CN106956218B - 用于抛光设备中的供液装置 - Google Patents

用于抛光设备中的供液装置 Download PDF

Info

Publication number
CN106956218B
CN106956218B CN201710093550.6A CN201710093550A CN106956218B CN 106956218 B CN106956218 B CN 106956218B CN 201710093550 A CN201710093550 A CN 201710093550A CN 106956218 B CN106956218 B CN 106956218B
Authority
CN
China
Prior art keywords
support portion
baffle
feeding pipeline
liquid feeding
polissoir
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201710093550.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106956218A (zh
Inventor
赵慧佳
路新春
沈攀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tsinghua University
Huahaiqingke Co Ltd
Original Assignee
Tianjin Hwatsing Technology Co Ltd (hwatsing Co Ltd)
Tsinghua University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tianjin Hwatsing Technology Co Ltd (hwatsing Co Ltd), Tsinghua University filed Critical Tianjin Hwatsing Technology Co Ltd (hwatsing Co Ltd)
Priority to CN201710093550.6A priority Critical patent/CN106956218B/zh
Publication of CN106956218A publication Critical patent/CN106956218A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106956218B publication Critical patent/CN106956218B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B57/00Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents
    • B24B57/02Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents for feeding of fluid, sprayed, pulverised, or liquefied grinding, polishing or lapping agents

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

本发明公开了一种用于抛光设备中的供液装置,包括:供液管路,用于在抛光设备进行抛光操作时,为抛光设备的抛光盘进行供液;第一支撑部,第一支撑部的一端指向抛光盘方向,第一支撑部用于支撑供液管路;第二支撑部,第二支撑部的一端与第一支撑部的另一端相连,第二支撑部具有可移动组件,第二支撑部通过可移动组件在抛光设备中的挡板上可移动。由此,第二支撑部通过可移动组件在挡板上进行移动,可以带动第一支撑部沿着挡板进行移动,从而可以带动供液管路沿着挡板进行移动,进而使得抛光液落点可以调节到抛光盘的任意位置,扩大了供液位置的可调节范围。

Description

用于抛光设备中的供液装置
技术领域
本发明涉及抛光设备技术领域,尤其涉及一种用于抛光设备中的供液装置。
背景技术
目前,在抛光设备在进行抛光工艺操作时,可通过该抛光设备中的供液装置对抛光盘进行供液,以使抛光液通过供液装置滴落在抛光盘上。相关技术中,该供液装置通常是采用固定在某一点,旋转移动供液管路以调节供液位置。例如,如图1所示,该供液装置100固定某一点,该固定点与抛光盘200具有一定的距离,其中,供液装置100通过轴承300进行左右旋转移动来调节对抛光盘200的供液位置。然而,通过这种轴承方式来移动供液装置以实现供液位置的调节,由于只能对供液装置进行左右方向的移动,导致供液装置的可调范围有限。
发明内容
本发明的目的旨在至少在一定程度上解决上述的技术问题之一。
为此,本发明的一个目的在于提出一种用于抛光设备中的供液装置。该供液装置可以扩大供液位置的可调节范围。
为达到上述目的,本发明一方面实施例提出的用于抛光设备中的供液装置,包括:供液管路,用于在所述抛光设备进行抛光操作时,为所述抛光设备的抛光盘进行供液;第一支撑部,所述第一支撑部的一端指向所述抛光盘方向,所述第一支撑部用于支撑所述供液管路;第二支撑部,所述第二支撑部的一端与所述第一支撑部的另一端相连,所述第二支撑部具有可移动组件,所述第二支撑部通过所述可移动组件在所述抛光设备中的挡板上可移动。
根据本发明实施例的用于抛光设备中的供液装置,通过在挡板上设有第二支撑部,该第二支撑部通过可移动组件在该挡板上可移动,并通过第一支撑部支撑供液管路,使得供液管路伸向抛光盘,其中,第二支撑部与第一支撑部相连,这样,第二支撑部通过可移动组件在挡板上进行移动,可以带动第一支撑部沿着挡板进行移动,从而可以带动供液管路沿着挡板进行移动,进而使得抛光液落点可以调节到抛光盘的任意位置,扩大了供液位置的可调节范围。
根据本发明的一个实施例,所述供液装置还包括:伸缩架;其中,所述伸缩架包括:第一结构,所述第一结构与所述第一支撑部的形状一致,所述第一结构用于固定所述供液管路;第二结构,所述第二结构与所述第一结构一体成型为T型,其中,所述第二结构开腰形槽,且所述第二结构通过调整螺丝与所述第一支撑部相连,并通过所述调整螺丝对所述第一结构与所述第一支撑部之间的距离进行调节。
根据本发明的一个实施例,所述供液装置还包括:第一固定装置,所述第一固定装置设置于第一支撑部之上,所述第一固定装置用于将经过所述第一支撑部上的供液管路进行固定;第二固定装置,所述第二固定装置设置于所述第一结构之上,所述第二固定装置用于将经过所述第一结构上的供液管路进行固定。
根据本发明的一个实施例,所述第一支撑部开至少一个条形半圆槽,所述至少一个条形半圆槽用于将所述经过所述第一支撑部上的供液管路镶嵌在内。
根据本发明的一个实施例,所述第一支撑部与所述第二支撑部垂直。
根据本发明的一个实施例,所述第一支撑部与所述第二支撑部一体成型。
根据本发明的一个实施例,所述第二支撑部进行弧形处理,并开深槽;其中,所述可移动组件为所述深槽,以使所述第二支撑部通过所述深槽架在所述挡板上。
根据本发明的一个实施例,所述第二支撑部的外侧设有螺纹孔,通过螺丝穿过所述螺纹孔以将所述第二支撑部固定在所述挡板上。
根据本发明的一个实施例,所述挡板的外壁设有第一磁铁部,其中,所述可移动组件为第二磁铁部,所述第一磁铁部与所述第二磁铁部相互吸引以使所述第二支撑部固定在所述挡板上。
本发明附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
附图说明
本发明上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1是现有技术中用于抛光设备中的供液装置的示例图;
图2是根据本发明一个实施例的用于抛光设备中的供液装置的结构示意图;
图3是根据本发明一个实施例的第一支撑部与第二支撑部连接的结构示意图;
图4是根据本发明另一个实施例的用于抛光设备中的供液装置的结构示意图;
图5是根据本发明一个实施例的伸缩架的结构示意图;
图6是根据本发明一个实施例的第二结构与第一支撑部之间的连接关系的示意图;
图7是根据本发明一个实施例的第一固定装置的结构示意图。
附图标记:
100:供液装置;200、11:抛光盘;300:轴承;10:供液管路;20:第一支撑部;30:第二支撑部;12:挡板;31:螺纹孔;40:伸缩架;41:第一结构;42:第二结构;43:调整螺丝;50:第一固定装置;60:第二固定装置;32:第二磁铁部。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
下面参考附图描述本发明实施例的用于抛光设备中的供液装置。
图2是根据本发明一个实施例的用于抛光设备中的供液装置的结构示意图。如图2所示,该用于抛光设备中的供液装置可以包括:供液管路10、第一支撑部20和第二支撑部30。其中,如图2所示,第一支撑部20的一端指向抛光盘11方向,第一支撑部20可用于支撑供液管路10;第二支撑部30的一端与第一支撑部20的另一端相连,第二支撑部30可具有可移动组件,第二支撑部30可通过该可移动组件在抛光设备中的挡板12上可移动。
具体地,供液管路10可用于在抛光设备进行抛光操作时,为抛光设备的抛光盘11进行供液。第一支撑部20可支撑供液管路10,第一支撑部20的另一端与第二支撑部30的一端相连,第二支撑部30通过可移动组件在挡板12上进行移动,这样,第二支撑部30在可移动组件与挡板12的配合下,可带动第一支撑部20的移动,从而可以使得供液管路10围绕挡板12进行旋转移动,进而实现供液管路10对抛光盘的供液,由此,通过第一支撑部和第二支撑部将供液管路支撑在抛光盘上方,并通过第二支撑部与挡板的配合来使得供液管路可以围绕挡板进行移动,以实现对抛光盘的大范围供液。
为了方便第一支撑部对供液管路的支撑,优选地,在本发明的一个实施例中,该第一支撑部可开至少一个条形半圆槽,至少一个条形半圆槽可用于将经过第一支撑部上的供液管路镶嵌在内。其中,该条形半圆槽的数量可由实际应用中供液管路的个数来决定。例如,如图3所示,以两条半圆槽为例,该第一支撑部20开两条半圆槽,通过该半圆槽可将供液管路10镶嵌在内,以方便第一支撑部对供液管路的支撑。
为了更好地实现第一支撑部对供液管路的支撑,优选地,在本发明的一个实施例中,该第一支撑部20与第二支撑部30垂直。其中,第一支撑部20与第二支撑部30一体成型。此外,第一支撑部20的长度可以大于第二支撑部30的长度,也还可以等于第二支撑部30的长度,具体情况可根据实际应用来确定,在此不作具体限定。
举例而言,在本实施例中,该第一支撑部20与第二支撑部30可一体成型为L型支架,其中该L型支架的长边即为第一支撑部20,该L型支架的短边即为第二支撑部30。
需要说明的是,上述给出的将第一支撑部20与第二支撑部30设置为一体成型的示例为一种优选方案,而第一支撑部20与第二支撑部30还可以是两个个体,即通过螺纹联接、键联接、花键联接、成形联接、销联接、铆接、焊接、粘接等中的任意一种连接方式,将第一支撑部20与第二支撑部30组装在一起。
可以理解,由于第二支撑部30与挡板12的连接方式的不同,所以会使得第二支撑部30与挡板12的工艺结构也会不同,例如,第二支撑部30可通过深槽与挡板12的配合,以实现第二支撑部30与挡板12的连接;又如,利用磁吸原理,实现第二支撑部30与挡板12的连接,具体实现方式可参见下面两种示例的描述:
作为一种示例,如图3所示,第二支撑部30进行弧形处理,并开深槽。其中,在本示例中,该可移动组件可以是该深槽,以使第二支撑部30通过该深槽架在挡板12上。其中,第二支撑部30的外侧设有螺纹孔31,通过螺丝穿过螺纹孔31以将第二支撑部30固定在挡板12上。
也就是说,第二支撑部30可做弧形处理,并开深槽,使第二支撑部30能够与挡板12配合,以使第二支撑部30可以固定在挡板12的任意位置上。并且,通过将第二支撑部30的外侧设有螺纹孔31,这样,可用螺丝将第二支撑部30固定在挡板12上。其中,在本示例中,挡板12的外壁开槽,这样,通过第二支撑部30的深槽与挡板12外壁上的槽之间的配合,可以实现对第二支撑部30的固定。
作为另一种示例,如图4所示,该挡板12的外壁设有第一磁铁部,其中,可移动组件可以是第二磁铁部32,第一磁铁部与第二磁铁部32相互吸引以使第二支撑部30固定在挡板上。例如,挡板12的外壁与第二支撑部30的外壁可分别具有磁铁部(如磁铁),这样,可通过挡板12外壁的磁铁部与第二支撑部30外壁的磁铁部之间的相互吸引,使得第二支撑部30能够固定在挡板12上。可以理解,由于挡板12外壁设有第一磁铁部,这样,可以通过移动第二支撑部30,即可带动对供液管路的移动,从而实现供液位置的调节。
其中,在本示例中,第二磁铁部32的形状不限于圆形,还可以是其他形状,如长方形等,在此不作具体限定。还可以理解,在此实施例中挡板无需开槽,通过磁铁部之间的相互吸引即可实现将第二支撑部固定在挡板上的目的。
需要说明的是,上述两种示例仅是为了方便本领域的技术人员对本发明的理解,并不能作为对本发明的具体限定。
为了进一步扩大对抛光盘进行供液的位置,扩大供液位置的可调节范围,进一步地,在本发明的一个实施例中,该供液装置还可包括:伸缩架。如图2所示,该伸缩架可包括:第一结构41和第二结构42。如图5所示,为伸缩架40的结构示意图,该第一结构41与第二结构42可一体成型为T型,其中,该第一结构41与第一支撑部20的形状一致,用于固定供液管路,第二结构42开腰形槽。
如图6所示,为第二结构42与第一支撑部20之间的连接关系的示意图。其中,第一结构41与第一支撑部20的形状一致,第一结构41用于固定供液管路;第二结构42与第一结构41一体成型为T型,其中,第二结构42开腰形槽,且第二结构42通过调整螺丝43与第一支撑部20相连,并通过调整螺丝43对第一结构41与第一支撑部20之间的距离进行调节。优选地,该第二结构42的厚度可小于第一结构41的厚度,这样,可以使得第二结构42通过调整螺丝43连接在第一支撑部20上时,第二结构42上的供液管路不会太高于第一支撑部20上的供液管路,以使得供液管路基本保持在同一水平面上。
这样,在调整螺丝43被松开后,可拉动伸缩架40,实现伸缩架的可伸缩,从而可以实现供液管路在抛光盘上的供液位置的调整,调整螺丝43拧紧后可起到紧固作用,以固定伸缩架40。
为了避免第一支撑部以及第一结构上供液管路的脱落,进一步地,在本发明的一个实施例中,如图2所示,该供液装置还可包括:第一固定装置50和第二固定装置60。其中,第一固定装置50设置于第一支撑部20之上,第一固定装置50可用于将经过第一支撑部20上的供液管路10进行固定;第二固定装置60设置于第一结构41之上,第二固定装置60可用于将经过第一结构41上的供液管路10进行固定。
可以理解,在本发明的实施例中,该第一固定装置50与第二固定装置60的结构可相同,例如,该第一固定装置50的形状可为如图7所示,即可具有两个半圆槽,这样,第一固定装置50通过该半圆槽与第一支撑部20的半圆槽的配合下,固定供液管路。此外,该第一固定装置50还可具有两个螺纹孔,该两个螺纹孔分别位于半圆槽的两侧,这样,第一固定装置50可以以螺丝对第一支撑部20上的供液管路进行加固。还可以理解,该第一固定装置50与第二固定装置60的结构也可以不相同,具体情况可根据实际应用来确定,本发明对此不作具体限定。
根据本发明实施例的用于抛光设备中的供液装置,通过在挡板上设有第二支撑部,该第二支撑部通过可移动组件在该挡板上可移动,并通过第一支撑部支撑供液管路,使得供液管路伸向抛光盘,其中,第二支撑部与第一支撑部相连,这样,第二支撑部通过可移动组件在挡板上进行移动,可以带动第一支撑部沿着挡板进行移动,从而可以带动供液管路沿着挡板进行移动,进而使得抛光液落点可以调节到抛光盘的任意位置,扩大了供液位置的可调节范围。
为了实现上述实施例,本发明还提出了一种抛光设备,该抛光设备可包括:上述任一个实施例所述的供液装置。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本发明的限制,本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (8)

1.一种用于抛光设备中的供液装置,其特征在于,包括:
供液管路,用于在所述抛光设备进行抛光操作时,为所述抛光设备的抛光盘进行供液;
第一支撑部,所述第一支撑部的一端指向所述抛光盘方向,所述第一支撑部用于支撑所述供液管路;
第二支撑部,所述第二支撑部的一端与所述第一支撑部的另一端相连,所述第二支撑部具有可移动组件,所述第二支撑部通过所述可移动组件在所述抛光设备中的挡板上可移动,其中,所述挡板的形状为圆形,以使所述第二支撑部在所述可移动组件与所述挡板的配合下,可带动所述第一支撑部的移动,从而可以使得所述供液管路围绕所述挡板进行旋转移动,进而实现所述供液管路对抛光盘的供液;
伸缩架,其中,所述伸缩架包括:
第一结构,所述第一结构与所述第一支撑部的形状一致,所述第一结构用于固定所述供液管路;
第二结构,所述第二结构与所述第一结构一体成型为T型,其中,所述第二结构开腰形槽,且所述第二结构通过调整螺丝与所述第一支撑部相连,并通过所述调整螺丝对所述第一结构与所述第一支撑部之间的距离进行调节。
2.如权利要求1所述的供液装置,其特征在于,还包括:
第一固定装置,所述第一固定装置设置于第一支撑部之上,所述第一固定装置用于将经过所述第一支撑部上的供液管路进行固定;
第二固定装置,所述第二固定装置设置于所述第一结构之上,所述第二固定装置用于将经过所述第一结构上的供液管路进行固定。
3.如权利要求2所述的供液装置,其特征在于,所述第一支撑部开至少一个条形半圆槽,所述至少一个条形半圆槽用于将所述经过所述第一支撑部上的供液管路镶嵌在内。
4.如权利要求1所述的供液装置,其特征在于,所述第一支撑部与所述第二支撑部垂直。
5.如权利要求4所述的供液装置,其特征在于,所述第一支撑部与所述第二支撑部一体成型。
6.如权利要求1所述的供液装置,其特征在于,所述第二支撑部进行弧形处理,并开深槽;其中,所述可移动组件为所述深槽,以使所述第二支撑部通过所述深槽架在所述挡板上。
7.如权利要求6所述的供液装置,其特征在于,所述第二支撑部的外侧设有螺纹孔,通过螺丝穿过所述螺纹孔以将所述第二支撑部固定在所述挡板上。
8.如权利要求1所述的供液装置,其特征在于,所述挡板的外壁设有第一磁铁部,其中,所述可移动组件为第二磁铁部,所述第一磁铁部与所述第二磁铁部相互吸引以使所述第二支撑部固定在所述挡板上。
CN201710093550.6A 2017-02-21 2017-02-21 用于抛光设备中的供液装置 Active CN106956218B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710093550.6A CN106956218B (zh) 2017-02-21 2017-02-21 用于抛光设备中的供液装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710093550.6A CN106956218B (zh) 2017-02-21 2017-02-21 用于抛光设备中的供液装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106956218A CN106956218A (zh) 2017-07-18
CN106956218B true CN106956218B (zh) 2019-09-03

Family

ID=59481133

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710093550.6A Active CN106956218B (zh) 2017-02-21 2017-02-21 用于抛光设备中的供液装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106956218B (zh)

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3923009B2 (ja) * 2002-12-19 2007-05-30 沖電気工業株式会社 ウェーハの研磨方法
US20050026551A1 (en) * 2003-07-30 2005-02-03 Berman Michael J> Method to improve control in CMP processing
US8277286B2 (en) * 2009-02-13 2012-10-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Slurry dispenser for chemical mechanical polishing (CMP) apparatus and method
CN202240852U (zh) * 2011-09-28 2012-05-30 清华大学 抛光液挡板
CN203042840U (zh) * 2012-12-13 2013-07-10 张丽 便于拆装的手术台输液支架
CN203566467U (zh) * 2013-12-03 2014-04-30 宋锦柱 一种自动供液的抛光机

Also Published As

Publication number Publication date
CN106956218A (zh) 2017-07-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106582402B (zh) 三自由度共振混合装置
CN104566854B (zh) 移动空调及移动空调冷凝水消耗控制方法
CN106956218B (zh) 用于抛光设备中的供液装置
CN206281260U (zh) 节流部件及具有其的空调器
US20010043715A1 (en) Loudspeaker
CN104728173B (zh) 扩散器、离心压缩式动力系统和无叶风扇
WO2004065289A3 (en) Micromechanical or microoptoelectronic devices with deposit of getter material and integrated heater, and support for the production thereof
CN106481724A (zh) 用于波轮洗衣机的可调阻尼吊杆及具有其的波轮洗衣机
CN206738729U (zh) 一种多维定向穿管装置
CN108328130B (zh) 一种搅拌式计量料斗
JP4303914B2 (ja) 晶析装置
CN106061380B (zh) 磁铁装置及磁共振摄像装置
CN109594641A (zh) 一种防臭地漏
CN105431365A (zh) 具有存储容器和排出装置的计量装置
CN206647991U (zh) 一种防撞路灯
CN104841333A (zh) 一种圆盘造粒机
CN104495317B (zh) 一种灌装瓶纠正推挤系统
JP2009113961A (ja) 密閉式振動垂直輸送機
CN110036134A (zh) 气溶胶蒸发器
CN209718131U (zh) 一种用于磁砖生产的存储装置
CN102257900B (zh) 振动器及播种设备
CN106079130A (zh) 一种聚乙烯膜融化装置
CN206674800U (zh) 组合式放流装置
CN107029975B (zh) 一种基于风冷散热的双线圈单动磁体结构的惯性式激振器
CN205655558U (zh) 滑轨结构及具有其的冰箱

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 300350, Tianjin City, Jinnan District Science and Technology Park, Hai Hing Road, No. 9, building No. 8

Co-patentee after: TSINGHUA University

Patentee after: Huahaiqingke Co.,Ltd.

Address before: 300350, Tianjin City, Jinnan District Science and Technology Park, Hai Hing Road, No. 9, building No. 8

Co-patentee before: TSINGHUA University

Patentee before: TSINGHUA University