CN106835049A - 一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法 - Google Patents

一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法 Download PDF

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鲍兆臣
张少波
樊黎虎
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract

本发明公开一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法，包括以下步骤：在基片架底部设置旋转底座，使基片架能够在旋转底座上水平自由旋转；对基片架的正面进行正面玻璃基片的上片操作，然后将基片架在旋转底座上旋转180°，再对基片架的反面进行反面玻璃基片的上片操作；双面磁控溅射镀膜机进行正反面镀膜；镀完膜的基片架回转运送到上下片区，对基片架正面的玻璃基片进行下片操作，然后将基片架在旋转底座上旋转180°，再对基片架反面的玻璃基片进行下片操作；重复步骤b～d，实现在真空镀膜工艺中对玻璃基片的上下片；安排一名操作工即可对基片架反面进行上下片，无需再绕行到基片架反面，节省了人力的同时，能够保证上下片的速度，降低劳动强度。

Description

一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法
技术领域
本发明涉及触摸屏玻璃制造技术领域，具体是一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法。
背景技术
在触摸屏玻璃制造领域，常常使用磁控溅射镀膜机对玻璃基片真空镀膜，而双面磁控溅射镀膜机由于同时能够对两片玻璃基片进行镀膜，受到广泛的应用。
在镀膜时，一般由两名操作工分别站在基片架的正反两面，位于基片架正面的操作工负责正面基片的上下片，位于基片架反面的操作工负责反面基片的上下片，这样无疑造成了人力资源的浪费；而如果只安排一名操作工，那在对正面玻璃基片上下片之后，需要绕行到基片架的反面，再对反面玻璃基片上下片，如此反复，一方面劳动强度大，另一方面上下片的速度跟不上镀膜的节拍，影响生产效率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法，该方法能够使一名操作工对两面玻璃基片进行上下片操作，同时能够保证上下片的速度，提高人员的利用率。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法，包括以下步骤：
a、在基片架底部设置旋转底座，使基片架能够在旋转底座上水平自由旋转；
b、对基片架的正面进行正面玻璃基片的上片操作，然后将基片架在旋转底座上旋转180°，再对基片架的反面进行反面玻璃基片的上片操作；
c、将上片后的基片架送入双面磁控溅射镀膜机进行正反面镀膜；
d、镀完膜的基片架由双面磁控溅射镀膜机出口回转运送到上下片区，对基片架正面的玻璃基片进行下片操作，然后将基片架在旋转底座上旋转180°，再对基片架反面的玻璃基片进行下片操作；
e、重复步骤b～d，实现在真空镀膜工艺中对玻璃基片的上下片。
本发明的有益效果是，安排一名操作工位于上下片区，在对基片架的正面上下片后，将基片架在旋转底座上旋转180°即可对基片架反面进行上下片，无需再绕行到基片架反面，节省了人力的同时，能够保证上下片的速度，降低劳动强度。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明：
图1是本发明的上片示意图；
图2是本发明的下片示意图；
图3是本发明中基片架的示意图。
具体实施方式
结合图1～图3所示，本发明提供一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法，包括以下步骤：
a、在基片架1底部设置旋转底座2，使基片架1能够在旋转底座2上水平自由旋转，旋转底座2采用常规带转轴的底座即可；
b、对基片架1的正面进行正面玻璃基片3的上片操作，然后将基片架1在旋转底座2上旋转180°，再对基片架1的反面进行反面玻璃基片4的上片操作；
c、将上片后的基片架1送入双面磁控溅射镀膜机5进行正反面镀膜；
d、镀完膜的基片架1由双面磁控溅射镀膜机5出口回转运送到上下片区，对基片架1正面的玻璃基片进行下片操作，然后将基片架1在旋转底座上旋转180°，再对基片架1反面的玻璃基片进行下片操作；
e、重复步骤b～d，实现在真空镀膜工艺中对玻璃基片的上下片。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。

Claims (1)

1.一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法，其特征在于，包括以下步骤：
a、在基片架底部设置旋转底座，使基片架能够在旋转底座上水平自由旋转；
b、对基片架的正面进行正面玻璃基片的上片操作，然后将基片架在旋转底座上旋转180°，再对基片架的反面进行反面玻璃基片的上片操作；
c、将上片后的基片架送入双面磁控溅射镀膜机进行正反面镀膜；
d、镀完膜的基片架由双面磁控溅射镀膜机出口回转运送到上下片区，对基片架正面的玻璃基片进行下片操作，然后将基片架在旋转底座上旋转180°，再对基片架反面的玻璃基片进行下片操作；
e、重复步骤b～d，实现在真空镀膜工艺中对玻璃基片的上下片。
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