CN106773553A - 承载装置和曝光设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种承载装置，包括承载台，所述承载台上设置有贯穿该承载台的升降通道，所述升降通道内设置有升降结构，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间存在间隔，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间还设置有光反射补偿块，所述光反射补偿块的顶面与所述承载台的承载面的光反射率之差、所述光反射补偿块的顶面与所述升降结构的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值。相应地，本发明还提供一种曝光设备。本发明能够使得基板上不同位置的光刻胶曝光程度更加均匀。

Description

承载装置和曝光设备
技术领域
本发明涉及显示装置的生产领域，具体涉及一种承载装置和曝光设备。
背景技术
图1是现有曝光设备中的承载装置的结构示意图，其包括承载台10和升降结构20(例如升降杆或升降针)。曝光过程中，升降结构20下降，基板放置在承载台10上；曝光结束后，升降结构20上升以将基板顶起，从而便于将基板取走。
目前的承载装置中，升降结构20与承载台10之间有一定的缝隙，导致缝隙区域与承载台10表面的反射率不一致，因此，在曝光工艺中，基板不同位置的光刻胶曝光率不均一，从而容易导致产品不良。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种承载装置和曝光设备，以改善基板上不同位置的光刻胶曝光程度不一致的问题。
为了实现上述目的，本发明提供一种承载装置，包括承载台，所述承载台上设置有贯穿该承载台的升降通道，所述升降通道内设置有升降结构，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间存在间隔，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间还设置有光反射补偿块，所述光反射补偿块的顶面与所述承载台的承载面的光反射率之差、所述光反射补偿块的顶面与所述升降结构的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值。
优选地，所述光反射补偿块在水平面上的正投影与所述升降结构在水平面上的正投影的总投影完全覆盖所述升降通道在所述水平面上的正投影。
优选地，所述升降结构顶面的光反射率与所述承载台的承载面的光反射率相等，所述预定阈值为零。
优选地，所述光反射补偿块包括安装本体和设置在该安装本体顶面的反射层，所述反射层的上表面形成为所述光反射补偿块的顶面。
优选地，所述升降结构包括升降部和设置在该升降部顶端的支撑部，所述支撑部为板状结构。
优选地，所述光反射补偿块设置在所述升降通道内壁的顶端处；或者，所述光反射补偿块设置在所述支撑部的侧面；或者，所述光反射补偿块的一部分设置在所述升降通道内壁的顶端、另一部分设置在所述支撑部的侧面；
当所述支撑部的顶面与所述承载台的承载面平齐时，所述支撑部的顶面、所述光反射补偿块的顶面和所述承载台的承载面形成连续的平面。
优选地，所述安装本体包括设置在所述升降通道内壁上的外环体和设置在所述支撑部上、并环绕该支撑部的内环体。
优选地，所述外环体包括与升降通道内壁接触的外表面和背离所述升降通道内壁的内表面，所述内环体包括朝向所述支撑部的内表面和背离所述支撑部的外表面；
沿从所述升降结构的顶端至底端方向，所述内环体的外表面逐渐靠近或阶段式靠近所述支撑部，所述外环体的内表面与所述内环体的外表面相匹配，以使得所述支撑部的顶面与所述承载台的承载面平齐时，所述内环体的外表面与所述外环体的内表面贴合。
优选地，所述光反射补偿块设置在所述升降通道的内壁上，且所述光反射补偿块的位置满足：当所述升降结构的顶部与所述承载台的承载面平齐时，所述光反射补偿块的顶面低于所述支撑部的底面。
优选地，所述安装本体采用柔性材料制成。
相应地，本发明还提供一种曝光设备，包括本发明提供的上述承载装置。
在本发明中，由于升降结构与升降通道的内壁之间的间隔内设置有光反射补偿块，光反射补偿块的顶面与承载台的承载面的光反射率之差、光反射补偿块的顶面与升降结构的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值，因此，当基板放置在承载台上、入射光从上方照射基板以对基板上的光刻胶进行曝光时，基板下方的承载台、光反射补偿块和升降结构向基板反射的反射光量基本相同，从而使得基板上的光刻胶不同位置的曝光程度比现有技术更加均匀，进而改善基板上形成的器件质量，提高产品良率。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1是现有曝光设备中的承载装置的结构示意图；
图2是本发明实施例中提供的承载装置的第一种结构示意图；
图3是第一种结构的承载装置的升降结构升高时的示意图；
图4为升降通道横截面为圆形时承载装置的俯视图；
图5是图4中的I区放大示意图；
图6为升降通道横截面为条形时承载装置的俯视图；
图7是图6中的M区放大示意图；
图8是本发明实施例中提供的承载装置的第二种结构示意图；
图9是本发明实施例中升降结构的其中一种升降方式示意图。
其中，附图标记为：
10、承载台；11、升降通道；20、升降结构；21、升降部；22、支撑部；30、光反射补偿块；31、外环体；32、内环体。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
作为本发明的一方面，提供一种承载装置，图2和图8分别为所述承载装置的两种结构示意图。如图2和图8所示，所述承载装置包括承载台10，承载台10上设置有贯穿该承载台10的升降通道11，升降通道11内设置有升降结构20，升降结构20与升降通道11的内壁之间存在间隔。升降结构20和升降通道11的内壁之间还设置有光反射补偿块30，光反射补偿块30的顶面与承载台10的承载面的光反射率之差、光反射补偿块30的顶面与升降结构20的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值。
其中，所述预定阈值可以设置为较小的值，以使得光反射补偿块30的顶面与承载台10的承载面的光反射率基本相同，所述光反射补偿块30的顶面与升降结构20的顶面的光反射率基本相同。例如，当承载台10的承载面的光反射率为7％，升降结构20顶面的反射率为5％时，可以将预定阈值设置为2％，即，反射率补偿块30的顶面的光发射率在5％～7％之间。
在本发明中，由于升降结构20与升降通道11的内壁之间的间隔内设置有光反射补偿块30，光反射补偿块30的顶面与承载台10的承载面的光反射率之差、光反射补偿块30的顶面与升降结构20的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值，因此，当基板放置在承载台10上、入射光从上方照射基板以对基板上的光刻胶进行曝光时，基板下方的承载台10、光反射补偿块30和升降结构20向基板反射的反射光量基本相同，从而使得基板上的光刻胶不同位置的曝光程度比现有技术更加均匀，进而改善基板上形成的器件质量，提高产品良率。
需要说明的是，升降结构20的顶面为：当入射光自上方垂直于基板照射升降结构20时，升降结构20能够接收到入射光的面，该面可以为平行于承载台10承载面的水平面，也可以为斜面、弧面等非水平面。
优选地，光反射补偿块30在水平面上的正投影与和升降结构20在水平面上的正投影的总投影完全覆盖升降通道11在所述水平面上的正投影，从而基板下方的任意位置均可以对光线进行反射，即，基板的任意位置均可以接收到反射光。
进一步优选地，升降结构20顶面的光反射率与承载台10的承载面的光反射率相等，所述预定阈值为零。即，升降结构20的顶面、承载台30的承载面和光反射补偿块30的顶面的光反射率相等，从而使得基板上接收到反射光量处处相等，不同位置光刻胶的曝光程度更加均匀。
下面结合图2至图8对光反射补偿块和升降结构进行具体介绍。
结合图2、图3和图8所示，升降结构20包括升降部21和设置在该升降部21顶端的支撑部22，支撑部22为板状结构，以增大与基板接触面积，从而在升高时能够对基板进行稳定的支撑。本发明中的升降通道11的横截面可以为圆形，相应地，支撑部22为圆形的板状结构，如图4和图5中所示；升降通道11的横截面也可以为长条形，相应地，支撑部22为长条形的板状结构，如图6和图7中所示。
其中，升降部21可以为杆状，升降部21与支撑部22可以固定连接，升降部21采用直上直下的方式升降；或者，升降部21的底端铰接在基座或承载台的升降通道内壁上，顶端与支撑部22铰接，如图9所示，升降部21沿图中箭头方向转动，从而使得支撑部22升降。
光反射补偿块30包括安装本体和设置在该安装本体顶面的反射层，所述反射层的上表面形成为所述光反射补偿块的顶面。需要说明的是，本发明中的“上”、“顶”均是图2中的上方。
其中，安装本体采用诸如橡胶等耐磨的柔性材料制成，以延长使用寿命，且防止光反射补偿块30与基板接触时对基板造成损伤。反射层可以通过涂覆的方式形成在安装本体上。当然，光反射补偿块30也可以为一体式结构。
其中，光反射补偿块30可以设置在升降通道11内壁的顶端处；或者，光反射补偿块30也可以设置在支撑部22的侧面；再或者，光反射补偿块30的一部分设置在升降通道11内壁的顶端、另一部分设置在支撑部22的侧面，如图2和图3中所示。并且，光反射补偿块30的设置位置满足：当支撑部22的顶面与承载台10的承载面平齐时，支撑部22的顶面、光反射补偿块30的顶面和承载台10的承载面形成连续的平面，如图2所示，从而使得基板可以放置在平整的平面上，尤其是对于大尺寸的基板而言，可以减少基板的形变量；并且，光反射补偿块30处的反射光到达基板的光程、支撑部22顶面的反射光到达基板的光程、承载台10的承载面的反射光到达基板的光程相同，进一步保证了基板上不同位置的光刻胶接收到光线量的均一性。
在本发明中，光反射补偿块30的第一种具体设置方式如图2和图3中所示，其一部分设置在升降通道11的内壁上、另一部分设置在支撑部22上，具体地，光反射补偿块30的安装本体包括设置在升降通道11内壁上的外环体31和设置在支撑部22上、并环绕该支撑部22的内环体32，外环体31包括与升降通道11内壁接触的外表面和背离升降通道11内壁的内表面，内环体32包括朝向支撑部22的内表面和背离支撑部22的外表面；其中，沿从升降结构20的顶端至底端方向，内环体32的外表面逐渐靠近或阶段式靠近支撑部22，外环体31的内表面与内环体32的外表面相匹配，以使得支撑部22的顶面与承载台10的承载面平齐时，内环体32的外表面与外环体31的内表面贴合，从而保证内环体32和外环体31的设置不影响升降结构20的上升，且升降结构20下降以将基板置于承载台10上时，升降结构20与承载台10之间的相对位置保持稳定。本发明中内环体32和外环体31的形状如图2和图3所示，内环体32的纵截面为三角形，外环体31的纵截面为梯形，梯形的上底尺寸小于下底尺寸，这种情况下，内环体32的顶面和外环体31的顶面共同形成光补偿块的顶面。当然，也可以将安装本体分为上环体和下环体。
应当理解的是，内环体32和外环体31的具体形状根据支撑部22和升降通道11的结构而定，可以为圆形环体，也可以为矩形环体。
光反射补偿块30的第二种具体设置方式可以如图8所示，光反射补偿块30设置在升降通道11的内壁上，且光反射补偿块30的位置满足：当升降结构20的顶部与承载台10的承载面平齐时，光反射补偿块30的顶面低于支撑部22的底面。由于升降部21的横向尺寸较小，因此，将光反射补偿块30的顶面低于支撑部22的底面时，安装光反射补偿块30时的安装空间更大，既可以使得光反射补偿块30在水平面上的投影与支撑部22在水平面上的投影接触无重叠，也可以使得二者在水平面上的投影有一定重叠，从而降低工艺难度。
作为本发明的另一方面，提供一种曝光设备，包括本发明提供的上述承载装置。所述曝光设备还可以包括用于朝向承载装置发射光线，以对承载装置上的基板上的光刻胶进行曝光。由于承载装置上不同承载位置的光反射率基本一致，因此，利用所述曝光设备进行曝光时，基板上各个位置的光刻胶的曝光程度基本一致，从而改善了产品的质量。
以上为对本发明提供的承载装置和曝光设备的描述，可以看出，由于承载装置的承载台与升降结构之间的间隔内设置有光反射补偿块，而光反射补偿块的顶面与所述承载台的承载面的光反射率基本相同，所述光反射补偿块的顶面与所述升降结构的顶面的光反射率基本相同，因此，当基板放置在承载台上、入射光从上方照射基板以对基板上的光刻胶进行曝光时，基板下方的承载台、光反射补偿块和升降结构向基板反射的反射光量基本相同，从而使得基板上的光刻胶不同位置的曝光程度比现有技术更加均匀，进而改善产品质量。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (11)

1.一种承载装置，包括承载台，所述承载台上设置有贯穿该承载台的升降通道，所述升降通道内设置有升降结构，所述升降结构与所述升降通道的内壁之间存在间隔，其特征在于，
所述升降结构与所述升降通道的内壁之间还设置有光反射补偿块，所述光反射补偿块的顶面与所述承载台的承载面的光反射率之差、所述光反射补偿块的顶面与所述升降结构的顶面的光反射率之差均不大于预定阈值。
2.根据权利要求1所述的承载装置，其特征在于，所述光反射补偿块在水平面上的正投影与所述升降结构在水平面上的正投影的总投影完全覆盖所述升降通道在所述水平面上的正投影。
3.根据权利要求1所述的承载装置，其特征在于，所述升降结构顶面的光反射率与所述承载台的承载面的光反射率相等，所述预定阈值为零。
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的承载装置，其特征在于，所述光反射补偿块包括安装本体和设置在该安装本体顶面的反射层，所述反射层的上表面形成为所述光反射补偿块的顶面。
5.根据权利要求4所述的承载装置，其特征在于，所述升降结构包括升降部和设置在该升降部顶端的支撑部，所述支撑部为板状结构。
6.根据权利要求5所述的承载装置，其特征在于，所述光反射补偿块设置在所述升降通道内壁的顶端处；或者，所述光反射补偿块设置在所述支撑部的侧面；或者，所述光反射补偿块的一部分设置在所述升降通道内壁的顶端、另一部分设置在所述支撑部的侧面；
当所述支撑部的顶面与所述承载台的承载面平齐时，所述支撑部的顶面、所述光反射补偿块的顶面和所述承载台的承载面形成连续的平面。
7.根据权利要求6所述的承载装置，其特征在于，所述安装本体包括设置在所述升降通道内壁上的外环体和设置在所述支撑部上、并环绕该支撑部的内环体。
8.根据权利要求7所述的承载装置，其特征在于，所述外环体包括与升降通道内壁接触的外表面和背离所述升降通道内壁的内表面，所述内环体包括朝向所述支撑部的内表面和背离所述支撑部的外表面；
沿从所述升降结构的顶端至底端方向，所述内环体的外表面逐渐靠近或阶段式靠近所述支撑部，所述外环体的内表面与所述内环体的外表面相匹配，以使得所述支撑部的顶面与所述承载台的承载面平齐时，所述内环体的外表面与所述外环体的内表面贴合。
9.根据权利要求5所述的承载装置，其特征在于，所述光反射补偿块设置在所述升降通道的内壁上，且所述光反射补偿块的位置满足：当所述升降结构的顶部与所述承载台的承载面平齐时，所述光反射补偿块的顶面低于所述支撑部的底面。
10.根据权利要求4所述的承载装置，其特征在于，所述安装本体采用柔性材料制成。
11.一种曝光设备，其特征在于，包括权利要求1至10中任意一项所述的承载装置。
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