CN106783873A - 阵列基板及其制造方法、显示面板 - Google Patents

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CN106783873A CN201611083109.1A CN201611083109A CN106783873A CN 106783873 A CN106783873 A CN 106783873A CN 201611083109 A CN201611083109 A CN 201611083109A CN 106783873 A CN106783873 A CN 106783873A
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Abstract

本申请公开了一种阵列基板及其制造方法、显示面板,属于显示技术领域。阵列基板包括:衬底基板;衬底基板上设置有多个栅线组、多个数据线、多个控制线和多个阵列排布的像素单元;其中,每个栅线组包括两条栅线,多个栅线组中的任意两条栅线平行;控制线平行于数据线,且每条控制线与相邻的一条数据线之间存在一列像素单元;多个阵列排布的像素单元构成多个像素单元组,每个像素单元组中的所有像素单元的公共电极相连接,且通过一条控制线连接至控制单元。本申请解决了阵列基板的开口率降低的问题,防止了阵列基板的开口率降低,本申请用于阵列基板。

Description

阵列基板及其制造方法、显示面板
技术领域
本申请涉及显示技术领域,特别涉及一种阵列基板及其制造方法、显示面板。
背景技术
随着显示技术的发展,出现了一种应用将触摸面板功能嵌入两板之间(简称:in-cell)技术的高级超维场开关(英文:Advanced-Super Dimensional Switching;简称:ADS)型显示面板。
相关技术中,应用in-cell技术的ADS型显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板,以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶。阵列基板上异层设置有公共电极层和像素电极层,其中,公共电极层包含多个公共电极,像素电极层包含多个像素电极。每个公共电极均通过一条公共电极线与显示控制单元相连接,以及通过一条触控感应线与触摸控制单元相连接。在实现该ADS型显示面板的显示功能时,可以直接通过公共电极线向公共电极输入公共电压,在实现该ADS型显示面板的触控功能时,触摸控制单元可以通过触控感应线向公共电极输入触控电压。
由于相关技术中,连接公共电极与触摸控制单元的触控感应线也位于阵列基板上,且通常该触控感应线采用非透明的金属材质制成,因此,该触控感应线的存在导致显示面板上的有效显示区域较小,阵列基板的开口率也较小。
发明内容
为了解决阵列基板的开口率较小的问题,本申请提供了一种阵列基板及其制造方法、显示面板。所述技术方案如下:
第一方面,提供了一种阵列基板,所述阵列基板包括:
衬底基板;
所述衬底基板上设置有多个栅线组、多个数据线、多个控制线和多个阵列排布的像素单元;
其中,每个所述栅线组包括两条栅线,所述多个栅线组中的任意两条栅线平行;数据线与栅线组交叉围成多个显示区域,每个所述显示区域内存在两个沿栅线的延伸方向排布的像素单元;所述控制线平行于所述数据线,且每条所述控制线与相邻的一条数据线之间存在一列像素单元;
所述多个阵列排布的像素单元构成多个像素单元组,每个所述像素单元组中的所有像素单元的公共电极相连接,且通过一条控制线连接至控制单元,任意两个所述像素单元组中的公共电极所连接的控制线不同,所述控制单元用于在触控感应时间段通过控制线向公共电极施加触控电压,以及在显示控制时间段通过控制线向公共电极施加公共电压。
可选的,所述控制线与所述数据线同层设置。
可选的,每个所述像素单元包括:
设置在衬底基板上的栅极;
设置有所述栅极的衬底基板上设置有栅极绝缘层;
设置有所述栅极绝缘层的衬底基板上设置有源漏极图案;
设置有所述源漏极图案的衬底基板上设置有像素电极;
设置有所述像素电极的衬底基板上设置有钝化层;
设置有所述钝化层的衬底基板上设置有公共电极;
其中,所述栅极与所述栅线同层设置,所述源漏极图案、所述数据线和所述控制线同层设置,公共电极通过钝化层上的过孔与控制线连接。
可选的,每个所述显示区域由第一数据线、第二数据线、第一栅线和第二栅线围成,每个所述显示区域内存在第一像素单元和第二像素单元;
所述第一像素单元靠近所述第一数据线设置,所述第二像素单元靠近所述第二数据线设置,所述第一像素单元的栅极靠近所述第二栅线设置,所述第二像素单元的栅极靠近所述第一栅线设置;
所述第一像素单元的源极与所述第一数据线相连接,所述第二像素单元的源极与所述第二数据线相连接,所述第一像素单元的栅极与所述第二栅线相连接,所述第二像素单元的栅极与所述第一栅线相连接。
可选的,每个所述像素单元组中的所有公共电极构成公共电极组,所述阵列基板中的任意两个相邻的公共电极组的间距为d,4微米≤d≤10微米。
可选的,所述多个栅线组、所述多个数据线和所述多个控制线交叉围成多个子区域,每个所述子区域内设置一个所述像素单元。
可选的,所述数据线与所述控制线均垂直于所述栅线。
第二方面,提供了一种阵列基板的制造方法,所述方法包括:
在衬底基板上形成多个栅线组、多个数据线、多个控制线和多个阵列排布的像素单元;
其中,每个所述栅线组包括两条栅线,所述多个栅线组中的任意两条栅线平行;数据线与栅线交叉围成多个显示区域,每个所述显示区域内存在两个沿栅线的延伸方向排布的像素单元;所述控制线平行于所述数据线,且每条所述控制线与相邻的一条数据线之间存在一列像素单元;
所述多个阵列排布的像素单元构成多个像素单元组,每个所述像素单元组中的所有像素单元的公共电极相连接,且通过一条控制线连接至控制单元,任意两个所述像素单元组中的公共电极所连接的控制线不同。
可选的,所述控制线与所述数据线同层形成。
第三方面,提供了一种显示面板,所述显示面板包括如第一方面所述的阵列基板。
综上所述,本申请提供了一种阵列基板及其制造方法、显示面板,由于该阵列基板中,公共电极包括多个像素单元组中的公共电极(也即多个公共电极块),且控制单元能够通过控制线将公共电极分时复用为“公共电极”和“触控电极”,通过阵列基板上的公共电极同时能够实现触控和显示的功能。又由于该阵列基板为双栅结构的阵列基板,能够省去阵列基板上的部分数据线,并将阵列基板上对开口率有影响的触控感应线(也即控制线)放置在原先放置数据线的位置,从而防止了由于触控感应线的存在,而导致的阵列基板开口率的减小。
附图说明
图1是本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图;
图2是本发明实施例提供的一种显示区域示意图;
图3是本发明实施例提供的一种公共电极组与控制线的连接示意图;
图4是本发明实施例提供的一种ADS型阵列基板的结构示意图;
图5是本发明实施例提供的一种IPS型阵列基板的结构示意图;
图6为相关技术提供的一种应用on-cell技术的阵列基板的结构示意图;
图7为相关技术提供的一种应用in-cell技术的阵列基板的结构示意图。
通过上述附图,已示出本申请明确的实施例,后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本申请构思的范围,而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本申请的概念。
具体实施方式
为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本申请实施方式作进一步地详细描述。显然,所描述的实施例仅仅是本申请的一部分实施例,而不是全部的实施例。
如图1所示,本发明实施例提供了一种阵列基板0,该阵列基板0可以包括:衬底基板(图1中未示出);该衬底基板上设置有多个栅线组02(图1中仅仅示出了一组栅线组,以及与该栅线组相邻的两个栅线组中的部分栅线)、多个数据线03、多个控制线04和多个阵列排布的像素单元05。
其中,每个栅线组02可以包括两条栅线021,多个栅线组02中的任意两条栅线021平行;数据线03与栅线组02交叉围成多个显示区域,每个显示区域内存在两个沿栅线021的延伸方向排布的像素单元05;控制线04平行于数据线03,且每条控制线04与相邻的一条数据线04之间存在一列像素单元05。
多个阵列排布的像素单元05构成多个像素单元组,每个像素单元组中的所有像素单元05的公共电极C相连接,且通过一条控制线04连接至控制单元06,任意两个像素单元组中的公共电极C所连接的控制线04不同,控制单元06用于在触控感应时间段通过控制线04向公共电极C施加触控电压,以及在显示控制时间段通过控制线04向公共电极C施加公共电压。
综上所述,由于本发明实施例提供的阵列基板中,公共电极包括多个像素单元组中的公共电极(也即多个公共电极块),且控制单元能够通过控制线将公共电极分时复用为“公共电极”和“触控电极”,通过阵列基板上的公共电极同时能够实现触控和显示的功能。又由于该阵列基板为双栅结构的阵列基板,能够省去阵列基板上的部分数据线,并将阵列基板上对开口率有影响的触控感应线(也即控制线)放置在原先放置数据线的位置,从而防止了由于触控感应线的存在,而导致的阵列基板开口率的减小。
数据线03可以平行于控制线04,且数据线03与控制线04均可以垂直于栅线021。多个栅线组02、多个数据线03和多个控制线04能够交叉围成多个子区域,每个子区域内可以设置有一个像素单元05。需要说明的是,图1中的控制线04可以与数据线03同层设置。可选的,该控制线04的材质也可以与数据线03的材质相同。由于控制线04和数据线03同层设置,也即控制线04和数据线03可以同层形成,在制造该阵列基板时,可以采用一次构图工艺就可以同时得到控制线04和数据线03,阵列基板的制造步骤较少。
可选的,图2为本发明实施例提供的一种显示区域示意图,如图2所示,每个显示区域可以由第一数据线031、第二数据线032、第一栅线0211和第二栅线0212围成,每个显示区域内存在第一像素单元051和第二像素单元052。
第一像素单元051靠近第一数据线031设置,第二像素单元052靠近第二数据线032设置,第一像素单元051的栅极靠近第二栅线0212设置,第二像素单元052的栅极靠近第一栅线0211设置;第一像素单元051的源极091与第一数据线031相连接,第二像素单元052的源极091与第二数据线032相连接,第一像素单元051的栅极与第二栅线0212相连接,第二像素单元052的栅极与第一栅线0211相连接。进一步的,每个像素单元的漏极均可以与该像素单元的像素电极相连接。
示例的,本发明实施例中的每个像素单元组中的所有公共电极相连接,且构成公共电极组,使得该阵列基板包括多个公共电极组,需要说明的是,该阵列基板中的任意两个相邻的公共电极组的间距为d,4微米≤d≤10微米。
如图1所示,阵列基板0上共设置有12个像素单元05,且该12个像素单元05排成两行六列。其中,第一行像素单元中的前三列像素单元组成一个像素单元组,该第一行像素单元中的前三列像素单元的公共电极相连接,组成一个公共电极组;第一行像素单元中的后三列像素单元组成一个像素单元组,该第一行像素单元中的后三列像素单元的公共电极相连接,组成一个公共电极组;第二行像素单元中的前三列像素单元组成一个像素单元组,该第二行像素单元中的前三列像素单元的公共电极相连接,组成一个公共电极组;第二行像素单元中的后三列像素单元组成一个像素单元组,该第二行像素单元中的后三列像素单元的公共电极相连接,组成一个公共电极组。
进一步的,该阵列基板上的多个公共电极组中,每个公共电极组均通过过孔与一条控制线相连接,且该多个公共电极组中任意两个不同的公共电极组相连接的控制线不同。
图3为本发明实施例提供的一种公共电极组与控制线的连接示意图,如图3所示,该阵列基板上共设置有9个公共电极组P和9根控制线04,其中,9个公共电极组P排成三行三列,9根控制线04排成一列。需要说明的是,图3中仅仅示意性的示出了公共电极组与控制线的连接方式,图3对应的阵列基板与图1所示的阵列基板并不相同。
具体的,第一行第一列公共电极组P通过过孔G与第一根控制线04相连接;第二行第一列公共电极组P通过过孔G与第二根控制线04相连接;第三行第一列公共电极组P通过过孔G与第三根控制线04相连接;第一行第二列公共电极组P通过过孔G与第四根控制线04相连接;第二行第二列公共电极组P通过过孔G与第五根控制线04相连接;第三行第二列公共电极组P通过过孔G与第六根控制线04相连接;第一行第三列公共电极组P通过过孔G与第七根控制线04相连接;第二行第三列公共电极组P通过过孔G与第八根控制线04相连接;第三行第三列公共电极组P通过过孔G与第九根控制线04相连接。
示例的,本发明实施例不对阵列基板的类型进行限定,也即该阵列基板的类型可以为ADS型、横向电场效应(英文:In Plne Switch;简称:IPS)型或者其他类型。
一方面,本发明实施例中在阵列基板0可以为ADS型阵列基板,如图4所示,该阵列基板0中的每个像素单元可以包括:设置在衬底基板上的栅极;设置有栅极的衬底基板上设置有栅极绝缘层;设置有栅极绝缘层的衬底基板上设置有源漏极图案21;设置有源漏极图案21的衬底基板上设置有像素电极22;设置有像素电极22的衬底基板上设置有钝化层;设置有钝化层的衬底基板上设置有公共电极。其中,栅极可以与栅线23可以同层设置,该栅极的材质也可以与栅线的材质相同。源漏极图案、数据线和控制线可以同层设置,公共电极可以通过钝化层上的过孔G与控制线04连接。示例的,该源漏极图案可以包括源极图案和漏极图案,源漏极图案的材质可以为金属,也可以为非金属,本发明实施例对此不作限定。
另一方面,本发明实施例中在阵列基板可以为IPS型阵列基板,如图5所示,该阵列基板0中的每个像素单元可以包括:设置在衬底基板上的栅极;设置有栅极的衬底基板上设置有栅极绝缘层;设置有栅极绝缘层的衬底基板上设置有源漏极图案;设置有源漏极图案的衬底基板上设置有钝化层;设置有钝化层的衬底基板上设置有电极层,该电极层可以包括像素电极和公共电极。其中,栅极可以与栅线23可以同层设置,该栅极的材质也可以与栅线23的材质相同。源漏极图案、数据线03和控制线04可以同层设置,公共电极可以通过钝化层上的过孔G与控制线04连接。示例的,该源漏极图案可以包括源极图案和漏极图案,源漏极图案的材质可以为金属,也可以为非金属,本发明实施例对此不作限定。
图6为相关技术提供的一种应用将触摸屏嵌入到显示屏的彩色滤光片基板和偏光片之间(简称:on-cell)技术的阵列基板的结构示意图,图7为相关技术提供的一种应用in-cell技术的阵列基板的结构示意图,如图6所示,应用on-cell技术的阵列基板中,任意两个相邻的像素单元之间设置有一条金属线,且该金属线为数据线31,此时,该阵列基板A-A’处的宽度较窄,该阵列基板的开口率为68.2%,阵列基板的开口率较大。如图7所示,应用in-cell技术的阵列基板中,任意两个相邻像素单元之间设置有两条金属线,分别为数据线31和触控感应线32,此时,该阵列基板A-A’处的宽度较宽,该阵列基板的开口率为55.2%,阵列基板的开口率较小。而本发明实施例中,由于省去了阵列基板上的部分数据线,并将阵列基板上对开口率有影响的触控感应线(也即控制线)放置在原先放置数据线的位置,从而防止了由于触控感应线的存在,而导致的阵列基板开口率的减小。
进一步的,在控制本发明实施例提供的阵列基板时,可以通过控制该控制单元在触控感应时间段通过控制线向公共电极施加触控电压,使得该阵列基板上的公共电极能够作为“触控电极”,并通过控制线采集公共电极上的感应电压,实现显示面板的触控功能。可选的,还可以通过控制该控制单元在显示控制时间段通过控制线向公共电极施加公共电压,使得该阵列基板上的公共电极作为“公共电极”,液晶在公共电极和像素电极上电压的作用下进行偏转,实现显示面板的显示功能。
综上所述,由于本发明实施例提供的阵列基板中,公共电极包括多个像素单元组中的公共电极(也即多个公共电极块),且控制单元能够通过控制线将公共电极分时复用为“公共电极”和“触控电极”,通过阵列基板上的公共电极同时能够实现触控和显示的功能。又由于该阵列基板为双栅结构的阵列基板,能够省去阵列基板上的部分数据线,并将阵列基板上对开口率有影响的触控感应线(也即控制线)放置在原先放置数据线的位置,从而防止了由于触控感应线的存在,而导致的阵列基板开口率的减小。
本发明实施例提供了一种阵列基板的制造方法,该阵列基基板的制造方法可以包括:
在衬底基板上形成多个栅线组、多个数据线、多个控制线和多个阵列排布的像素单元。
其中,每个栅线组包括两条栅线,多个栅线组中的任意两条栅线平行;数据线与栅线交叉围成多个显示区域,每个显示区域内存在两个沿栅线的延伸方向排布的像素单元;控制线平行于数据线,且每条控制线与相邻的一条数据线之间存在一列像素单元;
多个阵列排布的像素单元构成多个像素单元组,每个像素单元组中的所有像素单元的公共电极相连接,且通过一条控制线连接至控制单元,任意两个像素单元组中的公共电极所连接的控制线不同。
综上所述,由于本发明实施例提供的阵列基板的制造方法所制造的阵列基板中,公共电极包括多个像素单元组中的公共电极(也即多个公共电极块),且控制单元能够通过控制线将公共电极分时复用为“公共电极”和“触控电极”,通过阵列基板上的公共电极同时能够实现触控和显示的功能。又由于该阵列基板为双栅结构的阵列基板,能够省去阵列基板上的部分数据线,并将阵列基板上对开口率有影响的触控感应线(也即控制线)放置在原先放置数据线的位置,从而防止了由于触控感应线的存在,而导致的阵列基板开口率的减小。
可选的,控制线与数据线可以同层形成。
具体的,该阵列基板可以为ADS型阵列基板,在制造该阵列基板时,首先,可以在衬底基板上形成第一图案,该第一图案包括栅极和栅线;在形成有第一图案的衬底基板上形成栅极绝缘层;在形成有栅极绝缘层的衬底基板上形成第二图案,该第二图案可以包括源漏极图案、数据线和控制线;在形成有第二图案的衬底基板上形成像素电极;在形成有像素电极的衬底基板上形成钝化层;在钝化层上形成过孔;最后,在形成有钝化层的衬底基板上形成公共电极。其中,衬底基板上共形成有多个像素单元组,每个像素单元组中的公共电极连接在一起,且每个像素单元组中的公共电极通过钝化层中的过孔与控制线相连接,该多个像素单元组中的任意两个公共电极所连接的控制线不同。
可选的,该阵列基板还可以为IPS型阵列基板,在制造该阵列基板时,首先,可以在衬底基板上形成第一图案,该第一图案包括栅极和栅线;在形成有第一图案的衬底基板上形成栅极绝缘层;在形成有栅极绝缘层的衬底基板上形成第二图案,该第二图案可以包括源漏极图案、数据线和控制线;在形成有第二图案的衬底基板上形成钝化层,并在钝化层上形成过孔。最后,在形成有钝化层的衬底基板上形成电极层,该电极层可以包括像素电极和公共电极。其中,衬底基板上共形成有多个像素单元组,每个像素单元组中的公共电极连接在一起,且每个像素单元组中的公共电极通过钝化层中的过孔与控制线相连接,该多个像素单元组中的任意两个公共电极所连接的控制线不同。
需要说明的是,在衬底基板上形成膜层时,可以采用涂覆、磁控溅射、热蒸发或者等离子体增强化学气相沉积法(英文:Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition;简称:PECVD)等方法在衬底基板上形成膜层。
在衬底基板上形成图案时,可以首先在衬底基板上形成膜层,并采用一次构图工艺对形成的膜层进行处理得到图案。示例的,该一次构图工艺可以包括:光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离,因此,采用一次构图工艺对对形成的膜层进行处理包括:在对形成的膜层上涂覆一层光刻胶,然后采用掩膜版对光刻胶进行曝光,使光刻胶形成完全曝光区和非曝光区,之后采用显影工艺进行处理,使完全曝光区的光刻胶被去除,非曝光区的光刻胶保留,之后对完全曝光区在金属材质层上的对应区域进行刻蚀,刻蚀完毕后剥离非曝光区的光刻胶即可得到图案。
综上所述,由于本发明实施例提供的阵列基板的制造方法所制造的阵列基板中,公共电极包括多个像素单元组中的公共电极(也即多个公共电极块),且控制单元能够通过控制线将公共电极分时复用为“公共电极”和“触控电极”,通过阵列基板上的公共电极同时能够实现触控和显示的功能。又由于该阵列基板为双栅结构的阵列基板,能够省去阵列基板上的部分数据线,并将阵列基板上对开口率有影响的触控感应线(也即控制线)放置在原先放置数据线的位置,从而防止了由于触控感应线的存在,而导致的阵列基板开口率的减小。
本发明实施例提供了一种显示面板,该显示面板可以包括如图1所示的阵列基板。
进一步的,该显示面板还可以包括与该阵列基板相对设置的彩膜基板,以及设置在阵列基板与彩膜基板之间的液晶。
该显示面板所在的显示装置可以为:电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
综上所述,由于本发明实施例提供的显示面板中的阵列基板中,公共电极包括多个像素单元组中的公共电极(也即多个公共电极块),且控制单元能够通过控制线将公共电极分时复用为“公共电极”和“触控电极”,通过阵列基板上的公共电极同时能够实现触控和显示的功能。又由于该阵列基板为双栅结构的阵列基板,能够省去阵列基板上的部分数据线,并将阵列基板上对开口率有影响的触控感应线(也即控制线)放置在原先放置数据线的位置,从而防止了由于触控感应线的存在,而导致的阵列基板开口率的减小。
本发明实施例提供的阵列基板实施例、阵列基板的制造方法实施例以及显示面板实施例均可以互相参考,本发明实施例在此不做赘述。
以上所述仅为本申请的可选实施例,并不用以限制本申请,凡在本申请的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括:
衬底基板;
所述衬底基板上设置有多个栅线组、多个数据线、多个控制线和多个阵列排布的像素单元;
其中,每个所述栅线组包括两条栅线,所述多个栅线组中的任意两条栅线平行;数据线与栅线组交叉围成多个显示区域,每个所述显示区域内存在两个沿栅线的延伸方向排布的像素单元;所述控制线平行于所述数据线,且每条所述控制线与相邻的一条数据线之间存在一列像素单元;
所述多个阵列排布的像素单元构成多个像素单元组,每个所述像素单元组中的所有像素单元的公共电极相连接,且通过一条控制线连接至控制单元,任意两个所述像素单元组中的公共电极所连接的控制线不同,所述控制单元用于在触控感应时间段通过控制线向公共电极施加触控电压,以及在显示控制时间段通过控制线向公共电极施加公共电压。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,
所述控制线与所述数据线同层设置。
3.根据权利要求1或2所述的阵列基板,其特征在于,每个所述像素单元包括:
设置在衬底基板上的栅极;
设置有所述栅极的衬底基板上设置有栅极绝缘层;
设置有所述栅极绝缘层的衬底基板上设置有源漏极图案;
设置有所述源漏极图案的衬底基板上设置有像素电极;
设置有所述像素电极的衬底基板上设置有钝化层;
设置有所述钝化层的衬底基板上设置有公共电极;
其中,所述栅极与所述栅线同层设置,所述源漏极图案、所述数据线和所述控制线同层设置,公共电极通过钝化层上的过孔与控制线连接。
4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,
每个所述显示区域由第一数据线、第二数据线、第一栅线和第二栅线围成,每个所述显示区域内存在第一像素单元和第二像素单元;
所述第一像素单元靠近所述第一数据线设置,所述第二像素单元靠近所述第二数据线设置,所述第一像素单元的栅极靠近所述第二栅线设置,所述第二像素单元的栅极靠近所述第一栅线设置;
所述第一像素单元的源极与所述第一数据线相连接,所述第二像素单元的源极与所述第二数据线相连接,所述第一像素单元的栅极与所述第二栅线相连接,所述第二像素单元的栅极与所述第一栅线相连接。
5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,
每个所述像素单元组中的所有公共电极构成公共电极组,所述阵列基板中的任意两个相邻的公共电极组的间距为d,4微米≤d≤10微米。
6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,
所述多个栅线组、所述多个数据线和所述多个控制线交叉围成多个子区域,每个所述子区域内设置一个所述像素单元。
7.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,
所述数据线与所述控制线均垂直于所述栅线。
8.一种阵列基板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:
在衬底基板上形成多个栅线组、多个数据线、多个控制线和多个阵列排布的像素单元;
其中,每个所述栅线组包括两条栅线,所述多个栅线组中的任意两条栅线平行;数据线与栅线交叉围成多个显示区域,每个所述显示区域内存在两个沿栅线的延伸方向排布的像素单元;所述控制线平行于所述数据线,且每条所述控制线与相邻的一条数据线之间存在一列像素单元;
所述多个阵列排布的像素单元构成多个像素单元组,每个所述像素单元组中的所有像素单元的公共电极相连接,且通过一条控制线连接至控制单元,任意两个所述像素单元组中的公共电极所连接的控制线不同。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,
所述控制线与所述数据线同层形成。
10.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括如权利要求1至7任一所述的阵列基板。
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