CN106966602A - 防眩光玻璃制备工艺方法以及防眩光玻璃 - Google Patents

防眩光玻璃制备工艺方法以及防眩光玻璃 Download PDF

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闫海姣
李建华
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Abstract

本申请公开了一种防眩光玻璃制备工艺方法,包括:在玻璃基底的防眩光区域涂覆紫外光固化胶;利用压印夹具对所述紫外光固化胶进行压缩,得到具有压印图案的紫外光固化胶层;对所述具有压印图案的紫外光固化胶层进行固化反应,得到防眩光玻璃。由于紫外光固化胶的质地较软,压印夹具与紫外光固化胶接触时发生形变,使得在紫外光固化胶层形成凹坑或者通孔,凹坑或者通孔形成凹凸不平的压印图案,之后对紫外光固化胶层进行固化反应,以便于对压印图案进行加固,由于凹凸不平的压印图案可以实现将光由镜面反射变成漫反射,减弱对眼睛的干扰,达到防眩光效果。本申请还提供一种防眩光玻璃,具有上述效果,此外还不容易脱落,且防眩光层的表面参数可控。

Description

防眩光玻璃制备工艺方法以及防眩光玻璃
技术领域
本发明涉及显示屏设备技术领域,更具体地说,涉及一种防眩光玻璃制备工艺方法,还涉及一种防眩光玻璃。
背景技术
由于现有技术中的显示屏对光源反射率较高,光污染特别严重,在产品使用过程中,很影响视觉效果,因此必须加工一层防眩光层来进行改善。目前,市场上大多的解决方案是采用贴膜或喷涂的溶剂工艺,或者蚀刻的工艺对玻璃表面进行处理,达到防眩光效果。但是喷涂和贴膜防眩光层工艺方面存在一些不稳定问题,例如,制备的防眩光层容易脱落等,刻蚀工艺制备的防眩光层的表面参数不容易控制,上述工艺做出的产品不是品质不稳定,就是工艺复杂,尤其在当前手机市场非常不好的环境下,质量问题和加工成本是更需要控制。
因此,如何简化制作工艺流程,同时得到防眩光效果较好的防眩光玻璃是本领域技术人员急需要解决的技术问题。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明提供了一种防眩光玻璃制备工艺方法,简化制作工艺流程,同时防眩光效果较好。
本发明提供的一种防眩光玻璃制备工艺方法,包括:
在玻璃基底的防眩光区域涂覆紫外光固化胶;
利用压印夹具对所述紫外光固化胶进行压缩,得到具有压印图案的紫外光固化胶层;
对所述具有压印图案的紫外光固化胶层进行固化反应,得到防眩光玻璃。
优选的,在上述防眩光玻璃制备工艺方法中,利用压印夹具对所述紫外光固化胶进行压缩,得到具有压印图案的紫外光固化胶层,包括:
压印夹具与所述紫外光固化胶表面接触并对其压缩至预设深度,得到分布有多个凹坑或者通孔的紫外光固化胶层。
优选的,在上述防眩光玻璃制备工艺方法中,对所述具有压印图案的紫外光固化胶层进行固化反应之前,还包括:
对所述玻璃基底的无所述防眩光区域的一面设置保护膜。
本发明还提供一种防眩光玻璃,包括:
玻璃基底;
设置于所述玻璃基底表面的防眩光层,所述防眩光层为具有压印图案的紫外光固化胶层。
优选的,在上述防眩光玻璃中,所述具有压印图案的紫外光固化胶层为表面分布有多个凹坑或者通孔的紫外光固化胶层。
优选的,在上述防眩光玻璃中,所述凹坑或者所述通孔的粒径范围为0μm-10μm,不包括端点值0μm。
优选的,在上述防眩光玻璃中,所述凹坑或者所述通孔的深度范围为0μm-5μm,不包括端点值0μm。
从上述技术方案可以看出,本发明所提供的一种防眩光玻璃制备工艺方法,包括:在玻璃基底的防眩光区域涂覆紫外光固化胶;利用压印夹具对所述紫外光固化胶进行压缩,得到具有压印图案的紫外光固化胶层;对所述具有压印图案的紫外光固化胶层进行固化反应,得到防眩光玻璃。由于紫外光固化胶的质地较软,压印夹具与紫外光固化胶接触时发生形变,使得在紫外光固化胶层形成凹坑或者通孔,凹坑或者通孔形成凹凸不平的压印图案,之后对紫外光固化胶层进行固化反应,以便于对压印图案进行加固,由于凹凸不平的压印图案可以实现将光由镜面反射变成漫反射,减弱对眼睛的干扰,达到防眩光效果。
本发明还提供一种防眩光玻璃,具有上述效果,此外还不容易脱落,且防眩光层的表面参数可控。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的防眩光玻璃制备工艺方法流程示意图;
图2为本申请实施例提供的一种防眩光玻璃结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
如图1所示,图1为本申请实施例提供的防眩光玻璃制备工艺方法流程示意图。
在一种具体实施方式中,本发明提供的一种防眩光玻璃制备工艺方法,包括:
步骤S1:在玻璃基底2的防眩光区域涂覆紫外光固化胶。
其中,在玻璃基底2的防眩光区域涂布的方式涂布覆盖一层透明的紫外光固化胶,还可以为其它方式进行设置,紫外光固化胶是必须通过紫外线光照射才能固化的一类胶粘剂,粘接强度高固化后完全透明、长期不变黄、不白化,耐低温、高温高湿性等优良特性,使其不容易从玻璃基底2上脱落。
步骤S2:利用压印夹具对所述紫外光固化胶进行压缩,得到具有压印图案的紫外光固化胶层;
其中,由于紫外光固化胶的质地较软,压印夹具与紫外光固化胶接触时发生形变,使得在紫外光固化胶层形成粒径可控的凹坑或者通孔,凹坑或者通孔形成凹凸不平的压印图案,压印夹具的压印图案可以根据需要进行设置,均在保护范围内。由于凹凸不平的压印图案可以实现将光由镜面反射变成漫反射,减弱对眼睛的干扰,达到防眩光效果。
步骤S3:对所述具有压印图案的紫外光固化胶层进行固化反应,得到防眩光玻璃。
其中,对紫外光固化胶层进行固化反应,目的是将压印图案进行固化,得到稳定不变的压印图案。
进一步的,在上述防眩光玻璃制备工艺方法的基础上,利用压印夹具对所述紫外光固化胶进行压缩,得到具有压印图案的紫外光固化胶层,包括:
压印夹具与所述紫外光固化胶表面接触并对其压缩至预设深度,得到分布有多个凹坑或者通孔的紫外光固化胶层。
其中,压印夹具对紫外光固化胶接触以及压缩,压缩的深度和图案根据需要进行设置即可,凹坑以及通孔的形状通过压印夹具的压印图案进行设置,均在保护范围内。
进一步的,为了防止玻璃基底2的另一面在制备过程中被刻蚀,在上述防眩光玻璃制备工艺方法的基础上,对所述具有压印图案的紫外光固化胶层进行固化反应之前,还包括:
对所述玻璃基底2的无所述防眩光区域的一面设置保护膜。
其中,保护膜为抗酸性保护膜,在刻蚀过程中避免对玻璃基底2的无所述防眩光区域的一面的刻蚀,起到保护作用。
如图2所示,图2为本申请实施例提供的一种防眩光玻璃结构示意图。
在另一种具体实施例中,本发明还提供一种防眩光玻璃,包括:
玻璃基底2;
设置于所述玻璃基底2表面的防眩光层1,所述防眩光层1为具有压印图案的紫外光固化胶层。
进一步的,在上述防眩光玻璃中,所述具有压印图案的紫外光固化胶层为表面分布有多个凹坑或者通孔的紫外光固化胶层。
其中,凹坑或者通孔的分布状况根据需要进行设置,例如,凹坑与凹坑之间的间距范围决定了凹坑的密集程度,分布越密集,防眩光的效果越好。
进一步的,在上述防眩光玻璃中,所述凹坑或者所述通孔的粒径范围为0μm-10μm,不包括端点值0μm。
其中,凹坑或者通孔的粒径范围在0μm-10μm,防眩光的效果最好,当然,包括但不限于上述范围,根据需要进行设置,均在保护范围内。
进一步的,在上述防眩光玻璃中,所述凹坑或者所述通孔的深度范围为0μm-5μm,不包括端点值0μm。
其中,凹坑或者通孔的深度范围为0μm-5μm,防眩光的效果最好,当然,包括但不限于上述范围,根据需要进行设置,均在保护范围内。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (7)

1.一种防眩光玻璃制备工艺方法,其特征在于,包括:
在玻璃基底的防眩光区域涂覆紫外光固化胶;
利用压印夹具对所述紫外光固化胶进行压缩,得到具有压印图案的紫外光固化胶层;
对所述具有压印图案的紫外光固化胶层进行固化反应,得到防眩光玻璃。
2.如权利要求1所述的防眩光玻璃制备工艺方法,其特征在于,利用压印夹具对所述紫外光固化胶进行压缩,得到具有压印图案的紫外光固化胶层,包括:
压印夹具与所述紫外光固化胶表面接触并对其压缩至预设深度,得到分布有多个凹坑或者通孔的紫外光固化胶层。
3.如权利要求2所述的防眩光玻璃制备工艺方法,其特征在于,对所述具有压印图案的紫外光固化胶层进行固化反应之前,还包括:
对所述玻璃基底的无所述防眩光区域的一面设置保护膜。
4.一种防眩光玻璃,其特征在于,包括:
玻璃基底;
设置于所述玻璃基底表面的防眩光层,所述防眩光层为具有压印图案的紫外光固化胶层。
5.如权利要求4所述的防眩光玻璃,其特征在于,所述具有压印图案的紫外光固化胶层为表面分布有多个凹坑或者通孔的紫外光固化胶层。
6.如权利要求5所述的防眩光玻璃法,其特征在于,所述凹坑或者所述通孔的粒径范围为0μm-10μm,不包括端点值0μm。
7.如权利要求6所述的防眩光玻璃,其特征在于,所述凹坑或者所述通孔的深度范围为0μm-5μm,不包括端点值0μm。
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