CN106976159B - 一种陶瓷练泥设备 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种陶瓷练泥设备,包括底座、可旋转的练泥平台、换向机构、推挤机构和压泥机构。练泥平台设置于底座的上方,并与底座间隔设置;换向机构包括用于驱动练泥平台水平转动的传动机构和动力机构;推挤机构包括对置的两个推挤组件,每个推挤组件均包括缓冲板、推板和伸缩气缸,推板位于缓冲板和伸缩气缸之间,伸缩气缸的伸缩杆横向设置,伸缩气缸的伸缩杆与推板连接,缓冲板通过缓冲弹簧与推板连接;压泥机构包括压块和油缸,油缸的伸缩杆沿竖向设置,压块与油缸的伸缩杆连接。本发明的陶瓷练泥设备可以重复地,多角度地对泥团进行挤压和复原,而且结合现有的控制系统可以实现自动化,设备结构简单,使用方便,可实现自动练泥。

Description

一种陶瓷练泥设备
技术领域
本发明属于陶瓷机械技术领域,具体涉及一种陶瓷练泥设备。
背景技术
目前,陶瓷练泥基本采用手工制作,生产效率低。发明知晓的有一些对泥团挤压的设备,但是都是只能有两个方向的挤压,还需人工翻转泥团,生产效率仍然较低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种陶瓷练泥设备,以解决现有陶瓷练泥生产效率低的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种陶瓷练泥设备,包括:
底座;
可旋转的练泥平台,所述可旋转的练泥平台设置于所述底座的上方,并与所述底座间隔设置;所述练泥平台的上下表面分别为练泥面和安装面;
换向机构,所述换向机构包括用于驱动所述练泥平台水平转动的传动机构和动力机构;
推挤机构,所述推挤机构包括对置的两个推挤组件,每个所述推挤组件均包括缓冲板、推板和伸缩气缸,所述推板位于所述缓冲板和所述伸缩气缸之间,所述伸缩气缸的伸缩杆横向设置,所述伸缩气缸的伸缩杆与所述推板连接,所述缓冲板通过缓冲弹簧与所述推板连接;两个所述推挤组件的所述缓冲板之间为用于放置泥团的挤压空间;
压泥机构,所述压泥机构包括压块和油缸,所述压块设置在所述挤压空间的上方,所述油缸的伸缩杆沿竖向设置,所述压块的顶面与所述油缸的所述伸缩杆连接。
优选的,所述缓冲板两个相对侧壁分别为挤压壁和连接壁,所述挤压壁为光面,所述连接壁连接有朝向所述伸缩气缸延伸的两个导向柱;两个所述导向柱上下平行设置;
所述推板具有两个贯穿所述推板的相对侧壁的导向孔,所述导向孔和所述导向柱一一对应,所述导向柱活动嵌设于对应的所述导向孔;
所述缓冲弹簧的数量至少为两个,两个所述缓冲弹簧沿横向间隔设置;所述缓冲弹簧的最大伸长长度小于所述导向柱的长度;所述挤压壁为弧面,所述缓冲板的底端具有倒角。
优选的,所述传动机构包括支撑架和转动轴;所述支撑架安装于所述练泥平台和所述底座之间,所述支撑架固定于所述底座,所述转动轴沿竖向设置且与所述支撑架转动连接,所述转动轴的顶端与所述安装面固定连接;所述动力机构固设于所述底座以驱动所述转动轴转动;所述动力机构包括电机和传动带,所述电机的主轴沿竖向设置,所述电机的主轴固定连接有主动轮,所述转动轴的外周壁固定连接有从动轮,所述主动轮和所述从动轮均为带轮,所述主动轮和所述从动轮通过所述传动带传动连接。
优选的,所述支撑架包括底板、支撑板和支撑脚,所述支撑板和所述底板平行设置,所述支撑板和所述底板之间设置有间隙,所述底板设置于所述底座的上表面,所述支撑脚的上下两端分别与所述支撑板和所述底板连接;
所述支撑板具有沿竖向贯穿所述支撑板的通孔,所述转动轴的底端穿过所述通孔并向下延伸至所述支撑板和所述底板之间的区域,所述从动轮安装于所述转动轴的位于所述支撑板和所述底板之间的外周壁上;
所述转动轴的外周壁和所述支撑板上的通孔的周面之间设置有轴承,以使所述转动轴和所述支撑板转动连接。
优选的,所述转动轴的底端和所述底板之间设置有平面轴承,以使所述转动轴和所述底板转动连接。
优选的,所述练泥平台为圆形,所述练泥平台的上表面为光面。
本发明的有益效果:
本发明的陶瓷练泥设备可以重复地,多角度地对泥团进行挤压和复原,而且结合现有的控制系统可以实现自动化,本发明的陶瓷练泥设备结构简单,使用方便,可实现自动练泥。
附图说明
图1为本发明的陶瓷练泥设备示意图;
图2为本发明的陶瓷练泥设备处于竖向挤压状态的示意图;
图3为本发明的陶瓷练泥设备处于横向挤压状态的示意图。
图中:1-底座;2-练泥平台;3-练泥面;4-安装面;5-换向机构;6-传动机构;7-动力机构;8-推挤机构;10-缓冲板;11-推板;12-伸缩气缸;13-缓冲弹簧;14-挤压空间;15-压泥机构;16-压块;17-油缸;18-挤压壁;19-连接壁;20-导向柱;21-支撑架;22-转动轴;23-电机;24-传动带;25-主动轮;26-底板;27-支撑板;28-支撑脚;29-轴承;30-平面轴承;31-泥团。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-图3,本发明提供一种技术方案:
一种陶瓷练泥设备,包括:
底座1;
可旋转的练泥平台2,可旋转的练泥平台2设置于底座1的上方,并与底座1间隔设置;练泥平台2的上下表面分别为练泥面3和安装面4;
换向机构5,换向机构5包括用于驱动练泥平台2水平转动的传动机构6和动力机构7;
推挤机构8,推挤机构8包括对置的两个推挤组件,每个推挤组件均包括缓冲板10、推板11和伸缩气缸12,推板11位于缓冲板10和伸缩气缸12之间,伸缩气缸12的伸缩杆横向设置,伸缩气缸12的伸缩杆与推板11连接,缓冲板10通过缓冲弹簧13与推板11连接;两个推挤组件的缓冲板10之间为用于放置泥团31的挤压空间14;
压泥机构15,压泥机构15包括压块16和油缸17,压块16设置在挤压空间14的上方,油缸17的伸缩杆沿竖向设置,压块16的顶面与油缸17的伸缩杆连接。
压泥机构15主要用于在竖直方向上与练泥平台2配合对泥团31进行挤压,而推挤机构8和压泥机构15相互配合在横向上对泥团31任意方向进行挤压,对泥团31的在横向上的挤压方向还取决于换向机构5每次旋转的角度。如果每次旋转90度,那基本上就是对泥团31上下、左右以及前后进行挤压,如果旋转角度再小点,那么挤压的方向会更多。这样设置的换向机构5配合推挤机构8不仅可以达到较好的练泥效果,而且结构很简单。
为了避免泥团31过快地被压块16压扁,同时也是为了从多个方向对泥团31施压,所以设置了缓冲板10。缓冲板10不仅在压板下行时,对泥团31的横向变形起到缓冲作用,更重要的是可以在推挤阶段,对泥团31施加一个基本沿横向的比较柔和的力,更接近手工揉泥的效果。
为了使本陶瓷练泥机在推挤时达到更好的效果,本实施例中,优选的,缓冲板10两个相对侧壁分别为挤压壁18和连接壁19,挤压壁18为光面,连接壁19连接有朝向伸缩气缸12延伸的两个导向柱20;两个导向柱20上下平行设置;
推板11具有两个贯穿推板11的相对侧壁的导向孔,导向孔和导向柱20一一对应,导向柱20活动嵌设于对应的导向孔;
缓冲弹簧13的数量至少为两个,两个缓冲弹簧13沿横向间隔设置;缓冲弹簧13的最大伸长长度小于导向柱20的长度;挤压壁18为弧面,缓冲板10的底端具有倒角。
为了使本陶瓷练泥机可以更好地工作,本实施例中,优选的,传动机构6包括支撑架21和转动轴22;支撑架21安装于练泥平台2和底座1之间,支撑架21固定于底座1,转动轴22沿竖向设置且与支撑架21转动连接,转动轴22的顶端与安装面4固定连接;动力机构7固设于底座1以驱动转动轴22转动;动力机构7包括电机23和传动带24,电机23的主轴沿竖向设置,电机23的主轴固定连接有主动轮25,转动轴22的外周壁固定连接有从动轮,主动轮25和从动轮均为带轮,主动轮25和从动轮通过传动带24传动连接。
为了使本陶瓷练泥机的转动轴22可以承受重压的情况下更灵活地转动,本实施例中,优选的,支撑架21包括底板26、支撑板27和支撑脚28,支撑板27和底板26平行设置,支撑板27和底板26之间设置有间隙,底板26设置于底座1的上表面,支撑脚28的上下两端分别与支撑板27和底板26连接;
支撑板27具有沿竖向贯穿支撑板27的通孔,转动轴22的底端穿过通孔并向下延伸至支撑板27和底板26之间的区域,从动轮安装于转动轴22的位于支撑板27和底板26之间的外周壁上;
转动轴22的外周壁和支撑板27上的通孔的周面之间设置有轴承29,以使转动轴22和支撑板27转动连接。
为了使本陶瓷练泥机的转动轴22可以更灵活,本实施例中,优选的,转动轴22的底端和底板26之间设置有平面轴承30,以使转动轴22和底板26转动连接。
为了使本陶瓷练泥机可以使泥团31顺利被缓冲板10推走,本实施例中,练泥平台2为圆形,练泥平台2的上表面为光面。所谓光面为光滑的表面,与粗糙的表面为相反的概念。设置成光面可以减小泥团31与练泥摩擦力。
本发明的工作原理及使用流程:先控制推挤机构8的两个气缸,使两个缓冲板10相互远离,留出足够的空间,然后控制压泥机构15的油缸17,使压块16上升至一定的高度,此时,练泥平台2的中间区域、压块16以及两个缓冲板10共同围成的了一个可用于放置泥团31的较大空间;接着,将泥团31放置于练泥平台2的中间区域,紧接着,控制压泥机构15的油缸17使压块16向下运动,对泥团31进行挤压;在压块16和练泥平台2的相互配合作用下,泥团31被压扁并向周围变形延伸,泥团31与缓冲板10接触并受到缓冲板10的推力作用,泥团31不会过快地被压块16压扁,同时也受到了从多个方向施加给泥团31的压力,挤压效果更佳;泥团31被压扁后,需要再次挤压;控制压泥机构15的油缸17使压块16向上移动,同时推挤机构8的两个气缸开始工作,两个推板11开始靠近,同时两个缓冲板10也开始靠近并对压扁的进行挤压,挤压后再复位,接着换向机构5开始工作,将练泥平台2旋转一定的角度,例如90°,两个缓冲板10再次对泥团31进行挤压,通过这样多角度对泥团31进行挤压,以使泥团31“复原”;然后再重复前面的操作过程,不断地对泥团31进行挤压和“复原”,以达到练泥的目的。以上涉及到控制的部分,可以是人为控制,也可以预设程序自动控制。
本发明的陶瓷练泥设备可以重复地,多角度地对泥团31进行挤压和复原,而且结合现有的控制系统可以实现自动化,本发明的陶瓷练泥设备结构简单,使用方便,可实现自动练泥。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种陶瓷练泥设备,其特征在于,包括:
底座(1);
可旋转的练泥平台(2),所述练泥平台(2)设置于所述底座(1)的上方,并与所述底座(1)间隔设置;所述练泥平台(2)的上下表面分别为练泥面(3)和安装面(4);
换向机构(5),所述换向机构(5)包括用于驱动所述练泥平台(2)水平转动的传动机构(6)和动力机构(7);
推挤机构(8),所述推挤机构(8)包括对置的两个推挤组件,每个所述推挤组件均包括缓冲板(10)、推板(11)和伸缩气缸(12),所述推板(11)位于所述缓冲板(10)和所述伸缩气缸(12)之间,所述伸缩气缸(12)的伸缩杆横向设置,所述伸缩气缸(12)的伸缩杆与所述推板(11)连接,所述缓冲板(10)通过缓冲弹簧(13)与所述推板(11)连接;两个所述推挤组件的所述缓冲板(10)之间为用于放置泥团的挤压空间(14);
压泥机构(15),所述压泥机构(15)包括压块(16)和油缸(17),所述压块(16)设置在所述挤压空间(14)的上方,所述油缸(17)的伸缩杆沿竖向设置,所述压块(16)的顶面与所述油缸(17)的所述伸缩杆连接。
2.根据权利要求1所述的陶瓷练泥设备,其特征在于:
所述缓冲板(10)两个相对侧壁分别为挤压壁(18)和连接壁(19),所述挤压壁(18)为光面,所述连接壁(19)连接有朝向所述伸缩气缸(12)延伸的两个导向柱(20);两个所述导向柱(20)上下平行设置;
所述推板(11)具有两个贯穿所述推板(11)的相对侧壁的导向孔,所述导向孔和所述导向柱(20)一一对应,所述导向柱(20)活动嵌设于对应的所述导向孔;
所述缓冲弹簧(13)的数量至少为两个,两个所述缓冲弹簧(13)沿横向间隔设置;所述缓冲弹簧(13)的最大伸长长度小于所述导向柱(20)的长度;所述挤压壁(18)为弧面,所述缓冲板(10)的底端具有倒角。
3.根据权利要求1所述的陶瓷练泥设备,其特征在于:
所述传动机构(6)包括支撑架(21)和转动轴(22);所述支撑架(21)安装于所述练泥平台(2)和所述底座(1)之间,所述支撑架(21)固定于所述底座(1),所述转动轴(22)沿竖向设置且与所述支撑架(21)转动连接,所述转动轴(22)的顶端与所述安装面(4)固定连接;所述动力机构(7)固设于所述底座(1)以驱动所述转动轴(22)转动;所述动力机构(7)包括电机(23)和传动带(24),所述电机(23)的主轴沿竖向设置,所述电机(23)的主轴固定连接有主动轮(25),所述转动轴(22)的外周壁固定连接有从动轮,所述主动轮(25)和所述从动轮均为带轮,所述主动轮(25)和所述从动轮通过所述传动带(24)传动连接。
4.根据权利要求3所述的陶瓷练泥设备,其特征在于:
所述支撑架(21)包括底板(26)、支撑板(27)和支撑脚(28),所述支撑板(27)和所述底板(26)平行设置,所述支撑板(27)和所述底板(26)之间设置有间隙,所述底板(26)设置于所述底座(1)的上表面,所述支撑脚(28)的上下两端分别与所述支撑板(27)和所述底板(26)连接;
所述支撑板(27)具有沿竖向贯穿所述支撑板(27)的通孔,所述转动轴(22)的底端穿过所述通孔并向下延伸至所述支撑板(27)和所述底板(26)之间的区域,所述从动轮安装于所述转动轴(22)的位于所述支撑板(27)和所述底板(26)之间的外周壁上;
所述转动轴(22)的外周壁和所述支撑板(27)上的通孔的周面之间设置有轴承(29),以使所述转动轴(22)和所述支撑板(27)转动连接。
5.根据权利要求4所述的陶瓷练泥设备,其特征在于:所述转动轴(22)的底端和所述底板(26)之间设置有平面轴承(30),以使所述转动轴(22)和所述底板(26)转动连接。
6.根据权利要求1所述的陶瓷练泥设备,其特征在于:所述练泥平台(2)为圆形,所述练泥平台(2)的上表面为光面。
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