相对表面的其他保护膜层则只要满足第三复合功能膜层7总厚度达到5.0nm～40.0nm即可。
第四电介质膜层8位于第三复合功能膜层7之上，具有保护整个膜层结构、减少氧化、提高物理和化学性能；控制膜系的光学性能和颜色的作用。
优选地，第四电介质膜层8的厚度为10.0nm～50.0nm。
上述各层按顺序结合，从而保障了三银低辐射镀膜玻璃的整体性能，能够实现膜系颜色低反低透的效果。
上述各层按上述顺序结合并且在上述厚度所限定范围内，三银低辐射镀膜玻璃的紧凑性、整体性能更加良好。各个膜层厚度的限定是考虑到整体效果的低反低透，在低反低透的基础上，室外颜色显示灰色或浅蓝色，透过颜色呈现浅绿色，辐射率低于0.02，可见光透过率与阳光热总透过率比值大于1.90，颜色、化学性能和机械性能均达到预期效果，满足人们对玻璃颜色的需求，而且也能很好的满足人们对玻璃性能的要求。
本发明提供的三银低辐射镀膜玻璃需要经过热处理才能使用。经过热处理后，产品反射颜色Y(6～10)，a*(-1～-5)，b*(-4～-10)，透过率Tr(40％～50％)，a*(-5～0)，b*(-4～2)，室外颜色显示灰色或浅蓝，透过颜色呈浅绿色，辐射率低于0.02，可见光透过率与阳光热总透过率比值大于1.90，颜色、化学性能和机械性能均达到预期效果，满足人们对玻璃颜色的需求，而且也能很好的满足人们对玻璃性能的要求。
热处理的具体操作为：将三银低辐射镀膜玻璃置于钢化炉内，镀膜表面的加热温度为680～690℃，玻璃基板1的非镀膜表面的加热温度较镀膜表面温度低，为670～680℃，因为膜层是低辐射镀膜，其性能决定了膜层的吸热能力不如非镀膜面强，为了确保镀膜面和非镀膜面面吸热一致，避免钢化处理时玻璃被烧弯，镀膜面的温度需高于非镀膜面。热处理时间为570～590s，即可获得三银低辐射镀膜玻。
经过热处理，本发明实施例获得的三银低辐射镀膜玻的各膜层有机的结合在一起，玻璃的可加工性能得到进一步的提高。
相应地，在上文所述的三银低辐射镀膜玻璃的基础上，本发明实施例还提供了本发明实施例三银低辐射镀膜玻璃的一种制备方法。
作为本发明优选实施例，该三银低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
步骤S01：前处理，清洗浮法玻璃，将清洗好的浮法玻璃作为玻璃基板1，并将所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8×10-6mbar以上；
步骤S02、膜层沉积处理，控制溅射真空度为2×10-3mbar～5×10-3mbar，在所述浮法玻璃基板上依次沉积如下厚度的膜层：10.0nm～50.0nm的第一电介质膜层2、5.0nm～40.0nm的第一复合功能膜层3、40nm～100nm的第二电介质膜层4、5.0nm～40.0nm的第二复合功能膜层5、60nm～140nm的第三电介质膜层6、5.0nm～40.0nm的第三复合功能膜层7和10.0nm～50.0nm的第四电介质膜层8。
具体地，上述步骤S01中，采用Benteler清洗机对浮法玻璃进行清洗。
具体地，步骤S02在溅射镀膜过程中，采用德国冯·阿登那公司生产的磁控溅射镀膜设备控制溅射的真空度，并应当注意膜层厚度的调整，可使用在线光度计测量膜层颜色参数，并进行膜层厚度的调整，使颜色参数呈现低反低透的效果。
具体地，上述步骤S02中膜层沉积处理后的玻璃，应采用浓度为1mol/L的HCl溶液和浓度为1mol/L的NaOH溶液作为浸渍液，按照《GBT 18915.2镀膜玻璃第2部分低辐射镀膜玻璃镀膜玻璃》检测膜层沉积处理后的玻璃的耐酸性能和耐碱性能。与此同时，还采用台式光度计、研磨机、U4100紫外可见红外分光光度计等测试分析仪器测试获得三银低辐射镀膜玻璃的耐磨性以及玻面反射率、膜面反射率和透过光谱。
需要说明的是，在溅射靶材和镀膜的各层结构确定之后，决定产品性能特点的核心部分就是各层的厚度，即通过调整镀膜工艺，控制各层厚度，最终达到不同的效果。
相应地，本发明实施例制备的三银低辐射镀膜玻璃，可应用于建筑门窗、建筑幕墙以及建筑物内部装饰等领域中。
为了更好的说明本发明的技术方案，以下通过多个实施例来举例说明本发明实施例三银低辐射镀膜玻璃的原理、作用以及达到的功效。
下述各具体实施示范例中涉及的仪器设备为：VAAT GC330H镀膜设备、Benteler清洗机、在线检测光度计、Datacolar CHECKⅡ(便携式测色仪)、Color I5透射比测试仪、U4100(紫外可见红外分光光度计)、BTA-5000型耐磨试验机。
实施例1
如图5所示，本实施例提供一种三银低辐射镀膜玻璃。
所述玻璃包括玻璃基板1和自所述玻璃基板1一表面向外依次叠的SixNy膜层21、ZnOx膜层22、NiCr膜层31、Ag膜层32、NiCr膜层33、ZnOx膜层41、SixNy膜层42、ZnOx膜层43、NiCr膜层51、Ag膜层52、NiCr膜层53、ZnOx膜层61、SixNy膜层62、ZnOx膜层63、NiCr膜层71、Ag膜层72、NiCr膜层73、ZnOx膜层81、SixNy膜层82、TiOx膜层83。其中，SixNy膜层21、ZnOx膜层22构成第一电介质膜层2；NiCr膜层31、Ag膜层32、NiCr膜层33构成带有保护的第一复合功能膜层3；ZnOx膜层41、SixNy膜层42、ZnOx膜层43构成第二电介质膜层4；NiCr膜层51、Ag膜层52、NiCr膜层53构成带有保护的第二复合功能膜层5；ZnOx膜层61、SixNy膜层62、ZnOx膜层63构成第三电介质膜层6；NiCr膜层71、Ag膜层72、NiCr膜层73构成带有保护的第三复合功能膜层7；ZnOx膜层81、SixNy膜层82、TiOx膜层83构成第四电介质膜层8。
所述SixNy膜层21厚度为29.2nm、ZnOx膜层22厚度为8.5nm、NiCr膜层31厚度为1.5nm、Ag膜层32厚度为8.7nm、NiCr膜层33厚度为2.0nm、ZnOx膜层41厚度为10nm、SixNy膜层42厚度为70.4nm、ZnOx膜层43厚度为10nm、NiCr膜层51厚度为1.5nm、Ag膜层52厚度为15.5nm、NiCr膜层53厚度为1.8nm、ZnOx膜层61厚度为10nm、SixNy膜层62厚度为103.19nm、ZnOx膜层63厚度为10nm、NiCr膜层71厚度为1.0nm、Ag膜层72厚度为18.3nm、NiCr膜层73厚度为1.6nm、ZnOx膜层81厚度为18.2nm、SixNy膜层82厚度为13.4nm、TiOx膜层83厚度为5nm。
该三银低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
利用平板玻璃双端连续式镀膜机，采用下述表1中列出的工艺参数，使用17个交流旋转阴极，9直流平面阴极，共26个阴极进行生产，制备出本发明三银低辐射镀膜玻璃，其具体的工艺参数和阴极的位置见如下表1：
表1实施例1工艺参数
将按照上述表1中的工艺参数制备出来的三银低辐射镀膜玻璃进行光学性能测试，其测试结果如下：
第四电介质膜层8面的可见光透过率：29.9％，透过颜色：a*＝-7.4，b*＝-8.5；
第四电介质膜层8面的可见光光反射率：11.2％，反射颜色：a*＝-17.4，b*＝5.9；
普通白玻璃基板1的可见光光反射率：7.9％，反射颜色：a*＝5.4，b*＝-11.4。
对三银低辐射镀膜玻璃进行热处理，热处理时，玻璃基板1的非镀膜面的加热温度为680℃，镀膜面的加热温度为690℃，热处理时间580s，经过热处理后进行光学性能测试，其中，其测试结果如下：
第四电介质膜层8面的可见光透过率：48.6％，透过颜色：a*＝-4.5，b*＝0.5；
第四电介质膜层8面的可见光反射率：14.4％，反射颜色：a*＝-16.8，b*＝0.8；
普通白玻璃基板1的可见光反射率：9.8％，反射颜色：a*＝-2.1，b*＝-5.5。
室外颜色显示灰色，透过颜色呈浅绿色，辐射率为0.014，可见光透过率与阳光热总透过率比值为2.07。
颜色为较为纯正的灰色，产品理化性能达到GB/T18915.2-2013要求。
实施例2
如图6所示，本实施例提供一种三银低辐射镀膜玻璃。
本实施例三银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板1和自所述玻璃基板1一表面向外依次叠设的TiOx膜层2、ZnOx膜层31、Ag膜层32、NiCr膜层33、ZnO膜层4、ZnOx膜层51、Ag膜层52、NiCr膜层53、ZnO膜层6、ZnOx膜层71、Ag膜层72、NiCr膜层73、ZnOx膜层81、TiOx膜层82。其中，TiOx膜层2构成第一电介质膜层2；ZnOx膜层31、Ag膜层32、NiCr膜层33构成带有保护的第一复合功能膜层3；ZnO层4构成第二电介质膜层4；ZnOx层51、Ag层52、NiCr层53构成带有保护的第二复合功能层5；ZnO膜层6构成第三电介质膜层6；ZnOx膜层71、Ag膜层72、NiCr膜层73构成带有保护的第三复合功能膜层7；ZnOx膜层81、TiOx膜层82构成第四电介质保护膜层8。
所述TiOx膜层2厚度为30.2nm、ZnOx膜层31厚度为5.5nm、Ag膜层32厚度为8.5nm、NiCr膜层33厚度为2.1nm、ZnO膜层4厚度为63.4nm、ZnOx膜层51厚度为5.2nm、Ag膜层52厚度为15.4nm、NiCr膜层53厚度为2.3nm、ZnO膜层6厚度为80.4nm、ZnOx膜层71厚度为5.1nm、Ag膜层72厚度为18.2nm、NiCr膜层73厚度为2.4nm、ZnOx膜层81厚度为31.6nm、TiOx膜层82厚度为5nm。
其制备方法为：利用平板玻璃双端连续式镀膜机，采用下述表2中列出的工艺参数，使用20个交流旋转阴极，6直流平面阴极，共26个阴极进行生产，制备出本发明三银低辐射镀膜玻璃，其具体的工艺参数和阴极的位置见如下表2：
表2实施例2工艺参数
将按照上述表2中的工艺参数制备出来的三银低辐射镀膜玻璃进行光学性能测试，其测试结果如下：
第四电介质膜层8面的可见光透过率：26.4％，透过颜色：a*＝-5.2，b*＝-10.2；
第四电介质膜层8面的可见光光反射率：14.2％，反射颜色：a*＝-14.2，b*＝7.3；
普通白玻璃基板1的可见光光反射率：7.4％，反射颜色：a*＝6.1，b*＝-14.4。
对三银低辐射镀膜玻璃进行热处理，热处理时，玻璃基板1的非镀膜面的加热温度为670℃，镀膜面的加热温度为680℃，热处理时间590s，经过热处理后进行光学性能测试，其中，其测试结果如下：
第四电介质膜层8面的可见光透过率：45.1％，透过颜色：a*＝-2.7，b*＝-2.1；
第四电介质膜层8面的可见光反射率：16.8％，反射颜色：a*＝-12.9，b*＝3.1；
普通白玻璃基板1的可见光反射率：9.4％，反射颜色：a*＝-2.8，b*＝-5.9。
室外颜色显示灰色，透过颜色呈浅绿色，辐射率为0.011，可见光透过率与阳光热总透过率比值为2.23。
颜色为较为纯正的灰色，产品理化性能达到GB/T18915.2-2013要求。
实施例3
如图7所示，本实施例三银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基板1自所述玻璃基板1一表面向外依次叠设的ZnSnOx膜层2、ZnOx膜层31、Ag膜层32、NiCr膜层33、TiOx膜层41、ZnSnOx膜层42、ZnOx膜层51、Ag膜层52、NiCr膜层53、TiOx膜层61、ZnSnOx膜层62、ZnOx膜层71、Ag膜层72、NiCr膜层73、TiOx膜层81、ZnSnOx膜层82、TiOx膜层83。其中，ZnSnOx膜层构成第一电介质膜层2；ZnOx膜层31、Ag膜层32、NiCr膜层33构成带有保护的第一复合功能膜层3；TiOx膜层41、ZnSnOx膜层42构成第二电介质膜层4；ZnOx膜层51、Ag膜层52、NiCr膜层53构成带有保护的第二复合功能膜层5；TiOx膜层61、ZnSnOx膜层62构成第三电介质膜层6；ZnOx膜层71、Ag膜层72、NiCr膜层73构成带有保护的第三复合功能膜层7；TiOx膜层81、ZnSnOx膜层82、TiOx膜层83构成第四电介质膜层8。
所述ZnSnOx膜层2的厚度为35.4nm、ZnOx膜层31的厚度为6.1nm、Ag膜层32的厚度为9.2nm、NiCr膜层33的厚度为1.8nm、TiOx膜层41的厚度为15.4nm、ZnSnOx膜层42的厚度为39.7nm、ZnOx膜层51的厚度为5.8nm、Ag膜层52的厚度为15.5nm、NiCr膜层53的厚度为2.7nm、TiOx膜层61的厚度为19.6nm、ZnSnOx膜层62的厚度为51.4nm、ZnOx膜层71的厚度为5.6nm、Ag膜层72的厚度为18.7nm、NiCr膜层73的厚度为3.0nm、TiOx膜层81的厚度为10.4nm、ZnSnOx膜层82的厚度为22.3nm、TiOx膜层83的厚度为5nm。
其制备方法为：利用平板玻璃双端连续式镀膜机，采用下述表3中列出的工艺参数，使用20个交流旋转阴极，6直流平面阴极，共26个阴极进行生产，制备出本发明三银低辐射镀膜玻璃，其具体的工艺参数和阴极的位置见如下表3：
表3实施例3工艺参数
将按照上述表3中的工艺参数制备出来的三银低辐射镀膜玻璃进行光学性能测试，其测试结果如下：
第四电介质膜层8面的可见光透过率：26.7％，透过颜色：a*＝-8.6，b*＝-9.5；
第四电介质膜层8面的可见光光反射率：9.2％，反射颜色：a*＝-15.4，b*＝9.4；
普通白玻璃基板1的可见光光反射率：6.6％，反射颜色：a*＝5.8，b*＝-12.6。
对三银低辐射镀膜玻璃进行热处理，热处理时，玻璃基板1的非镀膜面的加热温度为675℃，镀膜面的加热温度为685℃，热处理时间585s，经过热处理后进行光学性能测试，其中，其测试结果如下：
第四电介质膜层8面的可见光透过率：46.8％，透过颜色：a*＝-4.2，b*＝-2.8；
第四电介质膜层8面的可见光反射率：12.1％，反射颜色：a*＝-14.1，b*＝5.5；
普通白玻璃基板1的可见光反射率：8.2％，反射颜色：a*＝-1.7，b*＝-4.5。
室外颜色显示灰色，透过颜色呈浅绿色，辐射率为0.019，可见光透过率与阳光热总透过率比值为2.01。
颜色为较为纯正的灰色，产品理化性能达到GB/T18915.2-2013要求。
从上述实施例1～3中可见，采用本发明的膜层结构，获得的三银低辐射镀膜玻璃热处理后的镀膜表面的可见光透过率分别为48.6％、45.1％、46.8％，而非镀膜表面(也叫做玻璃基板表面)的可见光反射率分别为9.8％、9.4％、8.2％，满足了低反低透的要求。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包括在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：包括具有相对第一表面和第二表面的玻璃基板；
还包括自所述玻璃基板第一表面向外依次叠设的第一电介质膜层、第一复合功能膜层、第二电介质膜层、第二复合功能膜层、第三电介质膜层、第三复合功能膜层、第四电介质膜层；
所述第一复合功能膜层、第二复合功能膜层、第三复合功能膜层均为由第一功能保护膜层-银层-第二功能保护膜层构成的三明治结构膜层；
所述第一功能保护膜层、第二功能保护膜层选自Zn膜层、Cr膜层、CrOx膜层、CrNx膜层、NiCr膜层、NiCrNx膜层、Nb膜层、NbNx膜层、Ti膜层、TiNx膜层、TiOx膜层、Cu膜层中的至少一层。
2.如权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质膜层为SiOx膜层、ZnOx膜层、ZnAlOx膜层、ZnSnOx膜层中的至少一层；
所述第二电介质膜层为TiOx膜层、SiNx膜层、SiOx膜层、ZnOx膜层、ZnAlOx膜层、ZnSnOx膜层中的至少一层；
所述第三电介质膜层为TiOx膜层、SiNx膜层、SiOx膜层、ZnOx膜层、ZnAlOx膜层、ZnSnOx膜层中的至少一层；
所述第四电介质膜层为TiOx膜层、SiNx膜层、SiOx膜层、ZnOx膜层、ZnAlOx膜层、ZnSnOx膜层中的至少一层。
3.如权利要求1～2任一项所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质膜层、第一复合功能膜层、第二电介质膜层、第二复合功能膜层、第三电介质膜层、第三复合功能膜层、第四电介质膜层的厚度分别为10.0nm～50.0nm、5.0nm～40.0nm、40nm～100nm、5.0nm～40.0nm、60nm～140nm、5.0nm～40.0nm、10.0nm～50.0nm；
所述第一复合功能膜层的银层厚度为3nm～20nm，所述第二复合功能膜层的银层厚度为3nm～25nm，但不取3nm，所述第三复合功能膜层的银层厚度为3nm～25nm，但不取3nm；所述第二复合功能膜层、第三复合功能膜层的银层的厚度均大于所述第一复合功能膜层的银层的厚度。
4.如权利要求1～2任一项所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基板为浮法玻璃。
5.如权利要求1～4任一项所述的三银低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：至少包括如下步骤：
在真空条件下，在洁净的玻璃基板一表面向外依次进行第一电介质膜层、第一复合功能膜层、第二电介质膜层、第二复合功能膜层、第三电介质膜层、第三复合功能膜层、第四电介质膜层的沉积处理；
将所述沉积处理得到的镀膜玻璃的镀膜面置于680℃～690℃环境中进行热处理，同时将非镀膜面置于670℃～680℃的环境中进行热处理，热处理时所述镀膜面的温度高于所述非镀膜面的温度。
6.如权利要求5所述的三银低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：所述热处理的时间为570s～590s。
7.如权利要求5所述的三银低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：在所述膜层的沉积过程中，控制真空度为2×10-3mbar～5×10-3mbar。
8.如权利要求4所述的三银低辐射镀膜玻璃的制造方法，其特征在于：所述沉积为磁控溅射沉积。
9.如权利要求1～4任一项所述的三银低辐射镀膜玻璃在建筑门窗、建筑幕墙以及建筑物内部装饰领域中的应用。
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